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公开(公告)号：CN110813924B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN201911291678.9
申请日：2019-12-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。本发明通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动，对污染物进行收集，从而达到污染物去除的目的。
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公开(公告)号：CN106645197B
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN201611233039.3
申请日：2016-12-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/94
Abstract: 本发明公开了一种检测精密光学元件表面颗粒物的在线检测系统，包括：箱体，其顶部设置有可供激光进入的入光口；设置在箱体内部的光学元件；其中，所述光学元件的镜框边缘上方相对设置有2个线光源；所述箱体一侧设置有光学显微成像装置；所述成像装置通过与其通信连接的上位机进而实现对光学元件表面颗粒物的在线检测。本发明提供一种检测精密光学元件表面颗粒物的在线检测系统，其能够通过光学元件与线光源，上位机与光学显微成像装置的配合，实现对光机装置中光学元件表面颗粒污染物的在线监测，并高效、高精度地实时提供光学元件表(56)对比文件王世通.精密表面缺陷检测散射成像理论建模及系统分析研究.万方学位论文.2015,1-123.苗心向，等.激光装置污染物诱导光学元件表面损伤实验研究.中国激光.2015,第42卷(第06期),9-15.王科.光学元件表面疵病散射法检测技术研究.中国优秀硕士学位论文电子期刊工程科技Ⅱ辑.2016,(第04期),1-77.王玉增.颗粒显微图象二值化方法研究.济南大学学报.2003,(第2期),155-156.Darji R，等.Scattering corrections insmall particle imaging. Micron.1997,第28卷(第2期),95-100.程晓锋;徐旭;张林;贺群;袁晓东;蒋晓东;郑万国.基于高分辨力CCD的大口径光学元件疵病检测.强激光与粒子束.2009,(第11期),1677-1680.杨甬英;陆春华;梁蛟;刘东;杨李茗;李瑞洁.光学元件表面缺陷的显微散射暗场成像及数字化评价系统.光学学报.2007,(第06期),1031-1038.
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公开(公告)号：CN114082612B
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202111359915.8
申请日：2021-11-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种光学元件夹具切换机构，包括支撑体，所述支撑体上设有夹具定位部件，用于定位安装光学元件夹具，所述夹具定位部件具有转换窗口，所述支撑体上通过三坐标移动模组安装有中转台，所述中转台与转换窗口正对；当光学元件夹具定位安装在夹具定位部件上后，在三坐标移动模组的带动下，所述中转台能够朝靠近或远离夹具定位部件方向运动，并将光学元件夹具上的光学元件朝远离夹具定位部件的方向中转，或者将中转出来的光学元件安装在光学元件夹具上。本发明的有益效果是：能够将光学元件从清洗夹具转换至涂膜夹具上。
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公开(公告)号：CN114413794A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210109674.X
申请日：2022-01-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明公开了一种大口径KDP晶体最佳相位匹配角测量系统及其测量方法，包括依次设置的激光器、整形器、标准镜、凹透镜和CCD相机，激光器出射激光经整形器整形后垂直入射到凹透镜，从而产生从多个角度入射到待测KDP晶体表面的激光，CCD相机用于接收并记录由待测KDP晶体出射的激光；所述测量系统还包括激光自准直仪、晶体自准直仪和图像处理模块，激光自准直仪用于对标准镜及激光器出射激光进行准直，晶体自准直仪用于准直待测KDP晶体，图像处理模块能够读取CCD相机获取的图像并计算出对应的相位匹配角。本发明能够实现KDP晶体相位匹配角度的精确测量，具有自动化程度高，操作方便，测量准确等优点。
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公开(公告)号：CN114082612A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202111359915.8
申请日：2021-11-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种光学元件夹具切换机构，包括支撑体，所述支撑体上设有夹具定位部件，用于定位安装光学元件夹具，所述夹具定位部件具有转换窗口，所述支撑体上通过三坐标移动模组安装有中转台，所述中转台与转换窗口正对；当光学元件夹具定位安装在夹具定位部件上后，在三坐标移动模组的带动下，所述中转台能够朝靠近或远离夹具定位部件方向运动，并将光学元件夹具上的光学元件朝远离夹具定位部件的方向中转，或者将中转出来的光学元件安装在光学元件夹具上。本发明的有益效果是：能够将光学元件从清洗夹具转换至涂膜夹具上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110788862B
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201911135040.6
申请日：2019-11-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种面向大曲面高精度处理的机器人自动示教控制系统及方法，包括控制器和机械臂，所述机械臂输出端上安装有搭载块，在该搭载块搭载面经伸缩机构与示教块球铰连接，通过控制器控制机械臂、球铰、伸缩机构，使机械臂的输出端垂直于大曲面表面处理位置，当在示教过程中，可以通过控制系统快速实现大曲面表面轮廓的轨迹示教，为曲面精细化处理提供多点示教，更为机器人执行单元提供快速的数据信息。有益效果：通过示教系统和方法，预先获取大曲面表面处理轨迹过程中的多点示教信息，为机器人实施表面处理过程提供快速的轨迹规划，有效提高清洗精度。
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公开(公告)号：CN109061894A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201810910887.6
申请日：2018-08-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 清华大学
Abstract: 一种巨型光学平面反射阵列装置的超精密准直仪器及准直方法，包括基体装置，基体装置上有多个采用标准联接的接口为元件及检测仪器提供安装定位功能；在基体装置上水平安装有小口径反射元件阵列，在基体装置上竖直安装有小口径半透半反元件阵列，在基体装置上可安装一个在竖直面上二维运动的大口径反射元件，在基体装置上安装有可移动并精密调整的光学自准直仪。在对仪器进行了校准之后，在检测工位上安装待检测的巨型光学平面反射阵列装置，可完成对其各反射元件的准直操作。本发明既可以对极大口径的光学平面反射阵列进行检测并准直，也能够在大口径激光干涉仪难以使用的工程条件下开展工作，并能够实现较高的准直精度。
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公开(公告)号：CN108693189A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810284497.2
申请日：2018-04-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/88
CPC classification number: G01N21/8851 , G01N2021/8887
Abstract: 本发明公开了一种大口径熔石英光学元件基准标识的构建方法，按照以下步骤进行：S1：在熔石英元件表面上的非通光区加工有至少一个编号基准标识，该编号基准标识均由多个字符点一组成，每个编号基准标识的字符点一共同构成一个布莱尔盲文数字字符；S2：沿熔石英元件表面的边缘加工有阵列分布的坐标系基准标识，各个坐标系基准标识能够在熔石英元件表面构建直角网格坐标系，该坐标系基准标识均由多个字符点二组成，每个坐标系基准标识的字符点二共同构成一个布莱尔盲文数字字符。采用本发明公开的大口径熔石英光学元件基准标识的构建方法，具有快速识别大口径熔石英光学元件和精确定位大口径熔石英光学元件表面激光损伤的能力。
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公开(公告)号：CN105729493B
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201610243104.4
申请日：2016-04-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B25J15/06
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件的真空吸附抓取机构及其控制方法，包括机械手臂，所述机械手臂通过机械手法兰盘连接于固定盘上表面；在固定盘的下表面上沿边缘线均匀分布有多个朝下的真空吸盘，用于吸附待抓取的光学元件；所述固定盘的四周侧壁固接有至少两个平移气缸；该平移气缸呈纵向设置，在每个平移气缸的活塞杆上均连接有一个夹紧气缸，夹紧气缸的活塞杆呈水平设置并朝向光学元件侧面，平移气缸驱动夹紧气缸纵向运动，通过所述夹紧气缸侧向夹持所述光学元件；所述机械手臂、真空吸盘、平移气缸以及夹紧气缸均连接在控制装置上。本发明能够牢固地抓住光学元件并将其逐步稳妥地装入光学元件的安装框中，快速方便，不会损坏光学元件。
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公开(公告)号：CN106125166B
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201610585108.0
申请日：2016-07-22
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明公开了一种原位调控材料微结构制备熔石英微透镜阵列的方法，利用二氧化碳激光辐照熔石英样品形成材料微结构调控区阵列，然后采用氢氟酸溶液刻蚀熔石英样品，得到熔石英微透镜阵列。采用以上方案，极大简化了熔石英微透镜阵列的制作流程，避免了一系列复杂的微透镜成形辅助流程，简洁高效的同时实现了微透镜形貌的精确控制，不仅实现了圆形孔径的微透镜阵列的制造，而且实现了精确高效地制造高填充系数的异形孔径微透镜，制造的熔石英微透镜阵列表面光洁，激光损伤阈值高，尤其适用于强光环境下的应用。
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