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公开(公告)号:CN114761829A
公开(公告)日:2022-07-15
申请号:CN202180006843.0
申请日:2021-01-28
Applicant: 日本电气株式会社
Abstract: 为了掌握多个监控对象之间的位置关系并对其进行安全管理,管理系统设置有:监控设备,投射用于检测监控对象的检测光,并且基于检测光的反射光的检测图案识别监控对象;以及至少一个检测设备,设置在监控对象上,接收由监控设备投射的检测光,并且在从接收到检测光的时刻开始的预定时间段内,在对检测设备设置的时刻反射检测光。
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公开(公告)号:CN102549492B
公开(公告)日:2014-12-24
申请号:CN201080043048.0
申请日:2010-09-16
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G03B21/14 , F21S2/00 , G03B21/00 , F21Y101/02
CPC classification number: G03B21/2033 , G02B5/04 , G02B27/10 , G03B21/14 , G03B21/2013 , G03B21/2066 , G03B21/2073 , G03B33/06 , G03B33/12 , H04N9/3105 , H04N9/3167
Abstract: 一种光源装置,包括:第一光源(3a),该第一光源发出包括不同波长的多种颜色的第一偏振光;第二光源(3b),该第二光源发出第二偏振光,该第二偏振光的偏振状态不同于第一偏振光的偏振状态并且包括所述多种颜色之中的至少一种颜色的光;以及第一颜色合成光学元件(1),该第一颜色合成光学元件合成从第一光源(3a)发出的第一偏振光和从第二光源(3b)发出的第二偏振光。
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公开(公告)号:CN102187385B
公开(公告)日:2014-03-12
申请号:CN200980141725.X
申请日:2009-10-09
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: H04N1/44 , G09G3/36 , G02B27/28 , G02F1/13 , G03B21/00 , G09F9/00 , G09G3/20 , G09G3/34 , H04N5/66 , H04N5/72
CPC classification number: G02B27/26 , G02B27/2264 , G03B21/005 , G03B35/20 , G09G3/003 , G09G3/3611 , G09G2340/125 , H04N5/44508 , H04N5/66 , H04N9/3167 , H04N13/341 , H04N21/4122 , H04N21/4318 , H04N21/43637 , H04N2013/403
Abstract: 一种图像显示系统,包括:显示装置(13),用于在空间上组合第一偏振光所产生的第一偏振图像与第二偏振光所产生的第二偏振图像,并且显示组合的偏振图像,所述第二偏振光具有与所述第一偏振光的偏振光分量不同的偏振光分量;显示控制装置(1),用于使显示装置(13)以时分方式复用地显示多幅不同图像,所述多幅不同图像与第一和第二偏振图像中的每一个有关;以及光学快门(14),选择性地仅透射与从多幅不同图像之中任意选择的选定图像相对应的偏振图像。
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公开(公告)号:CN101681076B
公开(公告)日:2013-10-30
申请号:CN200880021033.7
申请日:2008-06-18
Applicant: 日本电气株式会社
CPC classification number: G02F1/29 , G02F1/292 , G02F2201/122 , G02F2202/20
Abstract: 光开关通过向电光晶体(104)施加电场并且改变电光晶体(104)的折射率而在施加到电光晶体(104)的入射光(101)的透射和全反射之间执行切换。该光开关设置有布置在电光晶体(104)内部的多个电极(105),以构造用于向电光晶体(104)施加电场的电极部分(106)。折射率改变部分(图中未示出)包括整个电极部分(106),当通过在电光晶体(104)中的电极部分(106)施加了电场时,该折射率改变部分中的折射率改变。折射率改变部分的界面被形成为平坦的。
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公开(公告)号:CN101589421B
公开(公告)日:2013-01-09
申请号:CN200880003173.1
申请日:2008-01-22
Applicant: 日本电气株式会社
CPC classification number: H04N13/341 , G09G5/00 , G09G2340/0435 , G09G2358/00 , H04N2013/403
Abstract: 本发明提供了一种图像处理设备、图像处理方法、程序以及显示器,其中在高图片质量并且在不降低公共图像的对比度的情况下,高效地对秘密图像和公共图像进行显示。图像信号之一是秘密图像,该秘密图像在屏幕的部分区域中显示作为输入图像之一的输入秘密图像,当对所有输出图像的每一个像素的亮度值进行合计时,包括秘密图像在内的所有图像信号具有变为作为输入图像之一的输入公共图像的关系;并且在正在输出至少秘密图像期间,将放置在图像信号所输入到的显示器和用户眼睛之间的遮光器眼镜设置为光透射状态。
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公开(公告)号:CN102549492A
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN201080043048.0
申请日:2010-09-16
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G03B21/14 , F21S2/00 , G03B21/00 , F21Y101/02
CPC classification number: G03B21/2033 , G02B5/04 , G02B27/10 , G03B21/14 , G03B21/2013 , G03B21/2066 , G03B21/2073 , G03B33/06 , G03B33/12 , H04N9/3105 , H04N9/3167
Abstract: 一种光源装置,包括:第一光源(3a),该第一光源发出包括不同波长的多种颜色的第一偏振光;第二光源(3b),该第二光源发出第二偏振光,该第二偏振光的偏振状态不同于第一偏振光的偏振状态并且包括所述多种颜色之中的至少一种颜色的光;以及第一颜色合成光学元件(1),该第一颜色合成光学元件合成从第一光源(3a)发出的第一偏振光和从第二光源(3b)发出的第二偏振光。
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公开(公告)号:CN102187382A
公开(公告)日:2011-09-14
申请号:CN200980141791.7
申请日:2009-09-29
Applicant: 日本电气株式会社
CPC classification number: G09G3/002 , G09G3/346 , G09G3/3611 , G09G2310/02 , G09G2320/0247 , G09G2320/0261 , G09G2340/0435 , G09G2358/00 , H04N5/913 , H04N9/3167 , H04N9/3179 , H04N13/341 , H04N13/354 , H04N2013/403
Abstract: 本发明提供了一种图像显示系统,包括:显示装置(13),在不同的定时处显示至少两个显示状态,所述两个显示状态是第一显示状态和第二显示状态,在第一显示状态下,利用第一偏振光来显示第一图像并利用第二偏振光来显示第二图像,其中第二偏振光的偏振分量与第一偏振光的偏振分量不同,第二图像用于抵消第一图像,而在第二显示状态下,利用第一偏振光来显示第二图像并利用第二偏振光来显示第一图像;以及光学快门(14),在第一显示状态下透射第一偏振光并阻挡第二偏振光,以及在第二显示状态下透射第二偏振光并阻挡第一偏振光。
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公开(公告)号:CN101681076A
公开(公告)日:2010-03-24
申请号:CN200880021033.7
申请日:2008-06-18
Applicant: 日本电气株式会社
CPC classification number: G02F1/29 , G02F1/292 , G02F2201/122 , G02F2202/20
Abstract: 光开关通过向电光晶体(104)施加电场并且改变电光晶体(104)的折射率而在施加到电光晶体(104)的入射光(101)的透射和全反射之间执行切换。该光开关设置有布置在电光晶体(104)内部的多个电极(105),以构造用于向电光晶体(104)施加电场的电极部分(106)。折射率改变部分(图中未示出)包括整个电极部分(106),当通过在电光晶体(104)中的电极部分(106)施加了电场时,该折射率改变部分中的折射率改变。折射率改变部分的界面被形成为平坦的。
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公开(公告)号:CN100409087C
公开(公告)日:2008-08-06
申请号:CN02127779.6
申请日:2002-08-05
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02F1/136
CPC classification number: H01L29/78633 , G02F1/136209 , G02F1/136227 , H01L27/12
Abstract: 提供了一种TFT矩阵基底,它有效地阻挡了朝向TFT的有源层传播的光。具有图案的第一遮光层以这样一种方式形成于一个透明板和TFT之间,以便与TFT的有源层相重叠。形成具有图案的第三遮光层,以便覆盖相对于TFT来说是位于所述板的对侧上的TFT。第三遮光层具有沿着所述矩阵的行延伸的第一部分,以及沿着其列延伸的第二部分。具有图案的第二遮光层形成于所述第一遮光层和TFT之间。第二遮光层具有吸光特性,它会吸收进入所述基底内侧的光。可以在TFT和第三遮光层之间,额外提供一个形成图案的、具有吸光特性第四遮光层。
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公开(公告)号:CN1461041A
公开(公告)日:2003-12-10
申请号:CN03136416.0
申请日:2003-05-15
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/00 , G02F1/136
CPC classification number: H01L27/1288 , H01L23/544 , H01L27/1214 , H01L2223/54453 , H01L2924/0002 , Y10S438/942 , H01L2924/00
Abstract: 一种使光掩模之间彼此准确对齐所需要的定位图案(4);非晶硅(2),其沉积到绝缘层(12)的除形成有定位图案的区域外的整个表面,以及将离子注入的图案和定位图案(4)同时转移到光抗蚀剂层(3);使用光抗蚀剂掩膜(3)把掺杂剂杂质离子注入非晶硅层(2),使用光抗蚀掩膜(3)选择性蚀刻绝缘层(12);结果简化了工艺程序。
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