公开(公告)号：CN105983901B

公开(公告)日：2021-01-29

申请号：CN201610151349.4

申请日：2016-03-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 胡永其 ,  西蒙·亚沃伯格 ,  甘加达尔·希拉瓦特 ,  凯瑟拉·R·纳伦德纳斯

IPC: B24B37/32

Abstract: 本发明公开了一种保持环和一种化学机械抛光系统(CMP)。在一个实施方式中，用于抛光系统的保持环包括环形主体，所述环形主体具有抛光内径。所述主体具有：底表面，所述底表面具有形成在其中的槽；外径壁；和内径壁，其中所述内径壁被抛光至小于约30微英寸(μin)的平均粗糙度(Ra)。

公开(公告)号：CN105983901A

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201610151349.4

申请日：2016-03-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 胡永其 ,  西蒙·亚沃伯格 ,  甘加达尔·希拉瓦特 ,  凯瑟拉·R·纳伦德纳斯

IPC: B24B37/32

Abstract: 本发明公开了一种保持环和一种化学机械抛光系统(CMP)。在一个实施方式中，用于抛光系统的保持环包括环形主体，所述环形主体具有抛光内径。所述主体具有：底表面，所述底表面具有形成在其中的槽；外径壁；和内径壁，其中所述内径壁被抛光至小于约30微英寸(μin)的平均粗糙度(Ra)。

公开(公告)号：CN205734411U

公开(公告)日：2016-11-30

申请号：CN201620202425.5

申请日：2016-03-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 胡永其 ,  西蒙·亚沃伯格 ,  甘加达尔·希拉瓦特 ,  凯瑟拉·R·纳伦德纳斯

IPC: B24B37/32

CPC classification number: B24B37/32

Abstract: 本实用新型公开了一种CMP系统和一种用于抛光系统的保持环。在一个实施方式中，用于抛光系统的保持环包括环形主体，所述环形主体具有抛光内径。所述主体具有：底表面，所述底表面具有形成在其中的槽；外径壁；和内径壁，其中所述内径壁被抛光至小于30微英寸(μin)的平均粗糙度(Ra)。