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公开(公告)号：CN103215551A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310102948.3
申请日：2013-03-28
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高355nm高反膜激光损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对355nm激光高反膜中限制阈值的最根本因素——镀膜材料的能带隙，能带隙越大，阈值就越高。常规的355nm高反膜由规整1/4波长厚度的HfO2和SiO2交替组成，受限于材料的能带隙，阈值无法进一步明显提升。而能带隙较高的Al2O3，则因为折射率较低,且张应力较大，和SiO2搭配，不易获得良好的光谱特性。本发明将HfO2/SiO2膜堆良好的光谱特性和Al2O3/SiO2膜堆良好的抗激光损伤特性结合起来，在常规HfO2/SiO2高反膜的最外层加镀非规整1/4波长厚度的Al2O3/SiO2膜堆，从而大幅度提高了355nm高反膜的激光损伤阈值。本发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN103173720A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201310093167.2
申请日：2013-03-22
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种防水性激光薄膜的制备方法，根据实际应用中要求，即正入射800nm泵浦光透射、背入射1064nm基频光反射，采用采用真空电子束蒸发沉积工艺制备HfO2和SiO2膜层，作为背入射时靠近基板电场大、易损伤的膜层，以获得较高的抗激光损伤阈值；针对水冷系统的工作环境，对于靠近水侧、易被渗透侵蚀的膜层，采用离子束辅助沉积工艺制备Ta2O5和SiO2膜层，改善薄膜微观结构，获得较高的堆积密度，实现良好的防水性能；高低折射率材料HfO2、Ta2O5和SiO2交替沉积为多层膜，控制每层的光学厚度，以获得所需的光谱特性。该方法能很好的兼顾这三种特性，使其能应用于二极管泵浦固体激光器系统钕玻璃基板上，使之能在水冷系统中正常工作，并且具有良好的抗激光损伤性能和系统所需的光谱性能。
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公开(公告)号：CN106862114A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201710070731.7
申请日：2017-02-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种LBO晶体表面镀膜前的清洗方法，将LBO晶体依次执行下述步骤：采用无水乙醇和乙醚混合液擦拭LBO晶体表面；采用弱碱性溶液对LBO晶体进行超声波清洗，所述弱碱性溶液包括NH4OH和H2O2，体积比为NH4OH:H2O2:H2O＝1:8:50；采用无水乙醇对LBO晶体进行漂洗；将LBO晶体放置于装有无水乙醇的密闭容器内，对LBO晶体进行超声加热清洗；取出LBO晶体，再次漂洗；在正压容器环境中干燥氮气风刀对LBO晶体进行干燥。与现有技术相比，本发明具有清洗效果好，既可以提升LBO晶体镀膜后的抗激光损伤特性，可以提升其镀膜后的薄膜附着力及抗裂纹特性等优点。
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公开(公告)号：CN106066498A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201610595894.2
申请日：2016-07-27
Applicant: 同济大学 , 光驰科技(上海)有限公司
CPC classification number: G02B1/10 , G02B27/0012
Abstract: 本发明涉及一种修正薄膜元器件高低折射率材料相对厚度配比的膜系，该膜系的基本结构为Sub|HL1.5HLHL1.5HL|Air，Sub是薄膜元件基板，Air是出射介质空气，H和L分别是1/4中心波长光学厚度的高低折射率材料。采用膜系结构的薄膜元件透射光谱特征峰较多，中心波长反射带右侧两个等高特征峰用来修正高低材料的相对膜厚配比。本发明结构简单、可参考光谱特征峰多、峰高对膜层材料配比敏感，光谱可用常规的光学监控或晶振监控实现，具有较高的可制备性，便于推广。本发明在薄膜光学领域有广阔的实用前景，可用于镀膜机内膜层厚度均匀性及大尺寸光学元件整体厚度均匀性的修正，并且可用来校正高低折射率膜层材料相对厚度的配比，提高高精度光谱需求薄膜元件的制备精度和量产程度。
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公开(公告)号：CN104101932B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201410336342.0
申请日：2014-07-16
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/28
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种消除半波孔的短波通滤光片，主要针对短波通滤光片中影响半波孔的一个关键因素——材料非均质性。膜系设计包含两部分：薄膜周期结构和与基板和空气的导纳匹配层。薄膜由H和L组成，H,L分别表示光学厚度为1/4参考波长的高、低折射率膜层。膜系基本周期结构为（0.5LH0.5LHL），周期为N，参考波长为高反射带中心波长。采用常规薄膜设计软件，在基板与薄膜周期结构之间，空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层，得到消除半波孔的膜系设计。该发明将薄膜基本周期结构的导纳误差降到近似为零，该发明直接针对半波孔进行设计和优化，不再回避半波孔，具有理想的透射带宽。该发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103173720B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201310093167.2
申请日：2013-03-22
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种防水性激光薄膜的制备方法，根据实际应用中要求，即正入射800nm泵浦光透射、背入射1064nm基频光反射，采用真空电子束蒸发沉积工艺制备HfO2和SiO2膜层，作为背入射时靠近基板电场大、易损伤的膜层，以获得较高的抗激光损伤阈值；针对水冷系统的工作环境，对于靠近水侧、易被渗透侵蚀的膜层，采用离子束辅助沉积工艺制备Ta2O5和SiO2膜层，改善薄膜微观结构，获得较高的堆积密度，实现良好的防水性能；高低折射率材料HfO2、Ta2O5和SiO2交替沉积为多层膜，控制每层的光学厚度，以获得所需的光谱特性。该方法能很好的兼顾这三种特性，使其能应用于二极管泵浦固体激光器系统钕玻璃基板上，使之能在水冷系统中正常工作，并且具有良好的抗激光损伤性能和系统所需的光谱性能。
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公开(公告)号：CN103226057B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201310102099.1
申请日：2013-03-27
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种真空环境下高效率多功能的激光损伤测试装置和方法，真空腔内的样品台一次可以放入五个样品，通过旋转样品台，可以将样品依次旋转至激光辐照位置进行激光损伤测试，利用CCD相机在线成像和散射光探测装置以及压力探测元件进行在线监测、判断损伤情况，还可以将样品旋转至观察窗用显微镜离线观察分析其损伤形貌。同时样品台的旋转又能够实现样品的正面和背面分别接受激光辐照的功能。该装置简单易操作，极大地节省了真空环境下的损伤测试时间，提高了损伤测试的效率，同时测试方法和功能多样，能够得到比较全面的损伤信息。
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公开(公告)号：CN102747328B
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201210213070.6
申请日：2012-06-27
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射激光薄膜中影响损伤阈值高低的两个关键因素——吸收和缺陷，在电子束蒸镀每层膜结束后，采用高能离子束对薄膜进行轰击处理，此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度，大大提高了高反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN103233200A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201310103177.X
申请日：2013-03-28
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种355nm高阈值高反膜的制备方法，主要针对LaF3/MgF2高反膜中限制薄膜机械特性进而影响光学特性和阈值的关键因素——张应力，采用热舟蒸发技术蒸镀氟化物，在每次镀完LaF3后，采用高能沉积技术镀制一定厚度的SiO2。相对于传统的电子束蒸发和溅射蒸发，本发明不仅可以保证氟化物薄膜中化学计量比的平衡，而且具有应力相对较小的特性；在氟化物膜层中插入一定厚度高能粒子轰击的SiO2膜层，可以在尽可能保持LaF3/MgF2高反膜光谱特性和抗激光损伤特性的同时，很好的补偿膜层中的张应力，降低薄膜的整体应力，从而得到良好的高反射率。本发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN102747328A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210213070.6
申请日：2012-06-27
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射激光薄膜中影响损伤阈值高低的两个关键因素——吸收和缺陷，在电子束蒸镀每层膜结束后，采用高能离子束对薄膜进行轰击处理，此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度，大大提高了高反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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