公开(公告)号：CN108873614A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201810590028.3

申请日：2013-12-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 佐藤真路 ,  小田中健洋

IPC: G03F7/20

Abstract: 液浸构件用在隔着光学构件的射出面(12)和基板(P)之间的第一液体通过曝光用光对基板进行曝光的液浸曝光装置中，能够在能够于光学构件的下方移动的物体之上形成液浸空间。液浸构件包括配置于光学构件的周围的至少一部分的第一构件(21)、能够与物体相对且能够在曝光用光的光路的外侧移动的第二构件(22)以及保护光学构件的保护部(部分211、壁部50)。保护部减小光学构件承受的来自液浸空间的液体的压力的波动。

公开(公告)号：CN104995714B

公开(公告)日：2018-06-26

申请号：CN201380073183.3

申请日：2013-12-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 佐藤真路 ,  小田中健洋

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/709

Abstract: 液浸构件用在隔着光学构件的射出面(12)和基板(P)之间的第一液体通过曝光用光对基板进行曝光的液浸曝光装置中，能够在能够于光学构件的下方移动的物体之上形成液浸空间。液浸构件包括配置于光学构件的周围的至少一部分的第一构件(21)、能够与物体相对且能够在曝光用光的光路的外侧移动的第二构件(22)以及保护光学构件的保护部(部分211、壁部50)。保护部减小光学构件承受的来自液浸空间的液体的压力的波动。

公开(公告)号：CN104995714A

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201380073183.3

申请日：2013-12-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 佐藤真路 ,  小田中健洋

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/709

Abstract: 液浸构件用在隔着光学构件的射出面(12)和基板(P)之间的第一液体通过曝光用光对基板进行曝光的液浸曝光装置中，能够在能够于光学构件的下方移动的物体之上形成液浸空间。液浸构件包括配置于光学构件的周围的至少一部分的第一构件(21)、能够与物体相对且能够在曝光用光的光路的外侧移动的第二构件(22)以及保护光学构件的保护部(部分211、壁部50)。保护部减小光学构件承受的来自液浸空间的液体的压力的波动。