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公开(公告)号：CN113917761B
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202111114356.4
申请日：2021-09-23
Abstract: 本发明公开了一种基于角度无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括反射镜、中空回射器、纳米位移台、三角棱镜、声光偏转器、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明利用了基于声光偏转器的非机械式的控制方法替代以往系统中机械控制方式，避免惯性误差的影响，减小环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率(可以达到1MHz以上)的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN117310850A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311223277.6
申请日：2023-09-21
Applicant: 之江实验室
IPC: G02B3/00
Abstract: 本申请涉及一种灰度刻写方法、装置、计算机设备以及存储介质。根据激光光源射出的激光光束确定光栅光阀的入射光斑；通过所述光栅光阀的子单元对所述入射光斑进行相位调制，确定子单元的一级衍射光场；根据所述子单元的一级衍射光场确定刻写线光场；通过道威棱镜带动所述刻写线光场旋转，确定旋转光场；根据微透镜的曲面结构，确定所述刻写线光场的目标光强分布梯度；根据所述旋转光场、所述刻写线光场和所述目标光强分布梯度对微透镜进行灰度刻写。上述方法能够提高微透镜的加工效率，同时提高微透镜的光洁度。
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公开(公告)号：CN117055302A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311111879.2
申请日：2023-08-31
Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置及激光直写方法，包括线光输出单元、第一反射镜、转动单元和调制面，所述线光输出单元对所述第一反射镜入射线形光，所述第一反射镜将线形光反射至所述调制面上，所述第一反射镜通过所述转动单元相对所述线光输出单元和所述调制面转动设置。本发明采用线形光对光刻胶进行直写，仅需要第一反射镜依靠转动单元在单个平面内转动即可，既不需要平移，也不需要在其他平面内转动，第一反射镜所需活动自由度明显下降，对应的线形光在调制面上仅需要在一个维度上进行移动扫描即可，降低了直写过程所需自由度，简化了直写过程，直写效率较高。同时扫描过程的简化也使激光直写装置获得了简化，有利于整个激光直写装置的小型化。
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公开(公告)号：CN117055297A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202310820298.X
申请日：2023-07-05
Abstract: 本发明公开了一种基于光学/化学三维暗斑的超分辨激光直写方法和装置。本发明使用三束激光，分别以实心斑和空心斑聚焦照射光刻胶，三束光在三维空间中心对准，利用光引发剂的STED特性以及抑制剂对自由基扩散的限制，从而在光刻胶中获得最小达到亚50nm线宽，最小周期可到亚100nm。相比于已有的技术，本发明通过抑制边缘聚合，抑制剂阻止自由基扩散，进一步减小线宽，提高刻写精度、分辨率，本发明有望在传感器件、超材料、掩膜版制备等方面获得应用。
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公开(公告)号：CN116503246B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202310305965.0
申请日：2023-03-27
IPC: G06T3/40 , G06N3/0455 , G06N3/08
Abstract: 基于深度学习的视频级实时结构光照明超分辨显微成像方法，包括以下步骤：训练数据集的获取和处理，轻量化神经网络的搭建、训练和调整，模型整合，视频级实时SIM超分辨重构。本发明还包括基于深度学习的视频级实时结构光照明超分辨显微成像系统。本发明可实现视频级实时SIM超分辨显微重构，网络结构轻量化，硬件要求低，可在低信噪比实验条件下对待测样品进行视频级实时超分辨SIM重构观测，从而帮助用户更加友好、更加灵活地选择拍摄目标，获取更丰富更有价值的实验数据。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117031891A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311112422.3
申请日：2023-08-31
Abstract: 本发明涉及一种激光直写系统及激光直写方法，包括激发光源、抑制光源、微镜阵列和位移台，所述微镜阵列包括阵列排布的至少两个微镜，所述微镜具有第一角度状态和第二角度状态；所述激发光源通过处于第一角度状态的所述微镜照射至所述位移台处，以形成刻写图案，所述抑制光源通过处于第二角度状态的所述微镜照射至所述位移台处，以形成抑制光斑，所述抑制光斑位于所述刻写图案的边界处。
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公开(公告)号：CN116974155A
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202310982115.4
申请日：2023-08-07
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及双光子刻写功率补偿模板构建方法及刻写功率调节方法，包括：在标准直写视场内将设定功率为P0的激光照射至光刻胶上产生艾里斑，获取艾里斑长度l，以确定标准直写视场中光刻胶的刻蚀深度b0；基于b0确定标准直写视场中对应光刻胶的刻蚀体积V0；获取标准直写视场中刻蚀体积为V0的光刻胶发出的标准荧光强度F0；基于F0＝ΩV0确定Ω，Ω为单位体积光刻胶发出的荧光强度；对样本直写视场进行分割，以获得至少两个样本视场分区，获取第n个样本视场分区的面积Sn、激光设定功率Pn以及实际荧光强度为Fn'；基于Ω、Sn以及Fn'确定第n个样本视场分区的实际刻写功率Pn'；基于Pn'和Pn确定第n个样本视场分区的补偿系数Ψn；基于所有样本视场分区的补偿系数构件刻写功率补偿模板。
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公开(公告)号：CN116859570A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310779338.0
申请日：2023-06-29
Applicant: 之江实验室
Abstract: 一种应用于非荧光多颗粒分辨的显微成像系统及方法，包括光源模块、偏振调制模块、照明模块、成像模块、图像处理模块与位移调控模块，所述光源模块发射端设置有偏振调制模块，所述偏振调制模块发射端设置有照明模块，所述照明模块发射端设置有高倍物镜与样品台，所述成像模块入射端设置有样品台，所述图像处理模块与成像模块连接，所述位移调控模块与样品台连接。本发明利用干涉散射成像的偏振选择原理，通过照明光偏振态调控系统点扩散函数，实现对多颗粒的有效区分，提高成像系统对多个相近颗粒的分辨能力。
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公开(公告)号：CN116754066A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310425344.6
申请日：2023-04-18
Abstract: 本申请提供一种分光检测系统和光束指向检测与稳定系统。分光检测系统用于检测光束指向控制组件出射的光束的性质，包括分光检测组件和控制器。分光检测组件包括分光组件和检测组件，分光组件用于反射和透射光束，检测组件用于接收光束反射形成的反射光束，检测反射光束的性质。控制器连接于检测组件和光束指向控制组件之间，控制器用于根据反射光束的性质，确定光束调整量，控制光束指向控制组件根据光束调整量调制光源发出的光束。本申请提供的分光检测系统通过设置控制器根据检测组件检测得到的光束性质，控制光束指向控制组件调制光源发出的光束，降低光束在长距离传播的过程中的偏移和光学器件引入的指向误差，提高光束的稳定性。
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公开(公告)号：CN116736669A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310553207.0
申请日：2023-05-17
Applicant: 之江实验室
Abstract: 一种基于离轴全息的干涉散射成像方法及装置，通过调节光路中分光棱镜或反射镜或二维扫描振镜的位置与方向使得参考光即入射到样品面被盖玻片反射的光与物光即样品出散射的光产生夹角，形成离轴全息并进行全息图像的实时采集；根据采集到的图像对其进行频域滤波，消除载频后从复振幅中提取信息进行重构以获得振幅和相位分布，再对包裹相位进行展开得到连续的相位分布图。本发明通过干涉散射技术与数字全息技术相结合的方式，对采集的单颗粒样品图像进行频谱分离，实现对待测样品信号在同级背景下的实时恢复，同时可以获得丰富的样品相位信息，提升方法的多重信息获取能力。
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