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公开(公告)号:CN102592512B
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN201210022620.6
申请日:2008-05-28
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/52 , H01L51/54 , G02F1/1343
CPC classification number: H01L51/0021 , C09K19/582 , G02F1/13439 , G02F2202/022 , G02F2202/16 , H01L51/0025 , H01L51/5206 , H01L51/5221
Abstract: 本发明涉及显示装置。本发明的目的在于提供一种高图像质量及高可靠性的显示装置。本发明的目的还在于以低成本且高生产率地提供具有大型屏幕的显示装置。作为用于显示装置的显示元件的电极层使用包括导电性聚合物的电极层,其中减少了该包括导电性聚合物的电极层所包含的离子性杂质的浓度(优选为100ppm或更少)。离子性杂质离子化而容易成为可动离子,使适用于显示元件的液晶层或电致发光层劣化。通过具备减少了这种离子性杂质的包括导电性聚合物的电极层,可以提高显示装置的可靠性。
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公开(公告)号:CN102592512A
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN201210022620.6
申请日:2008-05-28
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/52 , H01L51/54 , G02F1/1343
CPC classification number: H01L51/0021 , C09K19/582 , G02F1/13439 , G02F2202/022 , G02F2202/16 , H01L51/0025 , H01L51/5206 , H01L51/5221
Abstract: 本发明涉及显示装置。本发明的目的在于提供一种高图像质量及高可靠性的显示装置。本发明的目的还在于以低成本且高生产率地提供具有大型屏幕的显示装置。作为用于显示装置的显示元件的电极层使用包括导电性聚合物的电极层,其中减少了该包括导电性聚合物的电极层所包含的离子性杂质的浓度(优选为100ppm或更少)。离子性杂质离子化而容易成为可动离子,使适用于显示元件的液晶层或电致发光层劣化。通过具备减少了这种离子性杂质的包括导电性聚合物的电极层,可以提高显示装置的可靠性。
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公开(公告)号:CN101174675B
公开(公告)日:2012-02-01
申请号:CN200710184973.5
申请日:2007-10-31
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: H01L51/40 , H01L21/336 , H01L51/05 , H01L29/786
CPC classification number: H01L51/0022 , H01L51/0533 , H01L51/0545
Abstract: 本发明的一种半导体装置的制造方法包括如下步骤:在透光衬底上形成栅电极;在所述栅电极和所述衬底上形成包含无机材料的栅绝缘层;在所述绝缘层上形成包含光聚合反应基的有机层;将所述栅电极用作掩模,且通过将来自所述衬底的背面的光照射到所述有机层选择性地聚合所述有机层;通过去除所述有机层的聚合以外的剩余部分,形成有机聚合层;在形成了所述有机聚合层的区域以外的区域的所述栅绝缘层上形成具有水解基的有机硅烷膜;通过在所述有机聚合层上涂敷包含导电材料的组成物形成源电极及漏电极;以及在所述栅电极、所述源电极、以及漏电极上形成半导体层。
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公开(公告)号:CN1890698B
公开(公告)日:2011-07-13
申请号:CN200480035706.6
申请日:2004-11-29
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: G09F9/30
CPC classification number: H01L27/1292 , H01L27/12 , H01L27/124 , H01L27/3262
Abstract: 本发明的目的是提供一种能够通过利用改进的材料以及通过简化的制造步骤来制造的显示器件,并且提供其制造技术。本发明的显示器件的一个特征是包括具有开口的绝缘层、形成在所述开口中的第一导电层、以及形成在所述绝缘层和第一导电层上的第二导电层,其中第一导电层比第二导电层更宽和更厚,以及其中通过喷溅含有导电材料的微滴来形成第二导电层。
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公开(公告)号:CN101681579A
公开(公告)日:2010-03-24
申请号:CN200880020348.X
申请日:2008-06-05
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: G09F9/30 , G02F1/1343 , G02F1/1368
CPC classification number: G02F1/133345
Abstract: 一种显示装置,其包括:包含导电聚合物的电极层(1701a)以及显示层(1703),该显示层可以是液晶层。在电极层和显示层之间设置无机绝缘膜(1716)。该膜防止电极层中的离子性杂质移动到显示层中使液晶层中的意境材料等劣化。
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公开(公告)号:CN101630639A
公开(公告)日:2010-01-20
申请号:CN200910161174.5
申请日:2005-01-17
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
CPC classification number: G02B5/201 , G03F7/0007 , H01L27/1285 , H01L27/1292 , H01L27/3281 , H01L27/3295 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种通过简单的步骤制造具有包括绝缘膜、半导体膜、导电膜等的膜图案的基板的方法,以及以高产量制造低成本的半导体器件的方法。根据本发明,在基板上形成具有低润湿性的第一保护膜之后,在第一掩模图案的外缘上施加或排放具有高润湿性的材料,从而可形成膜图案和具有膜图案的基板。
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公开(公告)号:CN100550295C
公开(公告)日:2009-10-14
申请号:CN200510004768.7
申请日:2005-01-17
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
CPC classification number: G02B5/201 , G03F7/0007 , H01L27/1285 , H01L27/1292 , H01L27/3281 , H01L27/3295 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种通过简单的步骤制造具有包括绝缘膜、半导体膜、导电膜等的膜图案的基板的方法,以及以高产量制造低成本的半导体器件的方法。根据本发明,在基板上形成具有低润湿性的第一保护膜之后,在第一掩模图案的外缘上施加或排放具有高润湿性的材料,从而可形成膜图案和具有膜图案的基板。
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公开(公告)号:CN100533746C
公开(公告)日:2009-08-26
申请号:CN200510091032.8
申请日:2005-08-03
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
Abstract: 本发明提供了一种显示器件的制造方法,所述显示器件具有能够在较小阈值电压改变的情况下高速操作的TFT,其中高效率使用所述材料并且需要少量光掩模。本发明的显示器件包括形成在绝缘表面上的栅电极层和像素电极层、形成在栅电极层上的栅绝缘层、形成在栅绝缘层上的晶体半导体层、形成得与晶体半导体层相接触的具有一种导电类型的半导体层、形成得与具有一种导电类型的半导体层相接触的源电极层和漏电极层、稍后形成在源电极层、漏电极层和像素电极层上的绝缘层、形成在绝缘层中以到达源电极层或漏电极层的第一开口、形成在栅绝缘层和绝缘层中以到达像素电极层的第二开口、以及形成在第一开口和第二开口中以便于将源电极层或漏电极层与像素电极层电连接的配线层。
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公开(公告)号:CN101017872A
公开(公告)日:2007-08-15
申请号:CN200710008091.3
申请日:2007-02-09
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
CPC classification number: H01J9/2275 , G09G3/30 , G09G2300/0426
Abstract: 本发明的目的在于提供进一步降低功耗,提高发光效率,并且具有高性能及高可靠性的显示器件。在本发明中,通过以下步骤来制造发光元件:对发光材料照射光;将照射了光的发光材料分散在含有粘合剂的溶液中,而形成含有照射了光的发光材料及粘合剂的溶液;形成第一电极层;将溶液涂敷在第一电极层上,以形成含有照射了光的发光材料及粘合剂的发光层;以及在发光层上形成第二电极层。还可以在第一电极层和发光层之间或在第二电极层和发光层之间提供绝缘层。
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公开(公告)号:CN1934713A
公开(公告)日:2007-03-21
申请号:CN200580008835.0
申请日:2005-03-16
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: H01L29/786 , H01L29/423 , H01L29/49 , H01L21/288 , H01L21/336 , H01L21/8234 , H01L21/8238 , H01L27/088 , H01L27/092 , G02F1/13 , G02F1/1368 , G09F9/00
CPC classification number: H01L29/78678 , G03F7/70791 , H01L21/76838 , H01L27/1292 , H01L29/4908 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L29/78666 , H01L29/78669 , H01L29/78675
Abstract: 根据本发明的一种形成图案的方法包括步骤:在具有透光性质的衬底上形成掩模;在衬底和掩模上形成具有包含光吸收材料的物质的第一区域;通过使用具有可由光吸收材料吸收的波长、通过衬底的光照射该物质以修改物质表面的一部分而形成第二区域;以及通过将包含图案形成材料的化合物排放到第二区域来形成图案。
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