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公开(公告)号：CN110672034A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201910999860.3
申请日：2017-01-17
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明的一个方面的光学测量装置(1)包括：光源(10)，其产生具有多个波长成分的照射光；传感器头部(30)，其使从光源发出的照射光产生轴向色差，并接收从至少一部分配置在光轴的延长线上的测量对象(2)反射的反射光；光接收部(40)，其将由传感器头部接收的反射光分离成各波长成分，并接收各波长成分的光；导光部(20)，其将光源(10)、光接收部以及传感器头部光学性地连接；以及处理部(50)，其基于光接收部中的各波长成分的受光量，计算从光学系统到测量对象的距离。处理部将光接收波形中的多个波长成分的各受光量与受光量的基准值比较，基于该比较结果，判断是否正常测定到所述测量对象的所述距离。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107228635B
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201710034921.3
申请日：2017-01-17
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明的一个方面的光学测量装置(1)包括：光源(10)，其产生具有多个波长成分的照射光；传感器头部(30)，其使从光源(10)发出的照射光产生轴向色差，并接收从至少一部分配置在光轴的延长线上的测量对象(2)反射的反射光；光接收部(40)，其将由传感器头部(30)接收的反射光分离成各波长成分，并接收各波长成分的光；导光部(20)，其将光源(10)、光接收部(40)以及传感器头部(30)光学性地连接；以及处理部(50)，其基于光接收部(40)中的各波长成分的受光量，计算从光学系统到测量对象的距离。处理部(50)将光接收波形中的多个波长成分的各受光量与受光量的基准值比较，当多个波长成分中的每个波长成分的所述受光量相对于基准值的变化量均为预设的阈值以上时，检测出所述光接收波形的异常。
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公开(公告)号：CN104797904A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201380059806.1
申请日：2013-11-14
Applicant: 欧姆龙株式会社
CPC classification number: G01B11/026 , G01B2210/50 , G01C3/06
Abstract: 本发明提供一种作为位移测量装置的共焦点测量装置(100)。该共焦点测量装置(100)具有：白色LED(21)，出射多个波长的光；头部(10)，以衍射透镜(2)、物镜(3)、开口作为共焦点光学系统而构成；移动机构(40)，使头部(10)沿着共焦点测量装置(100)的测量轴(Z轴)方向移动；测量部(控制器部(20))。共焦点测量装置(100)使头部(10)与测量对象物(200)之间的距离变化，来取得通过开口的光的光谱的极大点。共焦点测量装置(100)将该极大点成为分光反射特性的极大点或者极小点时的距离，设定为当测量位移时的头部(10)与测量对象物之间的基准距离。
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公开(公告)号：CN102252220A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110064729.1
申请日：2011-03-14
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: F21S8/00 , F21V19/00 , F21V23/06 , F21Y101/02
CPC classification number: G01N21/8806 , F21K9/20 , F21K9/90 , F21Y2103/33 , F21Y2107/00 , F21Y2115/10 , G03B15/05 , G03B2215/0539 , G03B2215/0567 , G03B2215/0575 , H05B33/0827 , H05K1/0278 , H05K1/028 , H05K1/0281 , H05K1/189 , H05K3/0052 , H05K3/0058 , H05K2201/09081 , H05K2201/10106 , H05K2203/0228 , H05K2203/302 , Y10T29/49002
Abstract: 提供能够抑制成本而且能够制造出规格不同的多种照明装置的制造方法。基板(10)包括具有可挠性的共用部分(10A)，及能够相对于共用部分(10A)弯曲的多个单元(14)，共用部分(10A)在纸面的横向上延伸，该共用部分(10A)包括每隔预先规定的间隔而配置的垫片(12)。在本制造方法中，在第一方向上切断安装有发光元件的基板(10)从而制成基板片，根据应当制造的照明装置使基板片所包括的共用部分(10A)成型，对个别部分(10B)相对于成型后的共用部分(10A)的相对位置分别进行定位，并且形成用于对基板片所包括的垫片(12)供电的布线。
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公开(公告)号：CN1912613A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200610110748.2
申请日：2006-08-08
Applicant: 欧姆龙株式会社
CPC classification number: G01N29/11 , G01N29/2468 , G01N2291/0258 , G01N2291/02836 , G01N2291/0423 , G01N2291/045
Abstract: 本发明提供了一种能够在橡胶等粘弹性体的实际使用状态中预测及测定摩擦特性的变化的设备。摩擦特性测定设备(100)由传感器部(2)将使测定对象发生振动的声波作为入射声波而发射，并用传感器部(2)接收声波由测定对象被反射而产生的反射声波。而后，运算处理部(1)基于由传感器部(2)接收的反射声波而导出测定对象的粘弹性特性中的损耗因数。进而，运算处理部(1)由所导出的损耗因数利用规定的换算常数计算出摩擦特性。另外，运算处理部(1)预先在不存在测定对象的状态下发射入射声波，并将其反射声波作为基准值而进行存储。
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公开(公告)号：CN2622674Y
公开(公告)日：2004-06-30
申请号：CN03203340.0
申请日：2003-02-17
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01B21/06
CPC classification number: G01B11/026
Abstract: 可几乎不受反射强度不匀影响而进行高精度快速位移测量的位移传感器，具备：投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(3、5、7)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中，在反射光束被第2聚光元件聚焦的位置因光程扫描机构而变化时，使遮住反射光束部分的比例改变。受光元件接收通过遮光掩模的光束，根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号，取得到被测物体距离的信息。
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