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公开(公告)号：CN109001122B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN201811149497.8
申请日：2018-09-29
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明涉及一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数的测量装置及方法。所述装置包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源，所述真空系统包括真空室和样品台；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪；所述样品台安装在真空室顶部，离子源安装在真空室底部，离子源的离子束输出口正对样品台设置。测量方法是：先测量梯度折射率薄膜样品的初始椭偏参数，用离子束对薄膜进行减薄，再测量减薄后薄膜的椭偏参数，反复进行减薄、测试步骤，直到薄膜减薄到设定步长以下，即可得到最后一薄层的折射率和消光系数，在此基础上可依次得到其上各薄层的光学常数，最终获得薄膜样品沿厚度方向的光学常数分布，实现梯度折射率薄膜光学常数的测量。
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公开(公告)号：CN113412047A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110763037.X
申请日：2021-07-06
Applicant: 西安工业大学
IPC: H05K9/00 , C01B32/186
Abstract: 本发明涉及铜基石墨烯包覆结构及其制备方法，本发明方法通过退火过程对铜基结构的晶体结构和表面成分调控改善，为后续石墨烯包覆提供催化基底，本发明方法以铜基结构作为基底，采用表面生长机制严格控制分解速率和成核密度，将石墨烯立体的包覆于铜基结构表面，完成双面叠加铜基石墨烯包覆结构的制备。本发明包覆结构能够在保持相同光学透过率的条件下提高电磁屏蔽性能，本发明制备的包覆结构表面均匀，具备透明电磁屏蔽功能，并且氧化腐蚀稳定性良好。
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公开(公告)号：CN112935528A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202110125403.9
申请日：2021-01-29
Applicant: 西安工业大学
IPC: B23K26/04 , B23K26/06 , B23K26/38 , B23K26/402 , B23K26/70
Abstract: 本发明属于半导体技术领域，具体涉及一种针对厚度较大晶圆进行高质量切割的方法和装置。以解决现有技术对厚晶圆的材料有厚度有要求、切割速度慢，崩边严重的问题。本发明采用的技术方案为：让不同波长的激光分别聚焦在厚晶圆不同位置，以厚晶圆内部热应力膨胀，辅助表面晶格断裂的方式，让应力及时向外传导，从而实现厚晶圆快速、高质量的切割。
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公开(公告)号：CN109384218B
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201811518846.9
申请日：2018-12-12
Applicant: 西安工业大学
IPC: C01B32/186 , H01B13/00 , H01B5/12
Abstract: 本发明涉及一种石墨烯网栅薄膜的制备方法，该方法的主要思路是在石墨烯薄膜制备过程中，将旋涂有PMMA保护层的石墨烯薄膜吸附于具有光刻胶图案的石英板上，之后去除光刻胶图案及其表面的石墨烯薄膜得到石墨烯网栅薄膜。该方法制备的石墨烯网栅薄膜为准单层石墨烯结构，在网栅交织区域厚度均匀统一，保持了与未图形化制备的石墨烯薄膜相同的属性，同时解决石墨烯导电薄膜不易制备成矩阵结构的问题，简单易行。
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公开(公告)号：CN110028252B
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN201910430409.X
申请日：2019-05-22
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及一种提高玻璃基底发热涂层工作稳定性的方法。本发明的目的是要在保证石英玻璃良好的辐射效率基础上，提高它的热稳定性。所提供的技术方案是：首先使用等离子体预辐照石英玻璃基底，在石英基底表面形成微孔，然后在其表面涂覆发热涂层浆料，在含氮气氛围内低温烘烤半小时，最后，均匀涂覆一层或多层正常浓度的发热涂层浆料，烘干处理半小时。本发明增大了浆料与基底的接触面积，处理后的基底材料，不会改变石英玻璃的宏观光学特性，而且热辐射效率提升30%，制备方法操作简单、可靠、易于工业化大规模实现。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111599669A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN202010397246.2
申请日：2020-05-12
Applicant: 西安工业大学
IPC: H01L21/288 , H01L21/28
Abstract: 本发明涉及一种适用于发热涂层材料欧姆电极的制作方法。为防止制作发热涂层材料的欧姆电极的触点接触不良、触电打火或者引出线脱离电极等引起的损坏和安全事故，本发明的制作方法为处理好基底，在要制作欧姆电极的区域使用手持式低温等离子体发生器进行轰击，或放置金属微孔阵列板，使用低温等离子体在真空条件下轰击陶瓷基底，在陶瓷表面形成微孔阵列；涂覆碳基材料，并使浆料沉积进入小孔，在真空条件下进行梯度加热；碳基材料固化后，涂覆一层高纯导电银浆，将多芯铜丝附着在小孔上，再次涂覆导电银浆，使导电银浆与小孔内壁充分接触，在真空条件下进行梯度加热，制作完成一种接触稳定，比接触面积大，引出线抗拉强度大的电极。
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公开(公告)号：CN111521070A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN202010354323.6
申请日：2020-04-29
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明公开一种碳基低压点火开关制备的方法，首先是基底毛化处理，使用绿光或紫外激光装置，在陶瓷基底上进行激光毛化处理，得到粗糙度为一定值；然后进行碳基材料复合材料的制作和配比，用丝网印刷或者喷涂的方式将碳基复合材料涂敷到陶瓷基底上，进行梯度温度处理；最后温度处理后用激光技术切割成不同的形状，涂上导电银浆后加上电极通电，测试不同配料、不同形状的点火开关的发热性能。经实验表明，通过本发明方法制得的碳基低压点火开关具有可靠的点火能力，相比于桥丝火工品和半导体桥火工品，其具有制备方法简便、成本低廉等优点。
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公开(公告)号：CN111474182A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN202010338387.7
申请日：2020-04-26
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及一种基于偏振参数识别光学薄膜激光损伤的方法和装置，其克服了现有技术中判别薄膜是否发生损伤，常常会造成“误判”现象，适用于激光损伤阈值测量中各类光学元件及镀膜元件表面损伤的在线判别，具有快速、准确的特点。本发明采用的技术方案如下：包括用于安装薄膜测试样品的二维工作台，二维工作台两侧分别设置有入射光路和反射光路，入射光路一侧依次设置有光源、滤光片、平行光管和起偏器，反射光路一侧依次设置有波片、检偏器和光电接收器，高能激光器的激光发射端正对薄膜测试样品表面，在高能激光器的激光脉冲输出方向依次设置有衰减器和会聚透镜，其中二维工作台、波片、检偏器、高能激光器、接收器和衰减器均连接至工业控制计算机。
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公开(公告)号：CN107841711B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201711067629.8
申请日：2017-11-03
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及一种减小光学窗口用四面体非晶碳膜残余应力的方法，将准备好的基片迅速放入真空室的基底夹具上，工作气体为氩气其纯度99.999%；所述真空室通过机械泵和分子泵抽到真空度为5.0×10‑4Pa；打开氩气阀门，流量为15sccm，控制真空度为5.0×10‑2Pa；设置基底偏压‑150V，使用微波辅助激励源产生等离子体，对基片进行溅射清洗；清洗过程控制时间2分钟；然后静置5分钟冷却基底，循环5次，实际溅射清洗时间10分钟，全部清洗工艺费时35分钟；清洗完毕后，通过靶材对基片进行薄膜沉积，同时通过调节基底偏压、磁路偏压和氩气流量完成对薄膜沉积形成的四面体非晶碳膜的应力调控。
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公开(公告)号：CN109186958A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201811095388.2
申请日：2018-09-19
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种多光共轴激光损伤阈值测试装置及实现方法。所述测量装置采用4台高能脉冲激光器，分别经对应棱镜转折后进入共轴光学系统，4光束共用一套系统，以及计算机控制处理系统，利用可变间距的正-负透镜组成扩束系统，对扩束系统的光学间隔进行调整，可实现不同波长激光束的准直扩束；采用步进电机精确控制聚焦透镜的位置，对不同激光波长的焦距进行补偿，从而保证激光传输到测试表面，其光斑的大小及离焦量恒定。该装置实现了测试系统的集成化、自动化、智能化，能够在线、实时、快速、准确判别薄膜损伤，同一测试装置，可以测量多种不同波长的激光损伤阈值。
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