基板处理装置
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107275258B

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN201710200850.X

    申请日:2017-03-30

    Abstract: 提供能够抑制基板产生品质不良的基板处理装置。实施方式的基板处理装置(10)具有:保持基板的基板保持板(20);处理液保持板(40),具有排出处理液S的排出口(40a),并设于与由基板保持板(20)保持的基板W的表面对置并离开的位置,在与由基板保持板(20)保持的基板W的表面之间保持从排出口(40a)排出的处理液S;加热器(41),设于处理液保持板(40),加热处理液保持板(40);升降机构(60),使处理液保持板(40)以及加热器(41)相对于由基板保持板(20)保持的基板升降;及疏液层(43),以包围排出口(40a)的方式呈环状设置于处理液保持板(40)的基板W侧的表面,并排斥处理液S。

    基板输送装置、基板处理装置以及基板处理方法

    公开(公告)号:CN112951750B

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202110213053.1

    申请日:2017-03-31

    Inventor: 古矢正明

    Abstract: 本发明涉及基板输送装置、基板处理装置和基板处理方法,能够缩短基板输送时间。作为实施方式的基板输送装置发挥功能的第2输送机器人(14)具备:第1把持板(21);第1爪部(21b),被该第1把持板支撑,相对于第1把持板的表面在上下具有与基板(W)的外周面抵接的抵接面;第2把持板(22),被设置成与第1把持板重叠;第2爪部(22b),被该第2把持板支撑,相对于第1把持板的表面在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面;和把持部(23),以使第1爪部以及第2爪部在与基板的外周面相交的方向上接近或分离的方式,使第1把持板以及第2把持板相对移动。

    基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:CN109585339B

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN201811145723.5

    申请日:2018-09-29

    Abstract: 本发明提供一种能够提高生产性的基板处理装置及基板处理方法。实施方式的基板处理装置(10)具有:开闭单元(11),作为收纳基板(W)的收纳容器发挥作用;多个处理室(17a),用于对基板(W)进行处理;缓冲单元(14),位于开闭单元(11)和处理室(17a)之间,作为用于放置在处理室(17a)进行了处理的基板(W)或者未处理的基板(W)的交接台发挥作用;第2输送机器人(15),作为从缓冲单元(14)输送基板(W)的输送部发挥作用;以及移动机构(16),根据与基板(W)的处理相关的基板处理信息,使缓冲单元(14)及第2输送机器人(15)沿多个处理室(17a)排列的列方向单独移动。

    基板处理装置
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110323159A

    公开(公告)日:2019-10-11

    申请号:CN201910248042.X

    申请日:2019-03-29

    Inventor: 古矢正明

    Abstract: 本发明的目的是提供一种能够缩短在基板处理中花费的整体时间的基板处理装置。有关实施方式的基板处理装置(1)具备:多个夹紧部(3d),设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起旋转,以各个销旋转轴(A2)为中心旋转,由各个销(21)把持基板(W);同步环(外轮(24a)及母齿轮(3f)),设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起及单独地旋转,使各个夹紧部(3d)以各个销旋转轴(A2)为中心同步地旋转;惯性环(44),设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起及单独地旋转;以及连杆臂(46),以使同步环的以基板旋转轴(A1)为中心的惯性力矩及惯性环(44)的以基板旋转轴(A1)为中心的惯性力矩均衡的方式使同步环及惯性环(44)联接。

    基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:CN108140572A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680058403.9

    申请日:2016-09-30

    CPC classification number: H01L21/306

    Abstract: 一种处理至少形成有氮化膜和氧化膜的基板的基板处理装置,所述基板处理装置具有:磷酸水溶液贮留部,其将磷酸水溶液贮留;磷酸水溶液供给部,其通过磷酸水溶液供给配管将磷酸水溶液供给至所述磷酸水溶液贮留部;二氧化硅添加剂供给部,其通过二氧化硅添加剂供给配管将二氧化硅添加剂供给至所述磷酸水溶液贮留部;水供给部,其通过水供给配管将水供给至所述磷酸水溶液贮留部;和处理部,其通过贮留在所述磷酸水溶液贮留部中的所述磷酸水溶液来处理所述基板;所述二氧化硅添加剂供给配管连接在所述水供给配管的中途,即使是使用了二氧化硅添加剂的处理,也可以用适当的二氧化硅浓度来实行基板处理。

    基板输送装置、基板处理装置以及基板处理方法

    公开(公告)号:CN107275270A

    公开(公告)日:2017-10-20

    申请号:CN201710206582.2

    申请日:2017-03-31

    Inventor: 古矢正明

    Abstract: 本发明涉及基板输送装置、基板处理装置和基板处理方法,能够缩短基板输送时间。作为实施方式的基板输送装置发挥功能的第2输送机器人(14)具备:第1把持板(21);第1爪部(21b),被该第1把持板支撑,相对于第1把持板的表面在上下具有与基板(W)的外周面抵接的抵接面;第2把持板(22),被设置成与第1把持板重叠;第2爪部(22b),被该第2把持板支撑,相对于第1把持板的表面在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面;和把持部(23),以使第1爪部以及第2爪部在与基板的外周面相交的方向上接近或分离的方式,使第1把持板以及第2把持板相对移动。

    被处理物的处理系统及被处理物的处理方法

    公开(公告)号:CN102956531B

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201210286785.4

    申请日:2012-08-13

    Abstract: 本发明提供一种被处理物的处理系统及被处理物的处理方法,该被处理物的处理系统具备:收纳部,收纳被处理物;处理部,对所述被处理物实施处理;承载部,在层叠方向上隔着第1间隔具有多个承载所述被处理物的保持部;第1搬送部,在所述收纳部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送,在所述层叠方向上的第1位置进入所述承载部;及第2搬送部,在所述处理部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送,在所述层叠方向上的与所述第1位置不同的第2位置进入所述承载部。而且,所述第1位置夹着所述第2位置在所述层叠方向上设置有2处,所述第1搬送部与所述第2搬送部能够同一时候进入所述承载部。

    自旋处理装置
    29.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104465359A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410497873.8

    申请日:2014-09-25

    Inventor: 古矢正明

    Abstract: 一种自旋处理装置,能够抑制灰尘的发生及夹持时的基板位置的偏移。实施方式的自旋处理装置使基板旋转来进行处理,具备:至少三个夹持销,分别与基板的外周面抵接来把持基板;能够旋转的多个销旋转体,对各夹持销分别设置该销旋转体,该销旋转体将夹持销从与基板的旋转轴平行的该销旋转体本身的旋转轴偏心地进行保持;多个磁齿轮,该磁齿轮按各销旋转体分别设置在该销旋转体的外周面上,磁极沿着销旋转体的旋转轴的轴方向形成为螺旋状;多个旋转用磁铁,对各磁齿轮分别设置该旋转用磁铁,该旋转用磁铁被定位成与磁齿轮的磁极相互吸引;以及移动机构,使多个旋转用磁铁沿着销旋转体的旋转轴的轴方向移动。

    图像显示装置的制造方法以及分断方法

    公开(公告)号:CN101078831B

    公开(公告)日:2012-04-04

    申请号:CN200710104588.5

    申请日:2007-05-25

    CPC classification number: G02F1/133351 H01L21/78

    Abstract: 为了实现适当地分断构成图像显示装置的器件的目的,本发明提供了一种具有布线(2)和与该布线(2)电连接的显示元件的图像显示装置的制造方法,该方法具有在预定的分断位置分断包括布线(2)和保持该布线(2)的基板(1)的器件的步骤,而且,该步骤具有在分断位置分断基板(1)的步骤和在分断位置分断布线(2)的步骤,按照与分断基板(1)的步骤不同的方法来进行布线(2)的分断步骤。

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