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公开(公告)号：CN111647851A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010541310.X
申请日：2020-06-15
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种兼具高硬度和高韧性Zr-B-N纳米复合涂层及其制备方法，属于纳米复合涂层制备技术领域。所述Zr-B-N纳米复合涂层包括非晶BN相和ZrB2晶相，其中ZrB2相沿(001)晶面择优生长。采用脉冲直流磁控溅射技术在金属或合金基体上沉积Zr-B-N纳米复合涂层。为提高涂层与基体的结合力，镀膜前先通入Ar气，利用电弧离子镀Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗，然后通入N2和H2的混合气体，沉积CrN过渡层。之后关闭Cr靶电源，将ZrB2靶连接到脉冲直流磁控溅射阴极，并在Ar、N2和H2的混合气氛中沉积Zr-B-N涂层。本发明涉及的Zr-B-N纳米复合涂层制备重复性好，并且容易工业化生产；制备出的Zr-B-N涂层具有较高的硬度和弹性模量，良好的耐磨性能，且组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
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公开(公告)号：CN111647851B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN202010541310.X
申请日：2020-06-15
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种兼具高硬度和高韧性Zr‑B‑N纳米复合涂层及其制备方法，属于纳米复合涂层制备技术领域。所述Zr‑B‑N纳米复合涂层包括非晶BN相和ZrB2晶相，其中ZrB2相沿(001)晶面择优生长。采用脉冲直流磁控溅射技术在金属或合金基体上沉积Zr‑B‑N纳米复合涂层。为提高涂层与基体的结合力，镀膜前先通入Ar气，利用电弧离子镀Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗，然后通入N2和H2的混合气体，沉积CrN过渡层。之后关闭Cr靶电源，将ZrB2靶连接到脉冲直流磁控溅射阴极，并在Ar、N2和H2的混合气氛中沉积Zr‑B‑N涂层。本发明涉及的Zr‑B‑N纳米复合涂层制备重复性好，并且容易工业化生产；制备出的Zr‑B‑N涂层具有较高的硬度和弹性模量，良好的耐磨性能，且组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
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公开(公告)号：CN111471973B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN202010541142.4
申请日：2020-06-15
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种还原性气氛中制备Zr‑B‑N纳米复合涂层的制备工艺，属于纳米复合涂层制备技术领域。采用脉冲直流磁控溅射技术在金属或合金基体上沉积Zr‑B‑N纳米复合涂层。为提高涂层与基体的结合力，镀膜前先通入Ar气，利用电弧离子镀Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗，然后通入N2和H2的混合气体，沉积CrN过渡层。之后关闭Cr靶，将ZrB2靶连接到脉冲直流磁控溅射阴极，并在Ar、N2和H2的混合气氛中起辉，开始沉积Zr‑B‑N涂层。本发明涉及的Zr‑B‑N纳米复合涂层制备重复性好，并且容易工业化生产；制备出的Zr‑B‑N涂层具有较高的硬度和弹性模量，良好的耐磨性能，且组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
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公开(公告)号：CN111471973A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN202010541142.4
申请日：2020-06-15
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种还原性气氛中制备Zr-B-N纳米复合涂层的制备工艺，属于纳米复合涂层制备技术领域。采用脉冲直流磁控溅射技术在金属或合金基体上沉积Zr-B-N纳米复合涂层。为提高涂层与基体的结合力，镀膜前先通入Ar气，利用电弧离子镀Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗，然后通入N2和H2的混合气体，沉积CrN过渡层。之后关闭Cr靶，将ZrB2靶连接到脉冲直流磁控溅射阴极，并在Ar、N2和H2的混合气氛中起辉，开始沉积Zr-B-N涂层。本发明涉及的Zr-B-N纳米复合涂层制备重复性好，并且容易工业化生产；制备出的Zr-B-N涂层具有较高的硬度和弹性模量，良好的耐磨性能，且组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
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