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公开(公告)号：CN111690909A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN202010150050.3
申请日：2020-03-06
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: C23C16/448 , C23C16/52
Abstract: 用于提供在不增设新的传感器等的情况下，准确地推定汽化罐内的原料的消耗量，且能够进行与原料的剩余量对应的高精度的浓度控制的浓度控制装置，其在汽化器中对原料气体的浓度进行控制，汽化器至少具备：容纳液体或固体的原料的汽化罐、向汽化罐供给载气的载气供给通路、以及供由原料汽化而从汽化罐导出的原料气体流通的原料气体导出通路，浓度控制装置具备：浓度监测器，其设置于原料气体导出通路，输出与原料气体的浓度对应的输出信号；浓度计算部，其基于来自浓度监测器的输出信号，来计算原料气体的浓度；以及原料消耗量计算器，其基于计算浓度和载气的流量，来计算作为原料气体而导出到原料气体导出通路的原料的消耗量。
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公开(公告)号：CN105651729B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201510857091.5
申请日：2015-11-30
Applicant: 株式会社堀场STEC
Inventor： 南雅和
Abstract: 本发明提供分解检测装置、浓度测量装置和浓度控制装置，所述分解检测装置结构简单，并能检测在半导体材料气化后的材料气体中是否发生了分解。该分解检测装置包括：NDIR方式或激光吸收光谱方式的吸光度测量机构(1)，其对包含半导体材料气化后的材料气体的混合气体测量第一吸光度和第二吸光度，该第一吸光度是所述半导体材料吸收的波长的吸光度，该第二吸光度是所述半导体材料分解时产生的物质吸收的波长的吸光度；以及分解检测部(4)，其基于第一浓度和第二浓度之比来检测所述材料气体的分解，该第一浓度是基于所述第一吸光度和所述第二吸光度来计算，该第二浓度是基于所述第二吸光度来计算。
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公开(公告)号：CN109519706A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201811093056.0
申请日：2018-09-19
Applicant: 株式会社堀场STEC
Abstract: 本发明提供不降低维护性而能缩短配管、提高响应性的浓度控制装置。其向储存材料的储存罐导入载气，并对材料气体的浓度进行控制，材料气体作为与载气的混合气体而从储存罐被导出且由材料气化而成，具备：第一单元，控制向储存罐导入的载气的流量；第二单元，检测从储存罐导出的材料气体的浓度，第一单元具备：第一块部，在内部具有供载气流通的载气流路；第一流量传感器，检测在载气流路中流通的载气的流量；第一流量控制阀，基于第一流量传感器的检测值，控制在载气流路中流通的载气的流量，第二单元具备：第二块部，在内部具有供混合气体流通的混合气体流路，并与第一块部可拆装地连结；浓度检测器，检测在混合气体流路中流通的材料气体的浓度。
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公开(公告)号：CN111855596B
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202010206450.1
申请日：2020-03-23
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G01N21/31
Abstract: 提供吸光分析装置及记录吸光分析装置用程序的程序记录介质。吸光分析装置具备检测器；总压传感器；吸光度计算部，基于检测器的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度；分压‑吸光度关系存储部，存储表示调零时存在于检测器测定区域的干涉气体的分压与吸光度计算部算出的吸光度之间关系的分压‑吸光度关系数据；分压计算部，在已知浓度的干涉气体存在于测定区域的已知浓度状态下，基于由总压传感器测定的总压和浓度计算作为干涉气体的分压的干涉气体分压；吸光度推断部，基于干涉气体分压和分压‑吸光度关系数据推断作为干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度；校正部，基于干涉气体吸光度和在已知浓度状态下的检测器的输出值进行更新零基准值的调零。
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公开(公告)号：CN111912798A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010371573.0
申请日：2020-05-06
Applicant: 株式会社堀场STEC
Abstract: 提供一种吸光分析系统，具备：检测器，对透过了气体的光的强度进行检测；总压传感器，测量气体的总压；干扰气体分压-吸光度关系存储部，存储干扰气体分压-吸光度关系数据；干扰气体分压推定部，基于由总压传感器测量出的总压来推定干扰气体的分压；干扰气体吸光度转换部，基于干扰气体分压-吸光度关系数据，将由干扰气体分压推定部推定出的干扰气体推定分压转换为干扰气体的吸光度；测量对象气体吸光度计算部，基于检测器的输出值和由干扰气体吸光度转换部转换而得的干扰气体吸光度，来计算测量对象气体的吸光度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111855596A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010206450.1
申请日：2020-03-23
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G01N21/31
Abstract: 提供吸光分析装置及记录吸光分析装置用程序的程序记录介质。吸光分析装置具备检测器；总压传感器；吸光度计算部，基于检测器的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度；分压-吸光度关系存储部，存储表示调零时存在于检测器测定区域的干涉气体的分压与吸光度计算部算出的吸光度之间关系的分压-吸光度关系数据；分压计算部，在已知浓度的干涉气体存在于测定区域的已知浓度状态下，基于由总压传感器测定的总压和浓度计算作为干涉气体的分压的干涉气体分压；吸光度推断部，基于干涉气体分压和分压-吸光度关系数据推断作为干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度；校正部，基于干涉气体吸光度和在已知浓度状态下的检测器的输出值进行更新零基准值的调零。
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公开(公告)号：CN106996513A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201610892358.9
申请日：2016-10-13
Applicant: 株式会社堀场STEC
CPC classification number: C23C16/52 , C23C16/4481 , C23C16/4482 , G01N21/3504 , G01N21/84 , G01N33/0004 , G01N2021/8411 , G01N2021/8578 , G05D11/00 , G05D21/02 , Y10T137/0329 , Y10T137/2499 , Y10T137/2509 , F17D1/02 , F17D3/01 , F17D3/18
Abstract: 本发明提供一种气体控制系统，其可以防止出现由材料气体再液化的液滴或材料的热分解所产生的微粒对浓度或流量控制的影响，以预先设定的浓度或流量供给混合气体。该气体控制系统包括：第一阀，其设置在所述载气管线上或设置在所述供气管线上；流量控制机构，其设于稀释气体管线上，具有流量传感器及第二阀；非接触式的第一浓度传感器；第一阀控制部；稀释气体设定流量计算部，其基于预先设定的所述稀释后混合气体的总设定流量以及所述稀释后测定浓度，计算应该在所述稀释气体管线中流动的稀释气体的流量即稀释气体设定流量；第二阀控制部，其为使所述稀释气体设定流量与所述流量传感器所测定的测定流量的偏差减小而控制所述第二阀的开度。
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公开(公告)号：CN111690909B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202010150050.3
申请日：2020-03-06
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: C23C16/448 , C23C16/52
Abstract: 用于提供在不增设新的传感器等的情况下，准确地推定汽化罐内的原料的消耗量，且能够进行与原料的剩余量对应的高精度的浓度控制的浓度控制装置，其在汽化器中对原料气体的浓度进行控制，汽化器至少具备：容纳液体或固体的原料的汽化罐、向汽化罐供给载气的载气供给通路、以及供由原料汽化而从汽化罐导出的原料气体流通的原料气体导出通路，浓度控制装置具备：浓度监测器，其设置于原料气体导出通路，输出与原料气体的浓度对应的输出信号；浓度计算部，其基于来自浓度监测器的输出信号，来计算原料气体的浓度；以及原料消耗量计算器，其基于计算浓度和载气的流量，来计算作为原料气体而导出到原料气体导出通路的原料的消耗量。
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公开(公告)号：CN117434026A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202310890023.3
申请日：2023-07-19
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G01N21/39 , G01N21/3504 , G01N21/01
Abstract: 本发明提供一种高精度地监测针对被处理物的处理量的分析装置、分析方法及计算机可读的存储介质，所述分析装置具有测定部及运算部，所述测定部具有：激光光源，其对包含反应生成物的测定对象气体照射激光；光检测器，其检测透过测定对象气体的激光；以及信号处理部，其基于光检测器的检测信号来计算反应生成物的浓度或分压，运算部具有：时间积分部，其计算对测定部的输出值进行时间积分而得的时间积分值；关联数据存储部，其存储关联数据，所述关联数据示出对测定部的输出值进行时间积分而得的时间积分值与针对被处理物的处理量之间的关系；以及处理量计算部，其根据由时间积分部获得的时间积分值和关联数据来计算对被处理物的处理量。
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公开(公告)号：CN108570659B
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN201810178323.8
申请日：2018-03-05
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: C23C16/448 , C23C16/52
Abstract: 本发明涉及气体控制系统、成膜装置、存储介质和气体控制方法，容易控制从容器导出的材料气体的总量。所述气体控制系统向收容有材料的容器(10)导入载气，并且将所述材料气化后的材料气体与所述载气一起从所述容器(10)导出，该气体控制系统具有控制部(60)，所述控制部(60)控制所述载气的流量，使浓度指标值接近预先确定的目标浓度指标值，该浓度指标值直接或间接表示测量从所述容器(10)导出的混合气体而得到的所述混合气体中的材料气体浓度，所述控制部(60)在进行控制所述载气的流量以规定变化率变化的第一控制后进行第二控制，该第二控制基于所述浓度指标值和所述目标浓度指标值的偏差来控制所述载气的流量。
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