发光装置
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100350623C

    公开(公告)日:2007-11-21

    申请号:CN02142069.6

    申请日:2002-08-26

    CPC classification number: H01L51/5092 H01L27/3244 Y10S428/917

    Abstract: 提供了一种用于提高从发光元件中阴极注入电子的能力并解决其制作过程中有关问题的装置。在本发明中,采用比阴极材料具有较小逸出功的材料来形成阴极与有机化合物层之间的无机导电层。以此方式,可以提高从阴极注入电子的能力。另外,其薄膜可以比采用绝缘材料形成的传统阴极缓冲层的薄膜更厚。因此,可以容易地控制膜厚,并且可以实现制作成本的降低和生产率的提高。

    半导体装置
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105070715B

    公开(公告)日:2018-10-19

    申请号:CN201510507640.6

    申请日:2010-09-27

    Abstract: 本发明的目的是提供具有新结构的半导体装置。公开了半导体器件,其包括第一晶体管,其包括位于含有半导体材料的衬底中的沟道形成区、沟道形成区插入之间的杂质区、位于沟道形成区上的第一栅绝缘层、位于第一栅绝缘层上的第一栅电极、以及电连接至该杂质区的第一源电极和第一漏电极;以及第二晶体管,其包括位于含有半导体材料的衬底上的第二栅电极、位于该第二栅电极上的第二栅绝缘层、位于该第二栅绝缘层上的氧化物半导体层、以及电连接至该氧化物半导体层的第二源电极和第二漏电极。

    半导体装置
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103794612A

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN201410074885.X

    申请日:2010-09-27

    Abstract: 本发明的目的是提供具有新结构的半导体装置。公开了半导体装置,其包括第一晶体管,其包括位于含有半导体材料的衬底中的沟道形成区、沟道形成区插入之间的杂质区、位于沟道形成区上的第一栅绝缘层、位于第一栅绝缘层上的第一栅电极、以及电连接至该杂质区的第一源电极和第一漏电极;以及第二晶体管,其包括位于含有半导体材料的衬底上的第二栅电极、位于该第二栅电极上的第二栅绝缘层、位于该第二栅绝缘层上的氧化物半导体层、以及电连接至该氧化物半导体层的第二源电极和第二漏电极。

    使用带电粒子束的液滴吐出装置及使用该装置的图案制作方法

    公开(公告)号:CN100482355C

    公开(公告)日:2009-04-29

    申请号:CN200480017043.5

    申请日:2004-04-07

    CPC classification number: B05B5/053 B05B5/025 B05B12/12 B05C5/0212 B05C5/0279

    Abstract: 本发明能够使由液滴吐出法吐出的液滴的命中精度大幅度提高,在基板上直接形成微细且高精度的图案,以提供可应对基板的大型化的布线、导电层及显示装置的制作方法作为课题,并且,以提供使生产能力和材料的利用率提高的布线、导电层及显示装置的制作方法为课题。本发明的特征在于:主要在具有绝缘表面的基板上用液滴吐出法将抗蚀剂材料或布线材料直接进行图案形成时,可以使液滴命中精度大幅度提高。具体而言,就是在即将用液滴吐出法吐出液滴之前,按照所要的图案,在基板表面上的液滴命中位置扫描带电粒子束,之后,立即使带有与该带电粒子束相反符号的电荷的液滴吐出,使液滴命中位置的控制性能格外提高。

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