N-喹啉酰胺类衍生物及其制法与用途

    公开(公告)号:CN101723894B

    公开(公告)日:2011-12-28

    申请号:CN200910232198.5

    申请日:2009-12-03

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一类喹啉酰胺类衍生物,其特征是它有如下通式:式中:当X=C,R1=OH时,R2=CH3、Cl、Br、F或I,R3=R4=R5=H;或者R3=Br、F或I,R2=R4=R5=H;或者R4=Br、F或I,R2=R3=R5=H;或者R5=Cl、Br、F或I,则R2=R3=R4=H;当X=N时,R4=CH3,R1=Cl、Br、F或I,R2=R3=H,无R5;或者R1=Cl、Br、F或I,R4=OH或H,R3=H,无R5。研究发现本发明的喹啉酰胺类衍生物,与VEGFR有很强的特异性结合能力,通过与VEGFR的结合阻断肿瘤细胞中的血管内皮增长因子与VEGFR的结合,从而从根本上抑制癌细胞的血管生成和信号转导,抑制癌细胞的增殖。因此本发明的喹啉酰胺类衍生物可以应用于制备抗肿瘤药物。本发明公开了它们的制法。

    N-喹啉酰胺类衍生物及其制法与用途

    公开(公告)号:CN101723894A

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CN200910232198.5

    申请日:2009-12-03

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一类喹啉酰胺类衍生物,其特征是它有如下通式:式中:当X=C,R1=OH时,R2=CH3、Cl、Br、F或I,R3=R4=R5=H;或者R3=Br、F或I,R2=R4=R5=H;或者R4=Br、F或I,R2=R3=R5=H;或者R5=Cl、Br、F或I,则R2=R3=R4=H;当X=N时,R4=CH3,R1=Cl、Br、F或I,R2=R3=H,无R5;或者R1=C1、Br、F或I,R4=OH或H,R3=H,无R5。研究发现本发明的喹啉酰胺类衍生物,与VEGFR有很强的特异性结合能力,通过与VEGFR的结合阻断肿瘤细胞中的血管内皮增长因子与VEGFR的结合,从而从根本上抑制癌细胞的血管生成和信号转导,抑制癌细胞的增殖。因此本发明的喹啉酰胺类衍生物可以应用于制备抗肿瘤药物。本发明公开了它们的制法。

    一种栅电介质材料立方相HfO2薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN101660128A

    公开(公告)日:2010-03-03

    申请号:CN200910035389.2

    申请日:2009-09-27

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种栅电介质材料立方相HfO 2 薄膜及其制备方法,通过掺杂Y 2 O 3 获得稳定的立方相的HfO 2 薄膜,Y 2 O 3 的掺杂量的摩尔百分比为0到28之间,所述HfO 2 在常温下为立方相,介电常数27.2。栅电介质材料立方相HfO 2 薄膜利用脉冲激光沉积技术,使用由Y 2 O 3 稳定的立方相HfO 2 陶瓷靶材,在高真空低氧分压下制备。本发明利用脉冲激光沉积的方法,采用金属氧化物Y 2 O 3 和HfO 2 为原材料,以两种材料的二元相图为依据,通过高温固相反应在常温下获得了常温下稳定的立方相HfO 2 ,显著提高了其在常温下的介电常数,并制备得到EOT值小于1.5nmYSH薄膜,这对于HfO 2 这种最具潜力的栅介质材料在将来的应用中提供了新的活力。

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