等离子处理装置
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101785080B

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN200880103819.3

    申请日:2008-08-21

    CPC classification number: H01J37/32091 H01J37/32935

    Abstract: 本发明的目的是提供一种等离子处理装置,其能够精确地判断是否已经达到将所述装置的操作状态维持在最佳条件所需要的适当的维护时间。电介质构件(21)和探针电极单元(22)在其中彼此组合的放电检测传感器(23)附着到在组成真空室的盖子部分(2)中提供的开口部分(2a)。接收根据在等离子放电中的改变而在探针电极(22b)中感生的电势中的改变,并且通过将一计数值与已经由维护判断部分(44)预先设置的允许值相比较,判断是否需要维护工作,所述计数值是当泄漏放电波形计数器(39)计数由V型波形检测部分(35)检测与外物在真空室中的附着相关的泄漏放电引起的V形特定图案的V型波形的检测次数时获得的。

    等离子体处理装置和等离子体处理方法

    公开(公告)号:CN101842879B

    公开(公告)日:2011-12-07

    申请号:CN200880114295.8

    申请日:2008-11-27

    CPC classification number: H01J37/32935 H01J2237/0206

    Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。在将处理对象物收容在处理室内进行等离子体处理的等离子体处理中,在放电检测传感器接收根据等离子体放电的变化而诱发的电位变化的信号,并作为表示电位变化的信号数据暂时记录在信号记录部中,参照记录的信号数据,由信号解析部抽取放电开始波的计数值、异常放电的计数值、微小电弧放电的计数值等表示等离子体放电状态的指标数据,通过由装置控制部监视指标数据而判定等离子体放电的状态,执行为了适当地进行等离子体处理动作的重试处理、累积等离子体处理、维修判定处理。

    等离子处理装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101785080A

    公开(公告)日:2010-07-21

    申请号:CN200880103819.3

    申请日:2008-08-21

    CPC classification number: H01J37/32091 H01J37/32935

    Abstract: 本发明的目的是提供一种等离子处理装置,其能够精确地判断是否已经达到将所述装置的操作状态维持在最佳条件所需要的适当的维护时间。电介质构件(21)和探针电极单元(22)在其中彼此组合的放电检测传感器(23)附着到在组成真空室的盖子部分(2)中提供的开口部分(2a)。接收根据在等离子放电中的改变而在探针电极(22b)中感生的电势中的改变,并且通过将一计数值与已经由维护判断部分(44)预先设置的允许值相比较,判断是否需要维护工作,所述计数值是当泄漏放电波形计数器(39)计数由V型波形检测部分(35)检测与外物在真空室中的附着相关的泄漏放电引起的V形特定图案的V型波形的检测次数时获得的。

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