公开(公告)号：CN101142022A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200580049102.1

申请日：2005-07-15

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 田畑要一郎 ,  西津徹哉 ,  沖原雄二郎 ,  植田良平

IPC: B01J35/02 ,  B01J19/08 ,  B01J37/34 ,  C01B13/11

CPC classification number: C01B13/11 ,  B01J23/02 ,  B01J23/06 ,  B01J23/08 ,  B01J23/14 ,  B01J23/16 ,  B01J23/72 ,  B01J23/745 ,  B01J35/004 ,  B01J37/0238 ,  B01J37/349 ,  C01B2201/64

Abstract: 本发明提供新的光催化材料生产设备和光催化材料生产方法，所述设备和方法能够通过在高场等离子体中，在高氧化性、高浓度臭氧介质状态下生产大量高品质光催化材料，而不是采用传统的干沉积方法通过PVD和CVD系统产生光催化材料。在依据本发明的光催化材料生产方法和光催化材料生产设备中，通过放电间隙中的电介质材料提供一对相对的电极，向放电间隙中提供主要含氧气的气体，在两个电极之间施加AC电压，在放电间隙中产生电介质阻挡放电(无声放电或蠕缓放电)。因此，产生含臭氧气体的氧气，通过电介质阻挡放电将金属或金属化合物改性为光催化材料。

公开(公告)号：CN101142022B

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200580049102.1

申请日：2005-07-15

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 田畑要一郎 ,  西津徹哉 ,  沖原雄二郎 ,  植田良平

IPC: B01J35/02 ,  B01J19/08 ,  B01J37/34 ,  C01B13/11

CPC classification number: C01B13/11 ,  B01J23/02 ,  B01J23/06 ,  B01J23/08 ,  B01J23/14 ,  B01J23/16 ,  B01J23/72 ,  B01J23/745 ,  B01J35/004 ,  B01J37/0238 ,  B01J37/349 ,  C01B2201/64

Abstract: 本发明提供新的光催化材料生产设备和光催化材料生产方法，所述设备和方法能够通过在高场等离子体中，在高氧化性、高浓度臭氧介质状态下生产大量高品质光催化材料，而不是采用传统的干沉积方法通过PVD和CVD系统产生光催化材料。在依据本发明的光催化材料生产方法和光催化材料生产设备中，通过放电间隙中的电介质材料提供一对相对的电极，向放电间隙中提供主要含氧气的气体，在两个电极之间施加AC电压，在放电间隙中产生电介质阻挡放电(无声放电或蠕缓放电)。因此，产生含臭氧气体的氧气，通过电介质阻挡放电将金属或金属化合物改性为光催化材料。