用于柔性基板的载体
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108350571A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201580084295.8

    申请日:2015-11-20

    IPC分类号: C23C14/56 C23C16/54

    CPC分类号: C23C14/562 C23C16/545

    摘要: 本公开内容提供了一种用于在真空处理腔室中支撑柔性基板(10)的设备(100)。设备(100)包括:涂布滚筒,所述涂布滚筒可围绕旋转轴线(105)旋转,其中涂布滚筒具有支撑表面(110),所述支撑表面(110)经构造以用于支撑柔性基板(10),其中支撑表面(110)是关于旋转轴线(105)对称的,并且其中在垂直于旋转轴线(105)的方向上在旋转轴线(105)与支撑表面(110)的中心部分(112)之间的第一距离(120)小于在旋转轴线(105)与支撑表面(110)的周边(114、116)之间的第二距离(122)。