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公开(公告)号：CN1249403C
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN03106006.4
申请日：2003-02-17
Applicant: 欧姆龙株式会社
CPC classification number: G01B11/026
Abstract: 能进行高精度位移测量、并能缩短测量时间的位移传感器，具备：投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(7、5、3)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)、及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中，受光元件接收通过遮光掩模的光束，根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号，取得被测物体的距离信息。
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公开(公告)号：CN108534682B
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201711379400.8
申请日：2017-12-19
Applicant: 欧姆龙株式会社
Abstract: 本发明提供一种便利性优异的共焦测量装置。共焦测量装置(1)包括：光源(10)；光学系统(30)，接收来自测量面的反射光；导光部(20)，内置包含第1芯线(26)及第2芯线(28)的多根芯线，通过所述多根芯线来传播所述反射光；位移量测定部(40)，具备分光器(42)及检测器(44)，所述分光器(42)将经所述第1芯线传播的所述反射光分离为各波长成分，所述检测器(44)对应于所述分光器的分光方向而配置有多个受光元件；以及周边图像测定部(60)，将经所述第2芯线传播的所述反射光成像于多个摄像元件上，生成所述测量面的测量位置的周边的图像。
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公开(公告)号：CN108507487B
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201711161577.0
申请日：2017-11-20
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明的光学计测装置不论计测对象物的表面形状如何，均可准确地计测出计测对象物的表面形状。处理部(70、70b)对于与各个芯材(241、242、…、24N)对应的各个反射光，根据反射光来算出光学系统(40)与计测对象物(80)的距离。对于各个反射光，将表示距离的值与阈值进行比较。当在与所有芯材(241、242、…、24N)对应的反射光中，表示距离的值为阈值以上、或表示距离的值小于阈值时，算出所有表示距离的值的平均值。当在与一部分芯材对应的反射光中，表示距离的值为阈值以上，而在与一部分芯材以外的芯材对应的反射光中，表示距离的值小于阈值时，算出阈值以上的表示距离的值的平均值、或小于阈值的表示距离的值的平均值。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN108534682A
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201711379400.8
申请日：2017-12-19
Applicant: 欧姆龙株式会社
Abstract: 本发明提供一种便利性优异的共焦测量装置。共焦测量装置(1)包括：光源(10)；光学系统(30)，接收来自测量面的反射光；导光部(20)，内置包含第1芯线(26)及第2芯线(28)的多根芯线，通过所述多根芯线来传播所述反射光；位移量测定部(40)，具备分光器(42)及检测器(44)，所述分光器(42)将经所述第1芯线传播的所述反射光分离为各波长成分，所述检测器(44)对应于所述分光器的分光方向而配置有多个受光元件；以及周边图像测定部(60)，将经所述第2芯线传播的所述反射光成像于多个摄像元件上，生成所述测量面的测量位置的周边的图像。
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公开(公告)号：CN108507487A
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201711161577.0
申请日：2017-11-20
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明的光学计测装置不论计测对象物的表面形状如何，均可准确地计测出计测对象物的表面形状。处理部(70、70b)对于与各个芯材(241、242、…、24N)对应的各个反射光，根据反射光来算出光学系统(40)与计测对象物(80)的距离。对于各个反射光，将表示距离的值与阈值进行比较。当在与所有芯材(241、242、…、24N)对应的反射光中，表示距离的值为阈值以上、或表示距离的值小于阈值时，算出所有表示距离的值的平均值。当在与一部分芯材对应的反射光中，表示距离的值为阈值以上，而在与一部分芯材以外的芯材对应的反射光中，表示距离的值小于阈值时，算出阈值以上的表示距离的值的平均值、或小于阈值的表示距离的值的平均值。
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公开(公告)号：CN1448692A
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN03106006.4
申请日：2003-02-17
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01B21/06
CPC classification number: G01B11/026
Abstract: 能进行高精度位移测量、并能缩短测量时间的位移传感器，具备：投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(7、5、3)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)、及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中，受光元件接收通过遮光掩模的光束，根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号，取得被测物体的距离信息。
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公开(公告)号：CN2622674Y
公开(公告)日：2004-06-30
申请号：CN03203340.0
申请日：2003-02-17
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01B21/06
CPC classification number: G01B11/026
Abstract: 可几乎不受反射强度不匀影响而进行高精度快速位移测量的位移传感器，具备：投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(3、5、7)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中，在反射光束被第2聚光元件聚焦的位置因光程扫描机构而变化时，使遮住反射光束部分的比例改变。受光元件接收通过遮光掩模的光束，根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号，取得到被测物体距离的信息。
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