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公开(公告)号：CN115786918A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211451885.8
申请日：2022-11-21
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明为一种铜碱性化学机械抛光液。该抛光液的质量百分组成为二乙醇胺0.05‑1％、磨料3‑6％、季铵化合物0.1‑2％、铜强刻蚀剂8‑13％，余量为去离子水；抛光液pH值为7.5‑10；所述的抛光液还包括质量百分比0.01‑0.5％的黄原胶。本发明可以提高含有季铵碱的碱性的铜抛光液的pH值稳定性，防止磨料分层、凝胶、颗粒直径长大，降低抛光缺陷。
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公开(公告)号：CN113969107A
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN202111211279.4
申请日：2021-10-18
Applicant: 江苏山水半导体科技有限公司 , 河北工业大学
Abstract: 本发明属于化学机械抛光领域，尤其涉及一种用于大尺寸硅边抛的化学机械抛光液及其制备方法和应用，所述抛光液包括如下重量份组分：硅溶胶650份；金属螯合剂2‑4份；钾盐速率促进剂5‑20份；碱性速率促进剂60‑90份；表面活性剂1‑10份；杀菌剂3‑5份％；pH调节剂5‑10份；去离子水213‑386份。本发明的抛光液通过加入钾离子可以有效提高大尺寸硅边缘的抛光速率、降低大尺寸硅边缘的表面粗糙度，能够满足微电子行业的精度要求。
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公开(公告)号：CN112322190A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011220168.5
申请日：2020-11-05
Applicant: 河北工业大学 , 天津晶岭微电子材料有限公司
IPC: C09G1/02 , H01L21/306
Abstract: 本发明公开了一种多层铜互连阻挡层抛光液及其制备方法，旨在提供一种能够延长抛光液的使用期限，有利于增强器件可靠性的多层铜互连阻挡层抛光液及其制备方法。按质量百分比计由下述组分组成：硅溶胶5‑20％，螯合剂0.1‑5％，杀菌剂0.15‑5％，表面活性剂0.001‑5％，pH值调节剂，去离子水余量；所述抛光液的pH值为7.5—11；所述杀菌剂为二价铜离子。本发明的抛光液通过各种组分的协同作用及合理配比，抛光效果好，稳定性强，能够满足微电子行业的需要。而且，本发明的抛光液呈碱性，pH为7.5‑11，不腐蚀设备，不污染环境。同时，原材料全部国产，生产成本低。
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公开(公告)号：CN110484388A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201910863463.3
申请日：2019-09-12
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明为一种适用于集成电路制程中低k介质材料清洗剂及其清洗方法。所述的组成包括复配活性剂、有机溶剂、pH调节剂和去离子水；所述的复配活性剂为椰子油二乙醇酰胺和十二烷基二甲基甜菜碱；体积比为椰子油二乙醇酰胺：十二烷基二甲基甜菜碱＝1：5～10；pH调节剂为乙二胺，羟乙基乙二胺或四甲基氢氧化铵；清洗剂的pH值为8-9.5；有机溶剂异丙醇或乙醇；清洗方法中，通过洗刷参数的设置，以及加热烘干、CVD处理步骤的增加，本发明可以对低k介质材料进行保护，改善刷子使用寿命，并能对低k材料结构破坏部分修复，实现k值的恢复。
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公开(公告)号：CN102830144B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201210308317.2
申请日：2012-08-28
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明公开了一种用于检测铜互联线是否产生碟形坑的电路版图结构。本发明所述版图结构包括一条折弯结构的铜线和一条设置梳齿的铜线，所述梳齿设置于所述折弯空隙间；折弯结构的铜线两端分别设置两个输入或输出端头，设置梳齿的铜线的两端分别设置输入或输出端头。采用本发明结构来测量，不受线条尺寸的影响，可以方便地对整个芯片进行测量，很好地验证芯片CMP的均匀性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104449404A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201410781702.8
申请日：2014-12-16
Applicant: 河北工业大学
IPC: C09G1/02 , H01L21/306
CPC classification number: C09G1/02 , H01L21/306
Abstract: 本发明涉及一种锗晶体化学机械抛光的抛光液及使用方法，包括粗抛液和精抛液，所述粗抛液按重量％计主要由下列原料组成：磨料粒径15-110nm、浓度≥40wt％、硬度≤7 Mohs的SiO2水溶胶磨料10-50％、氧化剂0.2-1.5％、pH调节剂0.5-2％、螯合剂0.2-1.5％、表面活性剂0.1-1％；精抛液主要有表面活性剂0.1-0.5％，余量为去离子水。选择两步抛光法进行化学机械抛光，第一步选用粗抛液，第二步选用精抛液，两步抛光在同一台抛光机上完成。有益效果：可以解决锗晶体材料化学机械抛光过程中速率低、粗糙度高、金属离子及颗粒沾污等问题。
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公开(公告)号：CN104449398A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201410682284.7
申请日：2014-11-25
Applicant: 河北工业大学
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种适用于钴阻挡层的碱性化学机械抛光液。本发明抛光液包括研磨颗粒、络合剂、氧化剂、表面活性剂、腐蚀抑制剂、抑菌剂和水；络合剂含量为重量百分比0.01～10％；研磨颗粒含量为重量百分比1～40％；所述的氧化剂为过氧化氢，含量为重量百分比0.1～10％；表面活性剂含量为重量百分比0.01～5％；腐蚀抑制剂含量为重量百分比0.1～5％；抑菌剂含量为重量百分比0.001～1％，用水补充含量至100％。此抛光液适用于钴阻挡层的抛光，抛光液呈碱性，解决了钴在含有氧化剂的酸性抛光液中易于溶解的问题，同时提高了钴的抛光速率，降低了表面粗糙度。
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公开(公告)号：CN1709521A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200510013810.1
申请日：2005-06-14
Applicant: 河北工业大学
IPC: A61L27/06
Abstract: 本发明有生物活性涂层的钛基生物医学材料及其制备方法涉及能移植到人体内的假体材料，是一种有在钛或钛合金表面原位自生钛酸钾晶须生物活性涂层的钛基生物医学材料。其基体材料为钛、Ti－Mo、Ti－Mo－Nb、Ti－Mo－Zr－Fe、Ti－Nb－Zr、或Ti－Al－Zr－Nb－Sn系钛合金，其表面钛酸钾晶须生物活性涂层呈波纹状，散布着大小不一粒子状物，表面粗糙，具有尺寸1～3μm气孔，厚度2～8μm；其制备方法：(1)钛或钛合金基体的制备与预处理，(2)原位KDC法在钛或钛合金基体上自生钛酸钾晶须生物活性涂层。该涂层有好的生物相容性和活性，与基体界面结合强度高，制备工艺及工序简单，对设备要求较低，对环境没有污染，制备周期短，易于批量生产。
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公开(公告)号：CN222812766U
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202421567018.5
申请日：2024-07-04
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本实用新型公开了一种作物叶部状态检测设备，包括U形支架、固定在U形支架底部的底座和传感器组件，所述U形支架通过升降机构连接有金属块，且金属块通过转动机构连接有安装框,所述安装框设有夹持机构，所述U形支架一侧顶部外壁固定有固定框，且固定框通过第一调节机构连接有滑动框，所述滑动框通过第二调节机构连接有滑块，且传感器组件固定在滑块的底部。本实用新型在使用时，将作物叶片放置在玻璃片上，通过旋转双向螺杆带动滑动板和玻璃板移动，可快速将作物叶片夹持住，避免在检测时移动，需要查看作物叶片背面时，通过第一伺服电机驱动传动杆转动，带动安装框旋转，方便转动查看作物叶片正面和背面，使得装置更加方便使用。
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公开(公告)号：CN205233537U
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201520978429.8
申请日：2015-11-25
Applicant: 河北工业大学
IPC: A41D13/11
Abstract: 本实用新型涉及一种防雾霾过滤口罩，该口罩适用于雾霾天气佩戴。主要包括三部分组成：过滤部件、管道、呼吸部件。过滤部件中内置过滤网、螺旋风扇组件，通过螺旋风扇将空气吸入过滤部件，通过过滤网过滤后，将净化后的空气通过管道与呼吸部件连接，送到人体口鼻处。呼吸部件分为内外两层，内层上有均匀分布的出气口，外层由透气材料制成，两侧有与头部固定的绳、带或搭扣等。有效解决了普通人群的佩戴口罩憋闷感，以及戴眼镜人群戴口罩呼气使眼镜蒙白雾的问题。
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