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公开(公告)号:CN110004409B
公开(公告)日:2021-08-27
申请号:CN201910327298.X
申请日:2019-04-23
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种具有高硬度和高结合力的CrAlN纳米梯度涂层及其制备工艺,属于涂层制备技术领域。采用电弧离子镀和磁控溅射复合镀技术在基材上制备了CrAlN纳米梯度涂层,镀膜前先通入Ar气,采用‑600~1000V偏压,对基体进行辉光清洗10~30min,随后开启Cr靶,并逐渐降低偏压至‑20~‑100V,沉积金属Cr过渡层5~20min;通入N2,保持5~40min沉积CrN层;开启Al靶,使Al靶功率线性增加,沉积成分连续变化的CrAlN纳米梯度涂层。本发明涉及的CrAlN纳米梯度涂层组织致密,硬度高,与基体具有很高的结合力,制备工艺简单,重复性好,容易工业化生产。
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公开(公告)号:CN112626456A
公开(公告)日:2021-04-09
申请号:CN202110008667.6
申请日:2021-01-05
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种兼具高硬度和高韧性的ZrB2‑Ni涂层及其制备工艺,属于刀具涂层制备技术领域。该工艺是采用脉冲直流磁控溅射技术在基体材料上沉积ZrB2‑Ni涂层,沉积过程为:对基体表面进行辉光放电清洗和离子轰击清洗后,先沉积Zr过渡层,再开启连接ZrB2靶和Ni靶的脉冲直流磁控溅射电源,沉积ZrB2‑Ni涂层,控制Ni靶溅射功率0.4kW,ZrB2靶溅射功率1.3‑2.5kW,涂层沉积时间根据涂层厚度要求确定。通过改变ZrB2靶溅射功率调控ZrB2‑Ni涂层中Ni含量,该工艺通过向ZrB2涂层内适量掺杂具有良好延展性的金属Ni,在一定程度上改善了涂层韧性,同时保持了较高的硬度、临界载荷和优异的耐磨性能。
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公开(公告)号:CN112501553A
公开(公告)日:2021-03-16
申请号:CN202010999545.3
申请日:2020-09-22
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种Mo掺杂型AlCrSiN/Mo自润滑薄膜及其制备方法,属于薄膜及其制备技术领域。所述AlCrSiN/Mo自润滑薄膜是将Mo元素掺杂进AlCrSiN薄膜中制备而成,Mo元素的掺杂量为0.3~6.3at.%,该薄膜采用高功率脉冲磁控溅射和脉冲直流磁控溅射复合镀膜技术在基体上制备而成。所制备的AlCrSiN/Mo自润滑薄膜硬度高、韧性好,具备优良的减摩特性,可以显著降低刀‑屑间的摩擦,具有较好的化学稳定性及易剪切的润滑特性。
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公开(公告)号:CN111647851A
公开(公告)日:2020-09-11
申请号:CN202010541310.X
申请日:2020-06-15
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种兼具高硬度和高韧性Zr-B-N纳米复合涂层及其制备方法,属于纳米复合涂层制备技术领域。所述Zr-B-N纳米复合涂层包括非晶BN相和ZrB2晶相,其中ZrB2相沿(001)晶面择优生长。采用脉冲直流磁控溅射技术在金属或合金基体上沉积Zr-B-N纳米复合涂层。为提高涂层与基体的结合力,镀膜前先通入Ar气,利用电弧离子镀Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗,然后通入N2和H2的混合气体,沉积CrN过渡层。之后关闭Cr靶电源,将ZrB2靶连接到脉冲直流磁控溅射阴极,并在Ar、N2和H2的混合气氛中沉积Zr-B-N涂层。本发明涉及的Zr-B-N纳米复合涂层制备重复性好,并且容易工业化生产;制备出的Zr-B-N涂层具有较高的硬度和弹性模量,良好的耐磨性能,且组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
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公开(公告)号:CN111647849A
公开(公告)日:2020-09-11
申请号:CN202010523523.X
申请日:2020-06-10
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种高硬度AlCrSiN/AlCrN/AlCrON/AlCrN多层复合涂层及其制备,属于复合涂层制备技术领域。所述多层复合涂层是由AlCrSiN层、AlCrN层、AlCrON层和AlCrN层依次循环叠加而成,涂层调制周期为50-800nm,周期数≥4。该多层复合涂层均为面心立方结构,没有硬度低的六方相生成。本发明制备出的涂层组织结构致密、涂层与基体间的结合力强(与基材结合力大于95N),具有较高的硬度(大于30GPa)和强度,良好的耐磨损性能。
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公开(公告)号:CN119243096A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202410850936.7
申请日:2024-06-28
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种兼具高硬度、高韧性的Zr‑B‑C涂层及其制备方法,属于涂层技术领域。采用脉冲直流磁控溅射技术沉积所述Zr‑B‑C涂层,涂层组成为:C为28.5‑41.9at.%,B为14.7‑28.2at.%,Zr为20.9‑39.1at.%,O为3.1‑6.5at.%;沉积Zr‑B‑C涂层时采用ZrB2靶,并在Ar和C2H2混合气氛中进行,沉积温度370‑450℃,ZrB2靶功率为1.2‑1.8kW;通入Ar流量为100‑120sccm,C2H2流量为3‑18sccm。本发明通过工艺设计及优化C元素含量,制备出兼具高硬度和高韧性的Zr‑B‑C涂层。
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公开(公告)号:CN118388991A
公开(公告)日:2024-07-26
申请号:CN202410104240.X
申请日:2024-01-25
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
IPC: C09D7/62 , C09D163/00 , C09D5/08 , C09C1/40 , C09C3/06
Abstract: 本发明公开了一种基于钨酸根和铈离子的改性水滑石填料和水性环氧树脂防腐涂层,属于水性环氧树脂防腐涂层技术领域。本发明选取钙铝水滑石为前驱体,通过水热合成法在其中负载钨酸根离子(WO42‑)和铈离子(Ce3+),获得改性水滑石填料(LDH‑W‑Ce),并加入到水性环氧涂层中得到改性水滑石防腐涂层(WEP/LDH‑W‑Ce)。在3.5%wt.NaCl溶液中,与空白对照WEP涂层对比,WEP/LDH‑W‑Ce涂层具有较高的耐蚀性,腐蚀电流密度也有所下降。本发明步骤简便、操作简单,负载钨酸根与铈离子的水滑石提高了水性环氧涂层的阻隔防腐性能。
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公开(公告)号:CN116641057A
公开(公告)日:2023-08-25
申请号:CN202310631220.3
申请日:2023-05-31
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
IPC: C23F11/10
Abstract: 本发明公开了一种用于石油炼化系统常减压装置的复配缓蚀剂及其应用,属于金属材料腐蚀防护技术领域。该复配缓蚀剂是由植酸钠和苯并三氮唑按(9.5~11.5):(0.08~0.12)重量比例组成,所述复配缓蚀剂应用于含氯溶液中20SiMn钢的腐蚀防护,含氯溶液中加入复配缓蚀剂后,溶液中植酸钠浓度为9.5~11.5g/L,苯并三氮唑(BTA)浓度为0.08~0.12g/L。本发明复配缓蚀剂体系可有效提高含水原油中低合金钢对氯离子腐蚀的抵抗能力,且用量少操作简单,具有推广应用的潜力。
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公开(公告)号:CN114573876A
公开(公告)日:2022-06-03
申请号:CN202210196303.X
申请日:2022-03-01
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种植酸改性氧化石墨烯及其制备方法和水性环氧涂层,属于耐蚀涂层材料领域。本发明通过调解溶液pH值,选择植酸为前驱体,实现植酸在氧化石墨烯上的负载,得到改性氧化石墨烯填料;该填料加到水性环氧及固化剂中混合,固化后得到GO@PA/WEC涂层。在3.5%wt.NaCl溶液中,与空白水性环氧涂层WEC相比,GO@PA/WEC涂层的耐蚀性提高5倍以上,腐蚀电流密度降低至原来的20%以下,大幅度增强了涂层抵抗氯离子腐蚀的能力。本发明工艺简单易操作,负载了植酸官能团的氧化石墨烯提高了氧化石墨烯在水性环氧涂层中的分散性,显著提高了水性环氧涂层在海水环境下的耐蚀性。
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公开(公告)号:CN113832481A
公开(公告)日:2021-12-24
申请号:CN202111247666.3
申请日:2021-10-26
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
IPC: C25B1/27 , C25B11/077
Abstract: 本发明公开了一种富含氧缺陷的三氧化钼催化剂及其制备方法和在合成氨中的应用,属于氨合成反应催化剂技术领域。本发明采用H2(5%)/Ar混合气高温还原正常化学剂量比的MoO3,获得富含氧缺陷的电催化剂。与未处理的MoO3相比,引入氧缺陷后的催化剂在0.1mol的HCl环境中对电化学合成氨的催化活性有所提高,活性最高对应的电位正移,能量效率得到提升。
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