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公开(公告)号：CN110100041A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201780062678.4
申请日：2017-11-28
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述一种用于涂布柔性基板(10)的沉积设备(100)。此沉积设备包括第一线轴腔室(110)，其容纳用于提供柔性基板(10)的存储线轴(112)；沉积腔室(120)，其布置于第一线轴腔室(110)下游；及第二线轴腔室(150)，其布置于沉积腔室(120)下游，且容纳用于在沉积后缠绕柔性基板(10)于其上的绕紧线轴(152)。沉积腔室(120)包括用于引导柔性基板经过多个沉积单元(121)的涂布滚筒(122)，此多个沉积单元包括具有石墨靶(125)的至少一个沉积单元(124)。进一步来说，沉积腔室(120)包括涂布处理装置(160)，配置成用以致密化沉积于柔性基板上的一层。
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公开(公告)号：CN110100040A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201780053270.0
申请日：2017-11-28
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本发明描述一种用以涂布柔性基板(10)的沉积设备(100)。沉积设备包含容纳存储线轴(112)的第一线轴腔室(110)、布置于第一线轴腔室(110)的下游的沉积腔室(120)、以及布置于沉积腔室(120)的下游且容纳卷绕线轴(152)的第二线轴腔室(150)，存储线轴(112)用以提供柔性基板(10)，卷绕线轴(152)用以在沉积后使柔性基板(10)卷绕于其上。沉积腔室(120)包含用以导引柔性基板经过多个沉积单元(121)的涂布滚筒(122)，多个沉积单元(121)包含具有石墨靶(125)的至少一个沉积单元(124)。涂布滚筒连接至用以施加电位至涂布滚筒的装置(140)。
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公开(公告)号：CN212060021U
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201790001706.7
申请日：2017-05-15
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 公开了测量装置和压印设备。测量装置(100)适于测量像用于纳米压印光刻的光刻胶这样的待监控流体(200)的多个性质。测量装置(100)包括：流量电容器装置(101)，具有流体入口及流体出口，流量电容器装置(101)被构造成使待监控流体(200)能从流体入口至流体出口而通过流量电容器装置；以及评估单元(300)，电连接至流量电容器装置(101)，评估单元(300)适于在流体通过期间测定流量电容器装置(101)的电容。
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公开(公告)号：CN208501092U
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201721276952.1
申请日：2017-09-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 托马斯·德皮施 , 于尔根·乌尔里奇 , 苏珊娜·施拉弗 , 斯特凡·海因 , 斯特凡·劳伦兹 , 沃尔特·文德尔穆特 , 比约恩·斯蒂克瑟-韦斯 , 沃尔克·哈克 , 托尔斯滕·布鲁诺·迪特尔 , 尼尔·莫里森 , 乌韦·赫尔曼斯 , 德克·瓦格纳 , 赖纳·克拉 , 克里斯多夫·卡森 , 瓦莱里亚·梅特
Abstract: 描述一种用于使用层堆叠涂覆柔性基板(10)的沉积设备(100)。所述沉积设备包含：第一卷筒腔室(110)，容纳用于提供柔性基板的存储卷筒；沉积腔室(120)，布置在第一卷筒腔室的下游，并且包含用于引导柔性基板经过多个沉积单元(121)的涂布滚筒(122)；第二卷筒腔室，布置在沉积腔室(120)的下游，并且容纳卷绕卷筒,用于在沉积后在卷绕卷筒上卷绕柔性基板；和辊组件，经构造以沿着部分凸起和部分凹陷的基板输送路径将柔性基板(10)从第一卷筒腔室输送到第二卷筒腔室。
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