一种双栅硅纳米线晶体管传感器及制作方法

    公开(公告)号:CN118191066A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202410605815.6

    申请日:2024-05-16

    Abstract: 本发明属于传感器技术领域,包括一种双栅硅纳米线晶体管传感器及制作方法,在SOI硅片上利用各向异性湿法腐蚀技术在顶硅层中制作出凹槽以及位于凹槽底部的硅纳米线结构,然后在硅纳米线上方制作正栅介质层及正栅电极,并通过刻蚀窗口连通至SOI硅片的底硅层制作出背栅电极,形成在凹槽底部的双栅硅纳米线晶体管传感器,当待测物质改变正栅介质层表面电势时,硅纳米线导电通道的电流会随之变化,实现待测物检测。本发明采用全集成双栅结构能够有效提升电流调控能力,提高器件的灵敏度和信噪比,且器件的主要工作结构位于凹槽底部,能有效降低传感器检测时的流速干扰,便于液体环境检测;且制作工艺兼容CMOS工艺,适合大规模、批量化生产。

    一种原位监测PCR反应过程的装置及方法

    公开(公告)号:CN115184438A

    公开(公告)日:2022-10-14

    申请号:CN202210990355.4

    申请日:2022-08-18

    Inventor: 李铁 魏擅红

    Abstract: 本发明涉及一种原位监测PCR反应过程的装置及方法,装置包括依次连通的进样池、蠕动泵、微反应管道、多个串联的微反应腔和废液池,所述微反应管道的下方设置有加热装置,每个微反应腔内设置有一测试传感器。本发明的原位监测PCR反应过程的装置及方法,通过测试传感器对扩增核酸浓度进行检测,并将扩增核酸浓度变化转化为显示装置上的电信号变化,从而实现核酸扩增过程的实时监测和定量检测,灵敏度与准确度高,可应用于现场检测并实时监测检测过程,大大提高检测效率。

    一种递进式双通道红外气体传感器

    公开(公告)号:CN115015152A

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202210760499.0

    申请日:2022-06-30

    Abstract: 本发明涉及一种递进式双通道红外气体传感器,包括从上至下依次层叠的反光罩、支撑板、基座和ASIC芯片;反光罩上设有反射腔和若干透气孔;支撑板上设有第一通孔和第二通孔,其内分别嵌设有第一滤光片和两第二滤光片;基座的顶面设有红外光源和两红外探测器,红外光源位于第一滤光片的正下方,两红外探测器分别位于两第二滤光片的正下方,两红外探测器相对于红外光源递进排布;红外光源和两红外探测器与ASIC芯片电连接。本发明的递进式双通道红外气体传感器,反光罩、支撑板、基座和ASIC芯片层叠设置,从而缩小体积;反射腔为折叠式反射结构,使光程增长;红外光源和两红外探测器分布在基座两端,可隔绝红外光源对热敏元件的影响。

    一种用于检测有机磷化合物的气体传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN112540105B

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202011442807.2

    申请日:2020-12-11

    Abstract: 本申请涉及气体传感器技术领域,本申请公开了一种用于检测有机磷化合物的气体传感器,其包括栅极绝缘结构、有机半导体层、源漏极和修饰层;该栅极绝缘结构的顶部设有该有机半导体层;该有机半导体层的顶部设有该源漏极和该修饰层;该源漏极的源极和漏极之间设有该修饰层,该修饰层的材料为杯芳烃,该修饰层用于调节该气体传感器的灵敏度和气体选择性。本申请提供的该气体传感器具有灵敏度高和对有机磷化合物选择性高的特点。

    一种硅纳米线FET传感器阻值的测量装置及方法

    公开(公告)号:CN113960144A

    公开(公告)日:2022-01-21

    申请号:CN202110985591.2

    申请日:2021-08-26

    Abstract: 本发明提供了一种硅纳米线FET传感器阻值的测量装置,包括:硅纳米线FET传感器,其上设有待测的目标物;电源装置,其正极和负极之间设有依次串联的限流电阻、硅纳米线FET传感器和负载电容,以对负载电容充放电;ASIC组件,其根据负载电容两端的电压大小将负载电容在充电和放电状态之间切换,根据电压大小输出高低电平,以产生方波信号,获取其频率,得到硅纳米线FET传感器的实时电阻值;和显示装置,设置为接收并显示硅纳米线FET传感器的实时电阻值的数据。本发明还提供了相应的方法。本发明的装置具有体积小、电路结构简单、高效、低成本、低功耗、低温漂、器件无损、检测范围大、自适应能力强和完全不存在失配问题的优点。

    一种悬空的黑介质薄膜及其制备方法以及应用

    公开(公告)号:CN110143567B

    公开(公告)日:2021-09-24

    申请号:CN201910412266.X

    申请日:2019-05-17

    Abstract: 本发明提供一种悬空的黑介质薄膜及其制备方法以及应用,包括:S1:提供一种半导体单晶衬底,在该衬底表面制备出薄膜掩膜,并刻蚀出窗口阵列,露出窗口阵列内的半导体单晶衬底表面;S2:采用湿法技术腐蚀该半导体单晶衬底表面,形成微纳金字塔结构;S3:移除薄膜掩膜,继而在半导体单晶衬底的表面制备出薄膜,在微纳金字塔结构表面制备出黑介质薄膜;S4:对薄膜进行图形化和薄膜刻蚀形成释放区域;以及S5:采用干法刻蚀技术或湿法腐蚀技术释放所述黑介质薄膜和支撑膜结构,即得。本发明采用微加工技术,以微纳金字塔结构为模,批量制备出悬空的黑介质薄膜,该薄膜在未来可广泛应用于增强光吸收辐射和减少热量损耗的光探测和光源等领域。

    一种场发射晶体管的制备方法、场发射晶体管及设备

    公开(公告)号:CN111725040B

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN201910769141.2

    申请日:2019-08-20

    Inventor: 刘梦 王跃林 李铁

    Abstract: 本发明涉及半导体器件领域,特别涉及一种场发射晶体管的制备方法、场发射晶体管及设备,包括:制备基础层;其中,所述基础层上设有栅极;在所述基础层上沉积导电层;在所述导电层的两端沉积源极和漏极;刻蚀所述导电层,得到发射尖端;其中,所述刻蚀采用的方法为聚焦离子束刻蚀。本申请所述的场发射晶体管的制备方法,可实现阵列式的发射尖端,有利于提高整体发射电流和电流稳定性。且经过聚焦离子束刻蚀可以形成更小的发射尖端,局部电场增强作用更好。

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