一种快恢复二极管及其制造方法

    公开(公告)号:CN103618006A

    公开(公告)日:2014-03-05

    申请号:CN201310525160.3

    申请日:2013-10-30

    摘要: 本发明涉及一种电力半导体器件及其制造方法,具体涉及一种快恢复二极管及其制造方法。本发明在有源区进行推结形成P+区和P区,推结形成过程包括,第一步进行硼注入,推结1-10um,第二步进行磷补偿注入,磷注入条件要求推结后只降低靠近硅表面处P区浓度但不足以使其反型,通过有源区补偿注入形成表面浓度低的P区,这样在保证PN结两侧浓度的情况下降低了正向导通时P区空穴注入量,在采用少子寿命控制时可不需要生成过多的复合中心,由此会带来一系列参数的优化。本发明提供的快恢复二极管及其制造方法,通过对P区进行磷补偿注入的方式实现P区表面浓度降低,从而实现正向导通时注入空穴数量的减少。