一种碳化硅功率器件终端结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN113140612B

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202010055038.4

    申请日:2020-01-17

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种碳化硅功率器件终端结构及其制备方法,该终端结构包括:N型碳化硅衬底;形成于N型碳化硅衬底一侧的N型碳化硅外延层,N型碳化硅外延层背离N型碳化硅衬底的一侧形成有沿平行N型碳化硅衬底方向排列的P+区、第一JTE区以及第二JTE区,第一JTE区与第二JTE区不同层设置;形成于N型碳化硅外延层背离N型碳化硅衬底一侧的介质钝化层,第一JTE区或者第二JTE区与介质钝化层接触。上述终端结构中第一JTE区与第二JTE区位于不同层,第一JTE区与第二JTE区中的一个与介质钝化层接触,减小了JTE区与介质钝化层之间的接触面积,可降低介质钝化层界面电荷对JTE终端耐压的影响。

    一种防止智能功率模块溢胶的方法

    公开(公告)号:CN113113315B

    公开(公告)日:2023-03-31

    申请号:CN202010031012.6

    申请日:2020-01-13

    Abstract: 本发明涉及功率模块的领域,公开一种防止智能功率模块溢胶的方法,包括:提供一正面和背面均形成有金属层的DBC基板;将引线框架与DBC基板正面的金属层连接,且在DBC基板背面的金属层一侧形成保护膜;将形成有保护膜的DBC基板与所述引线框架注塑成型以形成模块;由于在DBC基板的背面金属层形成有保护膜,使得在将形成有保护膜的DBC基板与所述引线框架注塑成型以形成模块时,对DBC基板的背面金属层进行保护,使得在注塑成型形成模块的过程中,不会有注塑成型中胶体物质与DBC基板的背面金属层接触,从而保证了DBC基板的背面金属层的正常工作,提高了功率模块的散热性能。

    半导体装置及其制造方法
    25.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113053750B

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN201911375713.5

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本公开提供了一种半导体装置及其制造方法,涉及半导体技术领域,所述方法包括:在衬底上依次形成叠置的多个外延层,每个外延层和所述衬底具有第一导电类型,每个外延层包括掺杂区,相邻的外延层中的所述掺杂区彼此邻接,其中:形成每个外延层包括:对外延层进行掺杂以形成初始掺杂区,所述初始掺杂区具有与第一导电类型不同的第二导电类型;执行退火,以使得所述初始掺杂区变为中间掺杂区;对所述中间掺杂区的边缘部分进行刻蚀,以形成贯穿所述中间掺杂区的沟槽,所述中间掺杂区的剩余部分作为所述掺杂区;和在所述沟槽中形成填充材料。

    一种防止智能功率模块溢胶的方法

    公开(公告)号:CN113113315A

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN202010031012.6

    申请日:2020-01-13

    Abstract: 本发明涉及功率模块的领域,公开一种防止智能功率模块溢胶的方法,包括:提供一正面和背面均形成有金属层的DBC基板;将引线框架与DBC基板正面的金属层连接,且在DBC基板背面的金属层一侧形成保护膜;将形成有保护膜的DBC基板与所述引线框架注塑成型以形成模块;由于在DBC基板的背面金属层形成有保护膜,使得在将形成有保护膜的DBC基板与所述引线框架注塑成型以形成模块时,对DBC基板的背面金属层进行保护,使得在注塑成型形成模块的过程中,不会有注塑成型中胶体物质与DBC基板的背面金属层接触,从而保证了DBC基板的背面金属层的正常工作,提高了功率模块的散热性能。

    半导体装置及其制造方法
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113053750A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN201911375713.5

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本公开提供了一种半导体装置及其制造方法,涉及半导体技术领域,所述方法包括:在衬底上依次形成叠置的多个外延层,每个外延层和所述衬底具有第一导电类型,每个外延层包括掺杂区,相邻的外延层中的所述掺杂区彼此邻接,其中:形成每个外延层包括:对外延层进行掺杂以形成初始掺杂区,所述初始掺杂区具有与第一导电类型不同的第二导电类型;执行退火,以使得所述初始掺杂区变为中间掺杂区;对所述中间掺杂区的边缘部分进行刻蚀,以形成贯穿所述中间掺杂区的沟槽,所述中间掺杂区的剩余部分作为所述掺杂区;和在所述沟槽中形成填充材料。

    一种半导体功率器件及制备方法
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112447832A

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:CN201910803935.6

    申请日:2019-08-28

    Abstract: 本发明涉及检测的技术领域,公开一种半导体功率器件及制备方法,该半导体功率器件,包括:衬底、形成于衬底内的结构层、形成于衬底一侧表面的金属连接层;其中:衬底包括沿衬底厚度方向排列的P型层和位于P型层背离金属连接层一侧的N型层以形成P‑N结,衬底形成有开口位于P型层背离N型层一侧表面的电阻沟槽;金属连接层包括测温电阻引出端;结构层包括测温电阻,测温电阻位于电阻沟槽内,测温电阻朝向金属连接层的一端与测温电阻引出端连接、且远离金属连接层的一端伸入至N型层内,且测温电阻与P型层和N型层之间绝缘,能够解决现有技术中对功率器件工作时温度不准确的技术问题。

    一种终端结构制造方法
    29.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112447821A

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:CN201910824911.9

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 本发明涉及半导体器件领域,具体而言,涉及一种终端结构制造方法,包括在半导体衬底表面设置场氧化层,所述场氧化层厚度范围为1微米至2微米;在所述场氧化层表面沉积氧化硅薄膜,所述氧化硅薄膜厚度范围为10纳米至50纳米;采用湿法刻蚀工艺对所述场氧化层及氧化硅薄膜进行刻蚀,根据所述场氧化层及氧化硅薄膜之间的刻蚀速率差使所述场氧化层形成斜面台阶结构;在所述斜面结构进行离子注入掺杂、热扩散激活及PN结推进,本方案通过在场氧化层表面设置氧化硅薄膜,根据场氧化层及氧化硅薄膜之间的刻蚀速率差使场氧化层形成斜面台阶结构,有利于终端扩散结的边缘渐变,有利于调节PN结表面的电场,提高PN结的耐压和击穿特性。

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