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公开(公告)号：CN1913037A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200610109186.X
申请日：2006-08-07
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11C16/3418 , G11C13/0033 , G11C13/0069 , G11C16/30 , G11C16/3431
Abstract: 根据本发明的一个方面的一种数据记录装置，包括：存储芯片中的存储单元阵列；执行存储单元阵列的数据更新的更新电路；在短于数据保持时间的时间间隔，执行更新并管理数据保持时间的更新控制电路；以及在数据记录装置从外部装置中被移除的状态下，向更新电路和更新控制电路供给电源电势的内部电源。
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公开(公告)号：CN1365448A
公开(公告)日：2002-08-21
申请号：CN01800711.2
申请日：2001-03-27
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G01T1/20
CPC classification number: G01T1/243 , G01T1/2018 , H01L27/14663
Abstract: 公开了一种平板X射线检测器,包含将射入的X射线变换为电荷的X射线电荷变换薄膜(109)、与X射线电荷变换薄膜(109)相邻的并为每一像素设置的像素电极(504)、与像素电极(504)相连的开关部件(401)、与开关部件(401)相连的信号线以及给开关部件(401)提供驱动信号的扫描线,其中X射线电荷变换薄膜(109)包含磷光体粒子(110)、光敏材料(111)和载流子传输材料(112)。
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公开(公告)号：CN115315318B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202180016238.1
申请日：2021-03-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
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公开(公告)号：CN118829489A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202280092645.5
申请日：2022-11-14
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置、弯月面头以及涂敷方法。根据实施方式，提供能够得到大面积且均匀的涂敷膜的涂敷装置、弯月面头以及涂敷方法。实施方式的涂敷装置通过弯月面法形成涂膜，具备输送基材的部件、涂敷棒、向涂敷棒的表面供给涂敷液的狭缝式模头、以及向狭缝式模头供给涂敷液的部件，各部件配置成，使得从狭缝式模头供给的涂敷液经由涂敷棒的表面供给到涂敷棒与基材之间而形成弯月面。
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公开(公告)号：CN112074965B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN201880090582.3
申请日：2018-03-16
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供电阻小、光透射性高并且能够用简便的方法制作的透明电极的制造方法以及制造装置。提供一种制造方法、利用该制造方法的透明电极的制造装置，所述制造方法的特征在于，具有：在疏水性的聚合物膜上涂敷金属纳米线分散液的工序；将所述聚合物上的金属纳米线和导电性基板直接压接的工序；以及使所述金属纳米线层剥离，而转印到所述导电性基板的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115569648B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202211426631.0
申请日：2019-09-12
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B01J23/652 , B01J23/60 , B01J23/50 , B01J23/648 , B01J23/62 , B01J37/02 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , A01N59/16 , A01P1/00 , B01D53/86 , B01D53/72 , B01D53/58 , C02F1/30
Abstract: 本发明提供高活性且能够简便地制作且不易剥离的光催化剂复合材料、其制作方法及光催化剂装置。一种光催化剂复合材料，其包含基材和由光催化剂粒子形成的光催化剂层，与基材表面相接的光催化剂层的平均粒径小于光催化剂层表面的平均粒径。
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公开(公告)号：CN114308050B
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202210049033.X
申请日：2018-12-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B01J23/888 , B01J23/652 , B01J37/02 , B01D53/86 , B01D53/72 , A61L9/01 , A61L9/18 , A61L101/02
Abstract: 本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。
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公开(公告)号：CN117062675A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280016250.7
申请日：2022-02-21
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: B05C1/02
Abstract: 提供能形成均匀的涂敷膜的涂敷装置以及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包括涂敷杆、多个喷嘴、多个保持部以及检测部。上述涂敷杆能与被涂敷构件相向。上述多个喷嘴能朝上述涂敷杆供给液体。上述多个保持部中的一个保持部保持上述多个喷嘴中的一个喷嘴。上述多个保持部中的一个保持部能控制以上述涂敷杆为基准的上述多个喷嘴中的上述一个喷嘴的位置。上述检测部能检测与以上述涂敷杆为基准的上述多个喷嘴各自的位置相对应的量。
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公开(公告)号：CN115315318A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202180016238.1
申请日：2021-03-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
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