公开(公告)号：CN101226329A

公开(公告)日：2008-07-23

申请号：CN200810003519.X

申请日：2008-01-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 花村政晓 ,  内池千浩 ,  三谷浩司 ,  饭岛孝浩 ,  滨田谦一 ,  长屋胜也 ,  大泽友希

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有：(a1)、(a2)和(a3)的共聚物[A]、1，2－二叠氮醌化合物[B]、以及含有通过热与[A]成分进行交联反应的官能团的硅氧烷低聚物[C]，所述(a1)：不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，所述(a2)：含有环氧基和/或氧杂环丁烷基的不饱和化合物，和所述(a3)：(a1)成分和(a2)成分以外的不饱和化合物。一种放射线敏感性树脂组合物，其具有高放射线敏感度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间仍可以形成良好的图案形状的显影余量，可以容易地形成贴合性优异的图案状薄膜。

公开(公告)号：CN101226329B

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN200810003519.X

申请日：2008-01-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 花村政晓 ,  内池千浩 ,  三谷浩司 ,  饭岛孝浩 ,  滨田谦一 ,  长屋胜也 ,  大泽友希

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有：(a1)、(a2)和(a3)的共聚物[A]、1，2-二叠氮醌化合物[B]、以及含有通过热与[A]成分进行交联反应的官能团的硅氧烷低聚物[C]，所述(a1)：不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，所述(a2)：含有环氧基和/或氧杂环丁烷基的不饱和化合物，和所述(a3)：(a1)成分和(a2)成分以外的不饱和化合物。一种放射线敏感性树脂组合物，其具有高放射线敏感度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间仍可以形成良好的图案形状的显影余量，可以容易地形成贴合性优异的图案状薄膜。