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公开(公告)号：CN109478491A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780044368.X
申请日：2017-07-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 甘加达尔·希拉瓦特 , 卡里阿帕·阿沙阿帕·巴杜维曼达 , 波柏纳·伊谢提拉·瓦珊塔
Abstract: 本文公开了一种在等离子体处理系统中使用的处理配件环。处理配件环包括环状主体及一或多个中空内部腔体。环状主体由耐等离子体材料形成。环状主体具有大于200mm的外部直径。环状主体包括顶表面及底表面。顶表面配置成面向处理腔室的等离子体处理区域。底表面与顶表面相对。底表面实质上垂直于主体的中心线。底表面至少部分地由基座组件支撑。一或多个中空内部腔体形成于环状主体中且围绕中心线。一或多个中空内部腔体在环状主体之中排列成圆形。
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公开(公告)号：CN107210179A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680008925.8
申请日：2016-01-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卡泽拉·R·纳伦德瑞纳斯 , 戈文达·瑞泽 , 吉留刚一 , 波柏纳·伊谢提拉·瓦珊塔 , 乌梅什·M·科尔卡
Abstract: 本文公开一种用于处理腔室的腔室元件。在一个实施方式中，一种用于处理腔室的腔室元件包括：具有单一整体结构的元件部分主体。所述元件部分主体具有纹理表面。所述纹理表面包括：多个独立的改造宏观特征，这些改造宏观特征与所述元件部分主体一体形成。这些改造宏观特征包括：从所述纹理表面延伸的宏观特征主体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107112275A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580069444.3
申请日：2015-11-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戈文达·瑞泽 , 卡泽拉·R·纳伦德瑞纳斯 , 波柏纳·伊谢提拉·瓦珊塔 , 西蒙·亚沃伯格
IPC: H01L21/687
Abstract: 本文披露一种边缘环以及用于制造边缘环的工艺。一个实施方式中，边缘环包括环状主体以及多个断热件，所述断热件设置在所述环状主体内。所述断热件设置成垂直于边缘环的环状主体的中心线。
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公开(公告)号：CN109478491B
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201780044368.X
申请日：2017-07-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 甘加达尔·希拉瓦特 , 卡里阿帕·阿沙阿帕·巴杜维曼达 , 波柏纳·伊谢提拉·瓦珊塔
Abstract: 本文公开了一种在等离子体处理系统中使用的处理配件环。处理配件环包括环状主体及一或多个中空内部腔体。环状主体由耐等离子体材料形成。环状主体具有大于200mm的外部直径。环状主体包括顶表面及底表面。顶表面配置成面向处理腔室的等离子体处理区域。底表面与顶表面相对。底表面实质上垂直于主体的中心线。底表面至少部分地由基座组件支撑。一或多个中空内部腔体形成于环状主体中且围绕中心线。一或多个中空内部腔体在环状主体之中排列成圆形。
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公开(公告)号：CN107112275B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201580069444.3
申请日：2015-11-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戈文达·瑞泽 , 卡泽拉·R·纳伦德瑞纳斯 , 波柏纳·伊谢提拉·瓦珊塔 , 西蒙·亚沃伯格
IPC: H01L21/687
Abstract: 本文披露一种边缘环以及用于制造边缘环的工艺。一个实施方式中，边缘环包括环状主体以及多个断热件，所述断热件设置在所述环状主体内。所述断热件设置成垂直于边缘环的环状主体的中心线。
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公开(公告)号：CN107210179B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201680008925.8
申请日：2016-01-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卡泽拉·R·纳伦德瑞纳斯 , 戈文达·瑞泽 , 吉留刚一 , 波柏纳·伊谢提拉·瓦珊塔 , 乌梅什·M·科尔卡
Abstract: 本文公开一种用于处理腔室的腔室元件。在一个实施方式中，一种用于处理腔室的腔室元件包括：具有单一整体结构的元件部分主体。所述元件部分主体具有纹理表面。所述纹理表面包括：多个独立的改造宏观特征，这些改造宏观特征与所述元件部分主体一体形成。这些改造宏观特征包括：从所述纹理表面延伸的宏观特征主体。
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公开(公告)号：CN210156345U
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201790001227.5
申请日：2017-07-25
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 甘加达尔·希拉瓦特 , 卡里阿帕·阿沙阿帕·巴杜维曼达 , 考希克·维迪亚 , 波柏纳·伊谢提拉·瓦珊塔
IPC: H01J37/32
Abstract: 于此公开用于处理腔室的腔室部件、用于处理腔室的屏蔽的设计膜以及处理腔室。在一个实施方式中，用于处理腔室的腔室部件具有基底部件主体。所述基底部件主体具有外部表面，所述外部表面经配置以面对所述处理腔室的处理环境。纹理化表层顺应于所述外部表面。纹理化表层具有第一侧及第二侧，所述第一侧经配置以设置抵靠所述外部表面，所述第二侧背对所述第一侧。所述第二侧具有多个设计特征，所述设计特征经配置以在所述处理腔室的使用期间增强所述纹理化表层上所沉积材料的附着性。
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