公开(公告)号：CN104685607A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201380048727.0

申请日：2013-08-22

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 凯瑟拉·拉马亚·纳伦德纳斯 ,  甘加达尔·希拉瓦特 ,  默尼卡·阿咖瓦 ,  阿西斯·巴哈特纳瓜

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/20

CPC classification number: B32B37/1292 ,  B32B7/14 ,  H01L21/67005 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/68785 ,  H01L2221/68318 ,  H01L2221/68381 ,  H01L2224/27318 ,  H01L2224/2732 ,  H01L2224/27436 ,  H01L2224/27438 ,  H01L2224/29011 ,  H01L2224/29012 ,  H01L2224/29013 ,  H01L2224/29014 ,  H01L2224/29078 ,  H01L2224/2919 ,  H01L2224/29191 ,  H01L2224/83862 ,  H01L2224/83877 ,  H01L2224/98 ,  H01L2924/15151 ,  Y10T156/10 ,  Y10T279/23 ,  Y10T428/24851 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/00014 ,  H01L21/02008 ,  H01L21/02109 ,  H01L21/02299 ,  H01L21/20

Abstract: 披露了一种接合基板的方法、使用此方法形成组件的方法，以及整修这些组件的改良方法，这些方法利用在用于结合两个基板的粘结剂中形成的至少一个沟道来改良组件的制造、性能和整修。在一个实施方式中，组件包括通过粘结层固定至第二基板的第一基板。所述组件包括沟道，所述沟道具有由粘结层界定的至少一侧并且具有暴露于组件的外部的出口。

公开(公告)号：CN210156345U

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201790001227.5

申请日：2017-07-25

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 甘加达尔·希拉瓦特 ,  卡里阿帕·阿沙阿帕·巴杜维曼达 ,  考希克·维迪亚 ,  波柏纳·伊谢提拉·瓦珊塔

IPC: H01J37/32

Abstract: 于此公开用于处理腔室的腔室部件、用于处理腔室的屏蔽的设计膜以及处理腔室。在一个实施方式中，用于处理腔室的腔室部件具有基底部件主体。所述基底部件主体具有外部表面，所述外部表面经配置以面对所述处理腔室的处理环境。纹理化表层顺应于所述外部表面。纹理化表层具有第一侧及第二侧，所述第一侧经配置以设置抵靠所述外部表面，所述第二侧背对所述第一侧。所述第二侧具有多个设计特征，所述设计特征经配置以在所述处理腔室的使用期间增强所述纹理化表层上所沉积材料的附着性。

公开(公告)号：CN206509884U

公开(公告)日：2017-09-22

申请号：CN201621125781.8

申请日：2016-10-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 甘加达尔·希拉瓦特 ,  西蒙·亚沃伯格 ,  胡永其

IPC: B24B37/32

CPC classification number: B24B37/32

Abstract: 本实用新型公开了一种用于抛光系统的保持环，本文所述的实施方式保护所述保持环不受腐蚀性抛光化学物质的影响。在一个实施方式中，保持环具有环形主体，所述环形主体具有顶表面、内径侧壁、外径侧壁和底表面。内径侧壁被配置成用于限定基板。环形主体具有：刚性环形部分；聚合物环形部分，所述聚合物环形部分堆叠在刚性环形部分上且覆盖刚性环形部分的至少三侧；多个槽，所述多个槽形成在底表面中；和多个排水口，所述多个排水口穿过聚合物环形部分形成，其中排水口与刚性环形部分隔离。

公开(公告)号：CN205734411U

公开(公告)日：2016-11-30

申请号：CN201620202425.5

申请日：2016-03-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 胡永其 ,  西蒙·亚沃伯格 ,  甘加达尔·希拉瓦特 ,  凯瑟拉·R·纳伦德纳斯

IPC: B24B37/32

CPC classification number: B24B37/32

Abstract: 本实用新型公开了一种CMP系统和一种用于抛光系统的保持环。在一个实施方式中，用于抛光系统的保持环包括环形主体，所述环形主体具有抛光内径。所述主体具有：底表面，所述底表面具有形成在其中的槽；外径壁；和内径壁，其中所述内径壁被抛光至小于30微英寸(μin)的平均粗糙度(Ra)。