公开(公告)号：CN105143977A

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201480023657.8

申请日：2014-04-15

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浜口仁 ,  田中健朗 ,  大喜多健三 ,  栗山敬佑

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明提供一种用于抑制膜形成油墨的濡湿扩散、洇渗而形成高精细图案的具有凹图案的基材的制造方法，且提供一种用于制造所述基材的组合物，并提供一种导电膜的形成方法、电子电路及电子元件。具有凹图案的基材的制造方法包括以下步骤：在基板1上(i)涂布含有具有酸解离性基的聚合物及酸产生剂的组合物而形成涂膜2的步骤；以及(ii)对涂膜2的既定部分进行放射线照射的步骤。导电膜的形成方法中，对涂膜2的经曝光的部分中所形成的凹图案涂布导电膜形成油墨，进行加热，形成图案6。使用导电膜的形成方法来提供电子电路及电子元件。

公开(公告)号：CN105143977B

公开(公告)日：2020-01-07

申请号：CN201480023657.8

申请日：2014-04-15

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浜口仁 ,  田中健朗 ,  大喜多健三 ,  栗山敬佑

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及一种具有凹图案的基材的制造方法、组合物、导电膜的形成方法、电子电路及电子元件。本发明提供一种用于抑制膜形成油墨的濡湿扩散、洇渗而形成高精细图案的具有凹图案的基材的制造方法，一种用于制造所述基材的组合物，及一种导电膜的形成方法、电子电路及电子元件。具有凹图案的基材的制造方法包括以下步骤：(i)在基板(1)上涂布含有具有酸解离性基的聚合物及酸产生剂的组合物而形成涂膜(2)的步骤；以及(ii)对涂膜(2)的既定部分进行放射线照射的步骤。导电膜的形成方法中，对涂膜(2)的经曝光的部分中所形成的凹图案涂布导电膜形成油墨，进行加热，形成图案(6)。使用导电膜的形成方法来提供电子电路及电子元件。