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公开(公告)号:CN105102872A
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201480004462.9
申请日:2014-04-09
Applicant: 株式会社富士金
CPC classification number: G05D7/0635 , F16L55/02718
Abstract: 本发明涉及一种流量控制用孔板,如果为应对控制流量的增大而加大孔口的直径,就要防止临界膨胀条件成立时的孔口的上下游侧的压力比P2/P1变动,并防止流量控制范围变窄。本发明构成为:在流量控制用孔板(7a)上,将规定流量的流体的流通所需的一个孔口的开口面积加以分割,设置成具有与所述开口面积相等的总开口面积的多个孔口(12)。
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公开(公告)号:CN104822858A
公开(公告)日:2015-08-05
申请号:CN201380057690.8
申请日:2013-11-20
Applicant: 株式会社富士金
IPC: C23C16/448 , H01L21/31
CPC classification number: C23C16/4485 , C23C16/4481 , C23C16/4482 , C23C16/52 , F17C9/02 , F22B1/284 , F22B1/285
Abstract: 本发明涉及原料气化供给装置,无论是固体原料还是液体原料,都是使几乎全部原料气体不发生热分解地成为期望的高温、高蒸气压的原料气体,从而能够将高纯度且达到期望浓度的原料气体以高精度进行流量控制同时向处理腔稳定地供给。本发明的原料气化供给装置由原料收纳罐、对从液体收纳罐压送而来的液体进行气化的气化器、对来自气化器的原料气体的流量进行调整的流量控制装置、以及对气化器、高温型压力式流量控制装置及与气化器和高温型压力式流量控制装置连接的流路的期望部分进行加热的加热装置构成,至少针对所述原料收纳罐、气化器、流量控制装置、将所述各设备装置之间加以连结的流路以及介设于流路中的开闭阀中的任一个的金属表面的各液体接触部或气体接触部,实施了Al2O3钝化处理或Cr2O3钝化处理或FeF2钝化处理。
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公开(公告)号:CN102640070B
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN201080054335.1
申请日:2010-08-02
Applicant: 株式会社富士金
CPC classification number: G01F1/363 , G01F15/024 , G05D7/0635 , Y10T137/7737 , Y10T137/776 , Y10T137/7761
Abstract: 提供一种即使是温度为100℃~500℃的高温气体、也能够使用以往的温度检测器进行误差为1.0%F.S.以下的高精度的流量控制的高温气体用压力式流量控制装置。具有:阀身(VD),形成有流体通路(15、16);阀部(V),夹设在流体通路中;阀驱动部(PE、21),驱动阀部(V)将流体通路开闭;节流机构,设在流体通路的阀部的下游侧;温度检测器(TC),检测阀部与节流机构之间的气体温度;压力检测器(P),检测阀部与节流机构之间的气体压力;运算控制装置,基于温度检测器及压力检测器的各检测值运算在节流机构中流通的气体流量并且控制阀驱动部;将温度检测器(TC)插装到从上述阀身的上表面侧朝向其内方穿设在阀部与节流机构之间的出口侧流体通路的正上方的位置处的安装孔内。
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公开(公告)号:CN103718275A
公开(公告)日:2014-04-09
申请号:CN201280038133.7
申请日:2012-06-11
Applicant: 株式会社富士金
IPC: H01L21/205 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4485 , C23C16/4482
Abstract: 本发明通过能够将加热固体原料或液体原料而生成的原料蒸汽一边使用压力式流量控制装置进行流量控制一边向处理腔室稳定地供给,实现原料的气化供给装置的小型化和半导体产品的品质提高,并且能够容易地进行原料的剩余量管理。本发明的原料气化供给装置由以下部分构成:原料箱,储存原料;原料蒸汽供给路,从原料箱的内部空间部将原料蒸汽向处理腔室供给;压力式流量控制装置,夹设在该供给路中,控制向处理腔室供给的原料蒸汽流量;和恒温加热部,将上述原料箱、供给路和压力式流量控制装置加热到设定温度;将在原料箱的内部空间部中生成的原料蒸汽一边通过压力式流量控制装置进行流量控制一边向处理腔室供给。
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公开(公告)号:CN101983418A
公开(公告)日:2011-03-02
申请号:CN200980111910.4
申请日:2009-02-17
Applicant: 株式会社富士金
IPC: H01L21/31 , B01J4/00 , H01L21/205
CPC classification number: B01J4/02 , B01B1/005 , B01J2219/00162 , B01J2219/00164 , B01J2219/00191 , B01J2219/00198 , B01J2219/00213 , B01J2219/00231 , C23C16/4481 , C23C16/4485 , C23C16/45561 , F02D19/023 , F02D19/027 , F02M21/0239 , F02M21/06 , Y02T10/32 , Y10T137/6416 , Y10T137/6606
Abstract: 本发明提供具备气化器的气体供给装置,该气体供给装置由下列部件构成:液体收纳罐;使液体气化的气化器;对气化气体的流量进行调节的高温型压力式流量控制装置;以及加热装置,该加热装置对气化器、高温型压力式流量控制装置以及与气化器和高温型压力式流量控制装置连接的配管路径的期望部分进行加热,由此实现节能和小型化,并且不需要严格的气化器侧的温度控制,就能够稳定且简单地进行高精度的气体流量控制。
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