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公开(公告)号：CN101266405B
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN200710088634.7
申请日：2007-03-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种拥有足够的流程余裕(Process Margin)，可以在1,500J/m2以下的曝光量之下得到形状完美以及足够厚度的间隔体，并持有根据压缩载荷的高度柔软性，以及优越的附着性，耐磨擦性，耐热性等，并可以形成剥离液耐受性优越的显示面板用间隔体的放射线敏感性树脂组合物。作为适用于液晶显示面板用间隔体的放射线敏感性树脂组合物，含有(A)(a1)含乙烯性不饱和羧酸以及/或者含乙烯性不饱和羧酸酐与(a2)其他含乙烯性不饱和之化合物的共聚物，(B)(b1)3官能以上的(甲基)丙烯酸酯类以及(b2)该(b1)以外的以其他含乙烯性不饱和之化合物为主要成分的聚合性化合物，以及(C)放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN101017323B
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200610086733.7
申请日：2006-06-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题，本发明提供一种用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：包括，[A]将下述(a1)～(a2)共聚而得到的共聚物，其中(a1)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，(a2)是(a1)成分以外的其它不饱和化合物；[B]聚合性不饱和化合物；和[C]以乙酮，1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃甲氧基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基)-，1-(O-乙酰基肟)所代表的特定结构的放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN101539723A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200910008068.3
申请日：2009-02-20
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/004 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供着色层形成用放射线敏感性组合物，该组合物即使在低曝光量下，也可以形成显影时不发生像素图案的缺损或脱落、并且无水斑(显影、水洗后像素图案上产生的斑点状色斑)的高品质的像素。一种着色层形成用放射线敏感性组合物，其特征在于：含有(A)着色剂、(B)碱溶性树脂、(C)多官能性单体、(D)光聚合引发剂、以及(E)N－羟基邻苯二甲酰亚胺所代表的特定的酰亚胺化合物。
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公开(公告)号：CN101266405A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200710088634.7
申请日：2007-03-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种拥有足够的流程余裕(Process Margin)，可以在1,500J/m2以下的曝光量之下得到形状完美以及足够厚度的间隔体，并持有根据压缩载荷的高度柔软性，以及优越的附着性，耐磨擦性，耐热性等，并可以形成剥离液耐受性优越的显示面板用间隔体的放射线敏感性树脂组合物。作为适用于液晶显示面板用间隔体的放射线敏感性树脂组合物，含有(A)(a1)含乙烯性不饱和羧酸以及/或者含乙烯性不饱和羧酸酐与(a2)其他含乙烯性不饱和之化合物的共聚物，(B)(b1)3官能以上的(甲基)丙烯酸酯类以及(b2)该(b1)以外的以其他含乙烯性不饱和之化合物为主要成分的聚合性化合物，以及(C)放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN101078879A
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN200710105178.2
申请日：2007-05-24
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/00 , G02F1/1339
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物，其特征在于，含有(A)嵌段共聚物、(B)聚合性不饱和化合物、(C)感放射线性聚合引发剂，其中(A)嵌段共聚物具有2个以上的嵌段链段，在其中的至少一个嵌段链段上含有碱可溶性部位。可以容易地形成高感度、高分辨率、并且图案形状、压缩特性、耐摩擦性、与透明基板的密合性等诸性能优异的图案状薄膜，抑制了LCD显示中的烧屏的间隔物形成用感放射线性树脂组合物，由该组合物形成的间隔物以及其形成方法。另外，还提供可以减少液晶滴加量所引起的未填充区域故障、防止在滤光片上由于压力所造成的损伤、克服在工序上产生的厚度偏差的间隔物形成用感放射线性树脂组合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1854896A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610072566.0
申请日：2006-04-07
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/20 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的课题在于提供一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题，本发明提供一种用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：该树脂组合物是包括，[A](a1)乙烯基不饱和羧酸和/或乙烯基不饱和羧酸酐和(a2)(a1)以外的乙烯基不饱和化合物形成的共聚物；[B]具有乙烯基不饱和键的聚合性化合物；和[C]光聚合引发剂的感光性组合物；且相对于100重量份[B]，[C]光聚合引发剂的含量为0.1～5重量份。
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公开(公告)号：CN116893575A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310362654.8
申请日：2023-04-07
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G02B3/00 , C07D495/04 , C07D491/048 , C07D327/06 , C07D307/89 , C07D409/14 , C07F9/655 , C07D307/92 , C07D311/92 , C07D307/00 , C07D411/12 , C07D407/12 , C07D311/96
Abstract: 本发明提供一种透镜的制造方法、感放射线性组合物、显示元件或装置、固体摄像元件、摄像装置及化合物，可通过由低温加热引起的流动化形成透镜形状，且可获得耐热性高、高折射率的透镜。通过如下方法制造透镜，所述方法包括：在基材上涂布感放射线性组合物而形成涂膜的工序；对涂膜的一部分照射放射线的工序；对照射了放射线的涂膜进行显影而在基材上形成图案的工序；以及对显影后的图案进行加热而形成透镜的工序。感放射线性组合物含有(A)成分：式(1)所表示的化合物、(B)成分：光聚合引发剂、以及(C)成分：具有聚合性碳‑碳不饱和键的化合物(其中，(A)成分除外)。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111352301A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201911299890.X
申请日：2019-12-17
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种如下的感放射线性树脂组合物以及使用其的微透镜的形成方法，即使进行140℃以下的加热处理也能够形成具有良好形状的微透镜，且灵敏度、保存稳定性、以及所形成的微透镜的耐化学品性及透明性也良好。本发明是一种感放射线性树脂组合物，含有如下聚合体、及感放射线性酸产生剂，所述聚合体具有：结构单元(a1)，含有选自由环状醚结构及环状碳酸酯结构所组成的群组中的至少一种；结构单元(a2)，含有选自由酚性羟基及下述式(1)所表示的基团所组成的群组中的至少一种；及结构单元(a3)，含有碳数为8以上且20以下的链状或环状的烷基，被用于全部形成工序中的最大加热温度为140℃以下的微透镜的形成。
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公开(公告)号：CN105143977B
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201480023657.8
申请日：2014-04-15
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种具有凹图案的基材的制造方法、组合物、导电膜的形成方法、电子电路及电子元件。本发明提供一种用于抑制膜形成油墨的濡湿扩散、洇渗而形成高精细图案的具有凹图案的基材的制造方法，一种用于制造所述基材的组合物，及一种导电膜的形成方法、电子电路及电子元件。具有凹图案的基材的制造方法包括以下步骤：(i)在基板(1)上涂布含有具有酸解离性基的聚合物及酸产生剂的组合物而形成涂膜(2)的步骤；以及(ii)对涂膜(2)的既定部分进行放射线照射的步骤。导电膜的形成方法中，对涂膜(2)的经曝光的部分中所形成的凹图案涂布导电膜形成油墨，进行加热，形成图案(6)。使用导电膜的形成方法来提供电子电路及电子元件。
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