胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法

    公开(公告)号:CN104099025B

    公开(公告)日:2019-08-20

    申请号:CN201410129403.6

    申请日:2014-04-02

    Abstract: 本发明涉及胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法。本发明提供一种抛光组合物,其包含球形二氧化硅颗粒和缔合二氧化硅颗粒的胶体分散体作为研磨料。当在抛光合成石英玻璃基板的步骤中使用时,该抛光组合物确保比常规胶态二氧化硅更高的抛光速率,并且有效防止基板表面上的任何微小缺陷,从而提供具有高平滑度的基板。该抛光组合物可作为二氧化铈的替代抛光组合物用于抛光经研磨的表面。

    合成石英玻璃的热处理方法

    公开(公告)号:CN104860521B

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201510085325.9

    申请日:2015-02-17

    CPC classification number: C03B25/02 C03B19/1453 C03B32/00 C03B2201/23

    Abstract: 本发明提供了合成石英玻璃的热处理方法。具体地,提供了用于热处理合成石英玻璃的方法,该合成石英玻璃具有最大值/最小值差异(△OH)小于350ppm的羟基浓度,该方法包括以下步骤:在1150-1060℃下保持0.5‑10小时的时间的第一热处理,以-7℃/小时至-30℃/小时的速率冷却至第二热处理温度,在1030-950℃下保持5-20小时的时间的第二热处理,和以-25℃/小时至-85℃/小时的速率退火。两阶段的热处理确保了该玻璃具有低双折射。

    方形玻璃基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN107775484A

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:CN201710738241.X

    申请日:2017-08-25

    Abstract: 本发明涉及方形玻璃基板及其制造方法。本发明提供一种方形玻璃基板,是具有表面、背面、4个侧面、和在表面与各侧面以及背面与各侧面之间分别形成了的8个倒角面的方形玻璃基板,在表面与该表面侧的倒角面之间的棱线部具有使表面朝上水平地载置时从该表面到50μm下方的位置的平均梯度为25%以下的第一曲面,并且在侧面与上述表面侧的倒角面之间的棱线部具有使该侧面朝上水平地载置时从该侧面到50μm下方的位置的平均梯度为30%以上的第二曲面,并且板厚为6mm以上。采用本发明的方形玻璃基板,无论清洗方式如何,都能够抑制清洗后的亚微米尺寸的表面污染,抑制制造成品率的降低。

    压印光刻法的矩形基材和制备方法

    公开(公告)号:CN105372933A

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201510510609.8

    申请日:2015-08-19

    Abstract: 通过提供具有研磨的前后表面和四个侧面的起始矩形基材,和在恒压下将旋转抛光垫垂直地压靠于一个侧面,和使该旋转抛光垫和该基材平行于该侧面相对运动,由此抛光该基材的该侧面,从而制备矩形基材。在压印光刻法中,该矩形基材能够以高精度控制压缩和图案形状,并由此能将微细特征尺寸的复杂图案转印至接收体。

    合成石英玻璃的热处理方法

    公开(公告)号:CN104860521A

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:CN201510085325.9

    申请日:2015-02-17

    CPC classification number: C03B25/02 C03B19/1453 C03B32/00 C03B2201/23

    Abstract: 本发明提供了合成石英玻璃的热处理方法。具体地,提供了用于热处理合成石英玻璃的方法,该合成石英玻璃具有最大值/最小值差异(△OH)小于350ppm的羟基浓度,该方法包括以下步骤:在1150-1060℃下保持0.5-10小时的时间的第一热处理,以-7℃/小时至-30℃/小时的速率冷却至第二热处理温度,在1030-950℃下保持5-20小时的时间的第二热处理,和以-25℃/小时至-85℃/小时的速率退火。两阶段的热处理确保了该玻璃具有低双折射。

    胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法

    公开(公告)号:CN104099025A

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201410129403.6

    申请日:2014-04-02

    Abstract: 本发明涉及胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法。本发明提供一种抛光组合物,其包含球形二氧化硅颗粒和缔合二氧化硅颗粒的胶体分散体作为研磨料。当在抛光合成石英玻璃基板的步骤中使用时,该抛光组合物确保比常规胶态二氧化硅更高的抛光速率,并且有效防止基板表面上的任何微小缺陷,从而提供具有高平滑度的基板。该抛光组合物可作为二氧化铈的替代抛光组合物用于抛光经研磨的表面。

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