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公开(公告)号：CN114355621B
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202210262638.7
申请日：2022-03-17
Abstract: 本发明公开了一种基于面阵探测器和艾里斑细分的多焦点非标记差分超分辨成像方法与装置，激光器发出的光被偏振分光镜分为偏振方向互相垂直的两束光，两束光分别被SLM的左右两个半屏加载的相位掩膜调制，两束光分别为实心光束和空心光束；之后实心光束和空心光进行合束，合束后的光束再被分为第一子光束和第二子光束，分别包含实心光束和空心光束，以一定角度入射到扫描振镜模块，并被物镜聚焦，形成第一焦斑组合和第二焦斑组合，从而在焦面上形成四个焦斑。基于时域转化为空域的方法，使用面阵探测器代替单点探测器，在相对较低成本下，可以实现对艾里斑4进行40个以上探测器的细分。同时，采用多焦点激发，进一步提升了系统的成像效率。
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公开(公告)号：CN114077168B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210009224.3
申请日：2022-01-06
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明涉及光学技术领域，具体公开了一种基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像方法和装置，包括激光器、准直扩束系统、空间光调制器、4f缩束系统、二向色镜、显微物镜、微球、直写基底、三维可控精密位移台、照明光源、照明模块及相机等，所述的激光器出射光经过扩束准直后入射到加载有相位全息图的空间光调制器上面，调制后的光斑经过4f缩束系统入射到显微物镜，在显微物镜焦面形成聚焦光斑阵列同时捕获多个微球，利用微球强聚焦特性配合相位全息图变化，在直写基底上面进行任意图案的高通量超分辨激光直写；同时，微球结合显微物镜可对超分辨激光直写结构进行实时成像，图像由相机采集，实现基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像。
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公开(公告)号：CN114527630A
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202210417731.0
申请日：2022-04-21
Abstract: 本发明公开了一种二氧化锆微纳图案的飞秒激光直写方法，将异丙醇锆与有机酸反应得到光刻胶单体，将光刻胶单体与光引发剂按比例溶解，旋涂在基板上之后，可在飞秒激光的诱导下在选定的位置发生聚合，显影后形成光刻图案，将所得的图案在空气气氛中高温退火，得到二氧化锆微纳图案，该方法无需掩模版，可以快速简便地制造任意的二氧化锆微纳图案，可用于电路电容和半导体微器件等产品的制造加工。
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公开(公告)号：CN114415481A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
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公开(公告)号：CN114114674B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202210093399.7
申请日：2022-01-26
Abstract: 本发明公开了一种基于无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括两对光束偏转器、第一分光棱镜、第二分光棱镜、第一透镜、第二透镜、第一光电感应器、第二光电感应器和控制器等部件。本发明利用光束偏转器实现光束的位置和角度控制，完全消除控制执行部件中的机械运动，消除环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率（可以达到1 MHz以上）的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114326295A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202210250051.4
申请日：2022-03-15
Applicant: 之江实验室
Abstract: 氧化锌是一种半导体材料，可用于发光二极管，光电传感器等领域。本发明公开了一种氧化锌微纳图案的飞秒激光直写方法，将锌基光刻胶单体与双光子引发剂按比例溶解，旋涂后在飞秒激光的诱导下在选定的位置发生聚合，显影后形成设计的图案，将所得的图案在空气气氛中高温退火，可得到氧化锌的微纳图案，该方法可以快速简便地制造二氧化锌微纳图案，可用于半导体器件和光电传感器件的快速制造。
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公开(公告)号：CN113654656B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202111209478.1
申请日：2021-10-18
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种基于三光束干涉的光束漂移检测装置与方法，该装置包括分束镜、反射镜、道威棱镜、图像传感器等部件。装置将入射光束均分成三束光束，然后让三光束进行干涉形成干涉图案，将入射光束的微小角度与位置的变化转换为干涉图案的变化，位置角度变化将引起光栅条纹周期的变化，光束位置变化将引起干涉图案能量分布的变化。装置将结合图像传感器与分析算法，获得高精度光束漂移的检测，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持，可以广泛用于超分辨显微成像、高精度激光直写光刻等高精密激光技术中。
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公开(公告)号：CN114019766A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111266973.6
申请日：2021-10-28
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种利用千束独立可控PPI点阵进行高通量直写的装置，该装置主要包含激发光和抑制光两路光，激发光路包含核心元件数字微镜阵列DMD、微透镜阵列MLA和连续变形镜DM，抑制光路包括核心元件空间光调制器SLM。本发明利用微透镜阵列MLA产生千束激发光点阵，利用高速连续变形镜DM矫正系统波前像差，实现点阵分布均匀性和光斑质量的优化，利用数字微镜阵列DMD对点阵的开关、强度进行独立调控，抑制光路通过空间光调制器SLM产生四束光，四束光在物镜焦平面干涉产生的点阵暗斑用于涡旋抑制光，与激发光点阵在物镜焦平面重合后形成千束PPI点阵，可实现大面积复杂三维结构的超分辨高通量灵活刻写。
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公开(公告)号：CN113834515A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202110946914.7
申请日：2021-08-18
IPC: G01D21/00
Abstract: 本发明公开了一种高时空分辨双光子激光直写原位红外探测装置与方法，该装置基于光参量效应产生红外波段飞秒激光，脉冲时间短、峰值能量高；解决了传统双光子激光直写原位红外探测技术中时间分辨率低，无法实现超快动力学过程原位探测的问题。基于反射式物镜对红外飞秒激光进行聚焦，并结合共聚焦光学系统；解决了传统双光子激光直写原位红外探测技术中空间分辨率低，无法实现局部精细区域动力学过程原位探测的问题。本发明还公开了两种高时空分辨双光子激光直写原位红外探测方法，可以分别针对空间定点动力学过程，以及材料超快动力学过程进行原位探测，方法简单、适用面广、拓展性强。
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公开(公告)号：CN112705856B
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202011600782.4
申请日：2020-12-30
IPC: G06F17/00 , B23K26/362 , B23K26/40 , B23K26/70 , B23K101/36
Abstract: 本发明提供一种适用于双光束激光直写的三维模型解析规划方法、装置及设备，所述三维模型解析规划方法是针对以三角形面构成的STL格式的三维模型，将STL格式三维模型进行读取解析，同时进行拓扑重构；将导入的STL模型进行高度划分；而后进行等厚切片，对于模型进行分层切割即可生成一系列的顶点；后续通过存储STL格式三维模型的拓扑信息进行轮廓拼接将这些顶点生成一系列轮廓；进行轮廓的填充区域和非填充区域的标记；最后依据不同的扫描线算法进行路径规划，最终实现了在所述双光束激光直写平台上较好的三维光刻效果，并能实现参数调整产生不同特征的三维光刻结果。
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