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公开(公告)号：CN1789296A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510128538.1
申请日：2005-11-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/32 , C08L33/14 , G02B5/20 , G02B1/10
Abstract: 本发明涉及一种组合物，其含有聚合物，该聚合物含有下述聚合单元：来自(a1)具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物、(a2)具有以甲基丙烯酸1－二乙基丙酯为代表的特定结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元及(a3)与上述聚合单元(a1)、(a2)不同的聚合单元。上述组合物能够形成保存稳定性优良、平坦性高的固化膜，而且，优选用于形成透明性及表面硬度高、耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性、蚀刻耐性等各种的耐性优良的光设备用保护膜。
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公开(公告)号：CN110168013B
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN201780082634.8
申请日：2017-09-13
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够制造通过抑制在料粒干燥步骤或漏斗等中的阻塞而生产性提升，并且成形体特性(硬度低、视认性良好、具有耐热性、成形外观良好等)优异的成形体的成形加工性优异的组合物及成形体。本发明的组合物含有碘价为2～150的热塑性树脂(A)、和水，所述组合物相对于所述组合物100质量份，含有100ppm～2000ppm的所述水，所述热塑性树脂(A)具有源于共轭二烯化合物的重复单元，且所述热塑性树脂(A)的结晶熔解峰值温度为50℃～95℃，并且结晶熔解热量为10J/g～40J/g。
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公开(公告)号：CN104995214A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480008770.9
申请日：2014-02-14
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C08F236/10 , C08C19/02 , C08C19/30 , C08F4/54 , C08F8/04 , C08F136/06 , C08F297/04 , C08K3/04 , C08K3/36 , C08L9/06 , C08L15/00 , C08L19/006 , C08L23/12 , C08L67/02 , C08L101/00 , C08F8/42 , C08L67/04 , C08L53/025 , C08L23/06
Abstract: 本发明提供一种氢化共轭二烯聚合物的制造方法，其可形成与填充剂混合时的分散性提高优异、混合后的滞后损耗减少优异、且与热塑性树脂等混合时的加工性优异、混合后的物性优异的聚合物合金。一种氢化共轭二烯聚合物的制造方法，其具有以下工序：在由具有式(x)和(y)中至少1种结构的胺化合物和碱金属化合物等金属化合物构成的聚合引发剂的存在下将共轭二烯化合物聚合而得到共轭二烯聚合物的工序，以及将上述共轭二烯聚合物加氢的工序。[式(x)、(y)中，R1为亚烃基，R1中的亚烃基只要不具有活性氢则可含有杂原子，A1为三烃基甲硅烷基，R2和R3为亚烃基，R2和R3中的亚烃基只要不具有活性氢则可含有杂原子，A2是如下的官能团：具有三烃基甲硅烷基，不具有活性氢，与R3键合的原子为N等]。
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公开(公告)号：CN102147570B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201010614014.4
申请日：2010-12-17
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法。本发明的目的是提供一种具有高的涂布性和图案形成性，所得固化物除了高的透明性和粘附性以外，还具有高的折射率，且具有正型的放射线敏感特性的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，由该组合物形成的图案化的固化膜及其形成方法。本发明为一种放射线敏感性组合物，其含有[A]硅氧烷聚合物、[B]金属氧化物颗粒、和[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂，上述[B]金属氧化物颗粒为选自铝、锆、钛、锌、铟、锡、锑和铈构成的群组中的至少一种金属的氧化物颗粒。该放射线敏感性组合物优选还含有分散剂。
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公开(公告)号：CN101328298B
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：CN200810128340.7
申请日：2005-11-28
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种组合物，其含有聚合物，该聚合物含有下述聚合单元：来自(a1)具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物、(a2)具有以甲基丙烯酸1-二乙基丙酯为代表的特定结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元及(a3)与上述聚合单元(a1)、(a2)不同的聚合单元。上述组合物能够形成保存稳定性优良、平坦性高的固化膜，而且，优选用于形成透明性及表面硬度高、耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性、蚀刻耐性等各种的耐性优良的光设备用保护膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102156387A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201010610519.3
申请日：2010-12-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物以及固化膜。本发明目的在于提供一种具有形成保护膜等的材料所必要的高涂布性、放射线敏感度、图案形成性、以及所得固化膜的透明性和密合性，并且具有高折射率的正型的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，以及由该组合物所形成的固化膜。本发明是一种放射线敏感性组合物，其含有[A]水解缩合物，该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅；以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]成分的水解缩合物，优选含有来自于(R1)n-Si-(OR2)4-n所表示的水解性化合物的部分，以及来自于(R3)m-M-(OR4)p-m所表示的水解性化合物的部分。
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公开(公告)号：CN101186740B
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200710186367.7
申请日：2007-11-14
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及固化性树脂组合物，该固化性树脂组合物含有包含下述聚合单元的共聚物：来自具有选自羧酸的缩醛酯结构、羧酸的缩酮结构、羧酸的1-烷基环烷基酯结构和羧酸的叔丁酯结构的至少一种结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元；来自具有氧杂环丁烷基的聚合性不饱和化合物的聚合单元；以及上述两种聚合单元以外的来自聚合性不饱和化合物的聚合单元。本发明提供即使是表面的平坦性低的基体，也可以在该基体上形成平坦性高的固化膜，并且适合在形成透明性和表面硬度高，耐热耐压性、耐酸性、耐碱性和耐溅射性等各种耐性优异的光学器件用保护膜中使用，并且组合物的保存稳定性优异的组合物。
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公开(公告)号：CN101646718A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200880010115.1
申请日：2008-03-21
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C09D183/10
Abstract: 本发明涉及固化性树脂组合物，该组合物含有：含有具选自环氧乙基、氧杂环丁基和烯丙基的至少一种官能基团的聚合性不饱和化合物的聚合物，以及含有可通过热与该聚合物发生交联反应的官能基团的滤色器保护膜用硅氧烷低聚物。该组合物即使是表面平整性低的基体，也可以在该基体上形成平整性高的固化膜，并且用于形成透明性和表面硬度高，耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性等各种耐性优异的光学装置用保护膜。
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公开(公告)号：CN101609256A
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200910149137.2
申请日：2009-06-17
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明是涉及一种保护膜形成用感射线性树脂组合物及保护膜的形成方法，该树脂组合物作为保护膜的透明度高、与透明导电膜间的粘着性优越、高硬度，且耐摩擦性优越。一种触摸面板的保护膜形成用感射线性树脂组合物，其特征在于包含：(A)碱溶性树脂、(B)在1分子中具有1个羧基的乙烯类不饱和化合物、(C)感射线性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN100506863C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200510128538.1
申请日：2005-11-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/32 , C08L33/14 , G02B5/20 , G02B1/10
Abstract: 本发明涉及一种组合物，其含有聚合物，该聚合物含有下述聚合单元：来自(a1)具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物、(a2)具有以甲基丙烯酸1-二乙基丙酯为代表的特定结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元及(a3)与上述聚合单元(a1)、(a2)不同的聚合单元。上述组合物能够形成保存稳定性优良、平坦性高的固化膜，而且，优选用于形成透明性及表面硬度高、耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性、蚀刻耐性等各种的耐性优良的光设备用保护膜。
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