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公开(公告)号：CN105144342A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201380073365.0
申请日：2013-12-25
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341
Abstract: 液浸部件在液浸曝光装置中使用，能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间。液浸部件具有：第1部件，其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与物体的表面相对的第1液体供给部；和第2部件，其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动。
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公开(公告)号：CN120002687A
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202510097890.0
申请日：2019-04-12
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: B25J13/08
Abstract: 本发明提供一种作业系统、作业系统的控制方法以及驱动系统，可提升终端效应器的位置或姿势的控制精度。作业系统能够利用终端效应器对物体进行作业，所述作业系统包括：驱动装置，能够变更终端效应器的位置和姿势中的至少一个；加速度传感器，用于获取关于终端效应器的加速度的信息；检测装置，用于获取关于终端效应器的位置、终端效应器的姿势、驱动装置的位置、及驱动装置的姿势中的至少一个的信息；以及控制装置，其中，所述控制装置基于由加速度传感器获取的信息和由检测装置获取的信息，来生成用于控制终端效应器和驱动装置中的至少一个的控制信息。
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公开(公告)号：CN119910672A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510097892.X
申请日：2019-04-12
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
Abstract: 本发明提供一种作业系统，可提升终端效应器的位置或姿势的控制精度。所述作业系统包括：支撑部，在能够对工件进行作业的终端效应器能够位移的状态下支撑所述终端效应器；第一驱动装置，能够经由所述支撑部而以第一冲程驱动所述终端效应器；第二驱动装置，能够以比所述第一冲程小的第二冲程，相对于所述支撑部来驱动所述终端效应器；检测装置，利用设置于所述终端效应器的至少一部分上的检测构件，来检测所述终端效应器的位置和姿势中的至少一个；以及控制装置，其中，所述控制装置根据所述检测装置的结果，而生成用于控制所述终端效应器、所述第一驱动装置、和所述第二驱动装置中的至少一个的控制信息。
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公开(公告)号：CN114206538B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202080056385.7
申请日：2020-08-06
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
Abstract: 本发明提供一种加工装置以及系统，测量光对工件的照射被因加工光对工件的照射而产生的物质妨碍的可能性变低。加工装置是通过将来自加工光源的加工光照射至物体来加工物体的加工装置，包括：合成光学系统，将来自加工光源的加工光的光路与来自测量光源的第一测量光的光路合成；照射光学系统，将经由合成光学系统的加工光及第一测量光照射至物体；位置变更装置，变更照射光学系统相对于物体的位置；拍摄装置，其位置与照射光学系统一起变更，拍摄物体；以及检测装置，经由照射光学系统及合成光学系统，来检测第二测量光，所述第二测量光通过经由照射光学系统照射至物体的第一测量光而自物体产生。
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公开(公告)号：CN116847959A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202180073564.6
申请日：2021-10-29
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B25J13/00
Abstract: 照射使配置于电路基板的焊料熔融的加工光的焊接装置包括：光照射装置，具有检流镜，经由所述检流镜来照射加工光；检测装置，对来自电路基板的光进行检测，生成图像数据与形状数据中的至少一个数据；机械臂，设有光照射装置与检测装置，且具有使光照射装置与检测装置移动的驱动部；以及控制装置，基于伴随检测装置的位移而变化的至少一个数据来控制检流镜的方向，以使来自与检测装置一同位移的光照射装置的加工光照射至同一位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114222641A
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202080057800.0
申请日：2020-08-27
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
Abstract: 一种处理系统，其是将来自加工光源的加工光照射至物体的至少一部分而对所述物体进行加工处理的处理系统，包括：合成光学系统，将来自测量光源的测量光的光路与来自所述加工光源的所述加工光的光路合成；照射光学系统，将来自所述合成光学系统的所述加工光及所述测量光照射至所述物体；位置变更装置，变更所述物体与来自所述照射光学系统的所述加工光的聚光位置之间的相对位置关系；光接收装置，经由所述照射光学系统来接收通过照射至所述物体的表面的所述测量光而产生的光；及控制装置，使用来自所述光接收装置的输出，来控制所述位置变更装置。
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公开(公告)号：CN109375473A
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201811255979.1
申请日：2013-12-25
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: G03F7/20
Abstract: 液浸部件在液浸曝光装置中使用，能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间。液浸部件具有：第1部件，其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与物体的表面相对的第1液体供给部；和第2部件，其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动。
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公开(公告)号：CN108873614A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810590028.3
申请日：2013-12-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 液浸构件用在隔着光学构件的射出面(12)和基板(P)之间的第一液体通过曝光用光对基板进行曝光的液浸曝光装置中，能够在能够于光学构件的下方移动的物体之上形成液浸空间。液浸构件包括配置于光学构件的周围的至少一部分的第一构件(21)、能够与物体相对且能够在曝光用光的光路的外侧移动的第二构件(22)以及保护光学构件的保护部(部分211、壁部50)。保护部减小光学构件承受的来自液浸空间的液体的压力的波动。
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公开(公告)号：CN104995714B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201380073183.3
申请日：2013-12-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/709
Abstract: 液浸构件用在隔着光学构件的射出面(12)和基板(P)之间的第一液体通过曝光用光对基板进行曝光的液浸曝光装置中，能够在能够于光学构件的下方移动的物体之上形成液浸空间。液浸构件包括配置于光学构件的周围的至少一部分的第一构件(21)、能够与物体相对且能够在曝光用光的光路的外侧移动的第二构件(22)以及保护光学构件的保护部(部分211、壁部50)。保护部减小光学构件承受的来自液浸空间的液体的压力的波动。
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公开(公告)号：CN104995714A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201380073183.3
申请日：2013-12-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/709
Abstract: 液浸构件用在隔着光学构件的射出面(12)和基板(P)之间的第一液体通过曝光用光对基板进行曝光的液浸曝光装置中，能够在能够于光学构件的下方移动的物体之上形成液浸空间。液浸构件包括配置于光学构件的周围的至少一部分的第一构件(21)、能够与物体相对且能够在曝光用光的光路的外侧移动的第二构件(22)以及保护光学构件的保护部(部分211、壁部50)。保护部减小光学构件承受的来自液浸空间的液体的压力的波动。
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