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公开(公告)号：CN112159962B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202010945223.0
申请日：2020-09-10
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种抗环境侵蚀极紫外多层膜表面保护层快速制备方法及应用，所述方法包括以下步骤：在基底上镀制极紫外多层膜；保持极紫外多层膜的真空环境不变，进行镁靶材和铝靶材的预溅射；将镀制有所述极紫外多层膜的基底重复交替运动到镁靶材和铝靶材的溅射区域，控制运动参数，完成镁膜层和铝膜层交替生长的铝/镁多层膜结构的镀制，形成铝镁混合保护层，所述铝/镁多层膜结构中，每层镁膜的厚度为1‑3纳米，每层铝膜的厚度为1‑3纳米；将镀制完成的基底取出真空腔，放置于大气环境中自发融合。与现有技术相比，本发明制备效率高，能大幅提高表面保护层的制作速度，保证极紫外多层膜的稳定性。
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公开(公告)号：CN109298474B
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN201811440099.1
申请日：2018-11-29
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/08
Abstract: 本发明涉及一种X射线宽光谱三层膜反射镜结构设计方法，所述三层膜反射镜结构包括自下而上依次设置的基板、高密度层、中间密度层和低密度层，所述设计方法包括：材料选择步骤：根据反射镜的使用环境和带有权重因子的入射光谱能量范围，确定高密度层、中间密度层和低密度层的材料；厚度设置步骤：根据X射线的掠入射角度，以目标能量光谱范围中积分反射率最高为优化目标建立评价函数，获得所述高密度层、中间密度层和低密度层的厚度。与现有技术相比，本发明所设计的反射镜结构简单，易于制备，可以实现较高的积分反射率面积，有效地增加望远镜的有效集光面积。
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公开(公告)号：CN106987817B
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201710247339.5
申请日：2017-04-17
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高线型磁控溅射靶枪在凹形柱面基底镀膜质量的方法，分别利用安装在靶枪前方的掩膜板和安装在样品架上位于样品两侧对称位置的分隔板，限制大尺寸线型磁控溅射靶枪在水平和竖直方向溅射粒子的发散角度，使得溅射粒子倾斜轰击基板的入射角度减小，减小倾斜轰击基板的溅射粒子对成膜质量的不利影响，提高凹形柱面基底的薄膜质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105700134B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201610216319.7
申请日：2016-04-08
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种X射线宽光谱多层膜闪耀光栅设计方法，该方法包括以下步骤：1)确定宽光谱多层膜闪耀光栅的非周期多层膜结构的材料和膜对数，建立评价函数，以多层膜膜厚度变化最小和效率曲线平坦为优化目标，获取非周期多层膜结构中每一膜层的厚度；2)根据目标光谱波长范围和步骤1)中获得的非周期多层膜结构，选取闪耀光栅最优结构参数，使得到的宽光谱多层膜闪耀光栅在目标光谱波长范围内不同波长位置的衍射效率都达到最大，接近多层膜反射率。与现有技术相比，本发明方法设计的多层膜闪耀光栅膜层厚度变化小，制备简单，在目标光谱范围内理论上可以实现最高衍射效率的平坦响应。
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公开(公告)号：CN105441892A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201511026931.X
申请日：2015-12-31
Applicant: 同济大学
CPC classification number: C23C14/3464 , C23C14/165 , C23C14/185 , C23C14/35 , G02B5/0875 , G02B5/0891
Abstract: 本发明涉及一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法，包括以下步骤：1)在镀膜溅射真空腔内的样品架上设置一基底，该基底的表面粗糙度为0.2纳米以下；2)在所述镀膜溅射真空腔内充入由高纯氩气和高纯氮气混合而成的混合工作气体；3)开启直流磁控溅射电源，执行钯靶材和钇靶材的预溅射；4)将设置有基底的样品架重复交替转到钯靶材和钇靶材上方的溅射区域，控制样品架的停留时间或运动速度，完成钯膜层和钇膜层交替的钯/钇多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比，本发明制备的钯/钇多层膜成膜质量和反射率都有明显提高，该方法工艺重复性好，可控性强，在高效率极紫外多层膜元件和相应光学系统领域有重要应用。
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公开(公告)号：CN103021496A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201110287085.2
申请日：2011-09-24
Applicant: 同济大学
IPC: G21K1/06
Abstract: 本发明涉及硬X射线微聚焦高级次多层膜Laue透镜，通过改变组成多层膜Laue透镜局部光栅的2种材料的厚度比(γ＝dA/(dA+dB)，A为吸收层，B为间隔层)，选择合适的截面深度t，极大的提高高级次衍射的效率，从而有效的利用高级次衍射光，进一步提高硬X射线的聚焦分辨率。与传统的多层膜Laue透镜相比，本发明提出利用Laue透镜的高级次衍射对硬X射线进行聚焦，并通过改变Laue透镜结构中不同材料的厚度比，克服了传统波带片高级次衍射效率低下的问题，是实现高效率纳米级硬X射线聚焦的有效方法。
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公开(公告)号：CN218333153U
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202221843317.8
申请日：2022-07-18
Applicant: 同济大学
Abstract: 本实用新型提供一种用于中子自旋翻转器的多层中子薄膜自旋翻转元件，包括双面抛光的超光滑硅片基底、多层铁硅合金薄膜层和多层铬薄膜层，多层铁硅合金薄膜层与多层铬薄膜层依次交替沉积于超光滑硅片基底表面，多层中子薄膜自旋翻转元件的顶层为铬薄膜层，本实用新型主要以铁硅合金薄膜层为主，采用铬薄膜层作为插层的方法提升薄膜的饱和磁感应强度，使薄膜的饱和磁感应强度超过了1T，铬薄膜层可以有效调控铁硅合金薄膜层的微观结构，促进合理晶面的生长，抑制不需要晶面的生长。
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公开(公告)号：CN207632878U
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201721383956.X
申请日：2017-10-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本实用新型涉及一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的装置，包括靶枪、掩膜版、样品架和电机，所述掩膜版设置于靶枪与样品架之间，且固定于所述靶枪上，所述样品架与靶枪间隔设置，所述电机与样品架连接，控制样品架围绕所述靶枪旋转，所述样品架设有多个，所述掩膜版遮盖所述靶枪的靶面，且使靶面在不同位置处具有不同宽度的未遮掩面。与现有技术相比，本实用新型能实现多个反射镜不同位置的厚度均匀性偏差在2％以内，保证膜厚均匀性的同时提高生产效率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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