公开(公告)号：CN103116232A

公开(公告)日：2013-05-22

申请号：CN201210396772.2

申请日：2012-10-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 滨田谦一 ,  一户大吾

IPC: G02F1/1343 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种阵列基板和该阵列基板的制造方法，所述阵列基板包含可有效地实现像素的高数值孔径化且难以产生剥离的绝缘膜。而且，提供一种亮度高、且具有高的可靠性的液晶显示元件。使用感放射线性树脂组成物在形成有开关有源元件8的基板4上形成绝缘膜12而制造阵列基板1，所述感放射线性树脂组成物含有：包含具有羧基的结构单元与具有聚合性基的结构单元的聚合物、二叠氮醌化合物或聚合性化合物及聚合引发剂，热产酸剂，以及作为硬化促进剂的式(1)或式(2)的化合物。使用阵列基板1而构成液晶显示元件。

公开(公告)号：CN101308327B

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN200810099074.X

申请日：2008-05-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 花村政晓 ,  内池千浩 ,  饭岛孝浩 ,  滨田谦一

IPC: G03F7/028 ,  G03F7/00 ,  G02B3/00

Abstract: 本发明涉及放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法。本发明涉及放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有：[A]含有(a1)选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少一种以及(a2)具有选自环氧乙烷基和氧杂环丁烷基中的至少一种基团的不饱和化合物而成的不饱和化合物的共聚物；[B]1，2-重氮醌化合物；和[C]具有脂环式环氧乙烷基且没有羧基的化合物。上述放射线敏感性树脂组合物具有高的放射性灵敏度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间也能够形成良好图案形状的显影余地，可以容易地形成密合性优异的层间绝缘膜或微透镜。

公开(公告)号：CN101859067A

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN201010147524.5

申请日：2010-03-31

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西信弘 ,  米田英司 ,  饭田雅史 ,  丸山拓之 ,  滨田谦一

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/012 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法。本发明提供适合用于形成柔性显示器的层间绝缘膜，且可以在低温下短时间加热进行烧制，同时具有高的放射性灵敏度的放射线敏感性树脂组合物。本发明提供一种层间绝缘膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其包含[A]将含有(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐以及(a2)含环氧基的不饱和化合物的单体共聚形成的共聚物碱可溶性树脂、[B]1，2-醌二叠氮化合物以及[C]在1分子中具有2个以上巯基的化合物。[C]成分在1分子中具有2个以上的巯基的化合物优选为下式(1)所示的化合物。

公开(公告)号：CN101308327A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200810099074.X

申请日：2008-05-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 花村政晓 ,  内池千浩 ,  饭岛孝浩 ,  滨田谦一

IPC: G03F7/028 ,  G03F7/00 ,  G02B3/00

Abstract: 本发明涉及放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法。本发明涉及放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有：[A]含有(a1)选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少一种以及(a2)具有选自环氧乙烷基和氧杂环丁烷基中的至少一种基团的不饱和化合物而成的不饱和化合物的共聚物；[B]1，2－重氮醌化合物；和[C]具有脂环式环氧乙烷基且没有羧基的化合物。上述放射线敏感性树脂组合物具有高的放射性灵敏度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间也能够形成良好图案形状的显影余地，可以容易地形成密合性优异的层间绝缘膜或微透镜。

公开(公告)号：CN101226329A

公开(公告)日：2008-07-23

申请号：CN200810003519.X

申请日：2008-01-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 花村政晓 ,  内池千浩 ,  三谷浩司 ,  饭岛孝浩 ,  滨田谦一 ,  长屋胜也 ,  大泽友希

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有：(a1)、(a2)和(a3)的共聚物[A]、1，2－二叠氮醌化合物[B]、以及含有通过热与[A]成分进行交联反应的官能团的硅氧烷低聚物[C]，所述(a1)：不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，所述(a2)：含有环氧基和/或氧杂环丁烷基的不饱和化合物，和所述(a3)：(a1)成分和(a2)成分以外的不饱和化合物。一种放射线敏感性树脂组合物，其具有高放射线敏感度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间仍可以形成良好的图案形状的显影余量，可以容易地形成贴合性优异的图案状薄膜。

公开(公告)号：CN101154041A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：CN200610172859.6

申请日：2006-09-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 米田英司 ,  滨田谦一 ,  志保浩司

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/008 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G02B3/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有不饱和羧酸或不饱和羧酸酐与(甲基)丙烯酰氧基氧杂环丁烷的共聚物、1，2－醌二叠氮化合物和热敏性酸生成化合物。该组合物没有安全性上的问题，灵敏度、分辨率、作为溶液的保存稳定性等优良，在显影工序中即使超过最适显影时间，也可以形成良好的图案形成，具有良好的显影余量，可用于形成层间绝缘膜和微透镜。