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公开(公告)号：CN107075677B
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201480083012.3
申请日：2014-10-29
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C16/455 , B01J4/00 , H01L21/31 , H05H1/24
CPC classification number: B01J4/002 , B01J4/00 , B01J4/008 , C23C14/228 , C23C16/455 , C23C16/45565 , H01L21/31 , H05H1/24 , H05H1/2406 , H05H2001/2462
Abstract: 本发明提供一种即便在具有高纵横比的槽的被处理体上也能够向该槽内均匀地喷射气体的气体喷射装置。而且，本发明的气体喷射装置(100)具有向被处理体(202)喷射气体的气体喷射单元部(1)。气体喷射单元部(1)具有第一锥体形状构件(3)和第二锥体形状构件(2)。在第一锥体形状构件(3)的侧面与第二锥体形状构件(2)的侧面之间形成有间隙(do)。各锥体形状构件(2、3)的顶部侧与被处理体(202)相面对。
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公开(公告)号：CN107075676B
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201480082990.6
申请日：2014-10-29
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C16/455 , B01J4/00 , C23C16/503 , H01L21/31 , H05H1/24
CPC classification number: C23C16/45561 , B01J4/00 , C23C16/045 , C23C16/452 , C23C16/455 , C23C16/4551 , C23C16/45559 , C23C16/45563 , C23C16/4557 , C23C16/45572 , C23C16/45582 , C23C16/503 , C23C16/513 , H01L21/31 , H05H1/24
Abstract: 本发明提供即便在具有高纵横比的槽的被处理体上也能够向该槽内均匀地喷射气体的针对成膜装置的气体喷射装置。本发明的气体喷射装置(100)具备使气体整流化并将整流化后的气体向成膜装置(200)内喷射的气体喷射单元部(23)。气体喷射单元部(23)为在内部形成有成为气体通路的间隙(do)的扇形形状。气体分散供给部(99)内的气体从扇形形状的宽度较宽的一侧向间隙(do)内流入，由于该扇形形状，气体被整流化以及被加速，并从扇形形状的宽度较窄的一侧向成膜装置(200)内输出。
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公开(公告)号：CN107079575A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201480083011.9
申请日：2014-10-29
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使是大面积的被处理体也能够实施均匀的使用了自由基气体的处理的放电发生器及其电源装置。本发明所涉及的放电发生器及其电源装置(500)具备自由基气体生成装置(100)、处理室装置(200)和n相逆变器电源装置(9)。在处理室装置(200)相邻配置自由基生成装置(100)，自由基气体生成装置(100)具有多个(n个)放电单元(70)。n相逆变器电源装置(9)采用具有能够对n相的交流电压进行输出控制的手段的电源电路结构，对应于所述放电单元(70)的设置位置对各相的交流电压进行可变控制。
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公开(公告)号：CN103766001B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201280043157.1
申请日：2012-04-19
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: H05H1/24 , C23C16/452 , C23C16/505 , H01L21/31
CPC classification number: C23C16/503 , C23C16/452 , H01J37/32036 , H01J37/32348 , H01J37/32357 , H01J37/32559 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/2431
Abstract: 本发明提供一种能够高效且多量地输出在被处理件上成膜功能绝缘膜中所使用的金属功能物质粒子气体的等离子体产生装置。本发明所涉及的等离子体产生装置(100)具备：电极单元；围绕电极单元的框体(16)。电极单元具有：第一电极(3)；放电空间(6)；第二电极(1)；电介质(2a、2b)；在俯视观察下形成于中央部的贯通口(PH)。并且，圆筒形状的绝缘筒部(21)配设在贯通口(PH)的内部，在该圆筒形状的侧面部具有喷出孔(21x)。此外，等离子体产生装置(100)具备与绝缘筒部(21)的空穴部(21A)连接且用于供给金属前体的前体供给部(201)。
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公开(公告)号：CN103782663B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201280043734.7
申请日：2012-04-23
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: H05H1/24 , C23C16/452 , C23C16/505 , H01L21/31
CPC classification number: H01J37/32449 , C23C16/452 , C23C16/45557 , C23C16/45565 , C23C16/503 , H01J37/32348 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 本发明提供一种等离子体产生装置，在该等离子体产生装置中，即使将原料气体供给到配置有电极单元的框体内，也不会产生在框体内配设的电供给部或电极面发生腐蚀、在电极单元的放电部以外的框体内部处沉积金属这样的问题。而且，本发明所涉及的等离子体产生装置(100)具备电极单元和围绕该电极单元的框体(16)。电极单元具有第一电极(3)、隔着放电空间(6)而与第一电极(3)面对面的第二电极(1)、及配置于各电极(1、3)的主表面的电介质(2a、2b)。此外，等离子体产生装置(100)具有管路(75)，该管路(75)不与未配设电极单元的框体(16)内部的空间连接，而从框体(16)外向放电空间(6)直接供给原料气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103782663A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201280043734.7
申请日：2012-04-23
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: H05H1/24 , C23C16/452 , C23C16/505 , H01L21/31
CPC classification number: H01J37/32449 , C23C16/452 , C23C16/45557 , C23C16/45565 , C23C16/503 , H01J37/32348 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 本发明提供一种等离子体产生装置，在该等离子体产生装置中，即使将原料气体供给到配置有电极单元的框体内，也不会产生在框体内配设的电供给部或电极面发生腐蚀、在电极单元的放电部以外的框体内部处沉积金属这样的问题。而且，本发明所涉及的等离子体产生装置(100)具备电极单元和围绕该电极单元的框体(16)。电极单元具有第一电极(3)、隔着放电空间(6)而与第一电极(3)面对面的第二电极(1)、及配置于各电极(1、3)的主表面的电介质(2a、2b)。此外，等离子体产生装置(100)具有管路(75)，该管路(75)不与未配设电极单元的框体(16)内部的空间连接，而从框体(16)外向放电空间(6)直接供给原料气体。
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公开(公告)号：CN103459308A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201180070004.1
申请日：2011-04-13
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C01B13/11
CPC classification number: C01B13/11 , C01B2201/12 , C01B2201/64 , C01B2201/66 , C01B2201/76 , C01B2201/90
Abstract: 本发明的目的在于获得一种谋求无氮添加臭氧产生器单元的小型化的无氮添加臭氧产生单元，该无氮添加臭氧产生器单元附带具有用于输出高纯度、高浓度的臭氧气体的多个机构的功能。而且，在本发明中，气体配管集成模块(30)具有多个内部配管路线(R30a～R30f)，通过将上述多个内部配管路线与向放电面涂敷有用于生成臭氧的光催化剂物质的无氮添加臭氧产生器(1)、控制机构(MFC(3)、气体过滤器(51)及APC(4))、原料气体供给口(14)、臭氧气体输出口(15)连结起来，形成从原料气体供给口经由APC而到达无氮添加臭氧气体产生器的原料气体输入配管路线及从无氮添加臭氧产生器经由气体过滤器、MFC而到达臭氧气体输出口的臭氧气体输出配管路线实现一体化的单元。
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公开(公告)号：CN101389387B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN200680053064.1
申请日：2006-11-29
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
CPC classification number: B01D53/002 , B01D2256/14 , C01B13/0251 , C01B13/10 , C01B13/11 , C01B2201/80 , C01B2201/82 , C01B2210/0092 , Y02C10/10 , Y02C10/12
Abstract: 特定气体的浓缩、稀释装置以及特定气体的浓缩、稀释方法，其中，在1个臭氧浓缩小室内，形成能够从臭氧化氧气中使臭氧选择性地结露或使氧气选择性地透过而被排出的冷却温度范围的部分和能够使结露的臭氧蒸气化的温度范围的部分，使结露的臭氧借助流体的流动或重力作用，移动至能够使上述结露的臭氧蒸气化的部分，使其蒸气化，由此可以使臭氧化氧气更高浓度化。填充于臭氧浓缩小室11、12内的结露、蒸气化粒子材料13为球形且侧面成为具有多个平面的特殊形状或是能够使臭氧气中的氧气选择性地透过的氧透过膜130。
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公开(公告)号：CN102666372A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080053598.0
申请日：2010-09-06
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C01B13/11
CPC classification number: C01B13/11 , C01B2201/90
Abstract: 本发明的目的在于提供一种臭氧气体供给系统，其不仅能通过独立控制臭氧气体流量、浓度来对各臭氧处理装置供给臭氧气体，还能进行可靠性高的臭氧气体供给。此外，本发明具有臭氧气体输出流量管理单元(9)，该臭氧气体输出流量管理单元(9)接收来自多个臭氧发生单元(7-1～7-n)的多个臭氧气体输出，并通过设于内部的多个臭氧气体控制阀(9a、9b、9c、9bc、9ab、9ca)的开闭动作，从而能执行将多个臭氧气体输出中的一个或多个的组合选择地输出至多个臭氧处理装置(12-1～12-n)中的任意的臭氧处理装置的臭氧气体输出流量控制。
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公开(公告)号：CN101142022A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200580049102.1
申请日：2005-07-15
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
CPC classification number: C01B13/11 , B01J23/02 , B01J23/06 , B01J23/08 , B01J23/14 , B01J23/16 , B01J23/72 , B01J23/745 , B01J35/004 , B01J37/0238 , B01J37/349 , C01B2201/64
Abstract: 本发明提供新的光催化材料生产设备和光催化材料生产方法，所述设备和方法能够通过在高场等离子体中，在高氧化性、高浓度臭氧介质状态下生产大量高品质光催化材料，而不是采用传统的干沉积方法通过PVD和CVD系统产生光催化材料。在依据本发明的光催化材料生产方法和光催化材料生产设备中，通过放电间隙中的电介质材料提供一对相对的电极，向放电间隙中提供主要含氧气的气体，在两个电极之间施加AC电压，在放电间隙中产生电介质阻挡放电(无声放电或蠕缓放电)。因此，产生含臭氧气体的氧气，通过电介质阻挡放电将金属或金属化合物改性为光催化材料。
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