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公开(公告)号：CN102193313A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110035785.2
申请日：2011-02-01
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含由式(I)表示的化合物和由式(B1)表示的酸生成剂，在式(I)中R1，R2，R3和R4独立地表示氢原子等，X1至X8独立地表示氢原子或由式(II)表示的基团；在式(II)中R11和R12独立地表示氢原子等，m表示1至4的整数，R13表示C1-C6烷基等，并且环Y1表示C3-C20饱和烃环；在式(B1)中Q1和Q2独立地表示氟原子等，Lb1表示C1-C17饱和二价烃基，在所述C1-C17饱和二价烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，Y表示C1-C18脂族烃基等，并且Z+表示有机阳离子。
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公开(公告)号：CN1841201B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200610077420.5
申请日：2006-03-29
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C07D307/33 , C07C381/12 , C07D307/77 , C08K5/42 , G03F7/0045
Abstract: 本发明提供一种式(I)的盐：其中环Y代表含有3—30个碳原子的单环或多环烃基，其中一个-CH2-基团被-COO-基团取代，以及单环或多环烃基中的至少一个氢原子任选地被含有1—6个碳原子的烷基、含有1—6个碳原子的烷氧基、含有1—4个碳原子的全氟烷基、含有1—6个碳原子的羟基烷基、羟基或氰基取代；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或含有1—6个碳原子的全氟烷基；A+代表有机抗衡离子；n表示0—12的整数。本发明还提供含有式(I)盐的化学放大的抗蚀组合物。
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公开(公告)号：CN101910952A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880123110.X
申请日：2008-12-22
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0275 , G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供一种抗蚀剂处理方法，其中，在双图形法等多重图形法中，极微细且精度良好地形成通过第一次抗蚀剂图形形成用的抗蚀剂组合物而得到的图形。本发明为一种抗蚀剂处理方法，其中，包括：将含有树脂(A)、光酸产生剂(B)以及交联剂(C)的第1抗蚀剂组合物涂布到基体上并进行干燥而得到第1抗蚀剂膜、对其进行预烘焙、曝光处理、曝光后烘焙、显影而得到第1抗蚀剂图形、并对其进行硬烘焙，在其上涂布第2抗蚀剂组合物并进行干燥而得到第2抗蚀剂膜、对其进行预烘焙、曝光处理、曝光后烘焙、显影而得到第2抗蚀剂图形的工序，其中，所述树脂(A)具有对酸不稳定的基团，在碱水溶液中不溶或难溶，可与酸作用后溶解。
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公开(公告)号：CN1696828B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200510070438.8
申请日：2005-05-09
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，它包括(A)树脂和(B)酸生成剂，而所述(A)树脂包括如下结构单元：(i)选自由式(IV)和(V)结构单元组成的组中的至少一种结构单元，(ii)式(I)的结构单元，(iii)式(II)的结构单元。本发明也提供一种式(XXI)的卤代酯衍生物以及生产该衍生物的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101684166A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200910177771.7
申请日：2009-09-22
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08F212/08 , C08F220/18 , C08F8/38 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F8/10 , C08F8/34 , C08F12/24 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F220/18 , C09D125/18 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/115 , C08F2220/281 , C08F2220/282
Abstract: 一种树脂，其包含由结构式(I)表示的结构单元，其中，Q1和Q2代表氟原子等；U代表其中一个以上-CH2-可以被-O-等取代的C1-C20二价烃基；X1代表-O-CO-等，并且A+代表有机反荷离子。
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公开(公告)号：CN101665431A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：CN200910168670.3
申请日：2009-09-02
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C07C67/08 , C07C67/11 , C07C69/63 , C07C2601/02 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , G03F7/0045 , G03F7/0392
Abstract: 本发明提供一种为了进一步提高化学放大型的抗蚀剂组合物的灵敏度而利用的具有酸增殖功能的化合物及使用该化合物的抗蚀剂组合物。该化合物是由式(I)或(I’)表示的化合物。(式(I)中，Z1及Z2分别独立地表示氢原子、C1～C12的烷基或C3～12的环状饱和烃基。其中，在Z1及Z2中，至少一方为C1～12的烷基或C3～12的环状饱和烃基。环Y1及环Y2分别独立地表示可被取代的C3～20的脂环式烃基。Q1～Q4及Q’1～Q’4分别独立地表示氟原子或C1～6的全氟烷基。m及n分别独立地表示0～5的整数)。
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公开(公告)号：CN101638388A
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200910164949.4
申请日：2009-07-27
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07D221/06 , C07D217/24 , C07D207/404 , C07D209/48 , C07D209/94 , C07D211/88 , C07D221/04 , C08G73/10 , G03F7/004
CPC classification number: C07D221/04 , C07D207/46 , C07D209/48 , C07D209/76 , C07D217/22
Abstract: 一种由结构式(I)表示的二酰亚胺类化合物，其中，R 1 代表C1-C20脂肪烃基等；W 1 代表-CO-O-等，Q 1 和Q 2 各自独立地代表氟原子等；并且A代表由结构式(I-1)表示的基团，其中，A 1 代表-CH 2 -CH 2 -等，本发明还公开了含有该化合物的化学增幅抗蚀剂组合物。
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公开(公告)号：CN101003591A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200610168220.0
申请日：2006-12-26
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C08F220/38 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08J3/075
Abstract: 本发明提供一种树脂，该树脂通过照射产生酸并且是有机阳离子和阴离子聚合物的盐，其中阴离子聚合物没有碳－碳不饱和键。本发明还提供包含该树脂的化学放大光刻胶组合物。
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公开(公告)号：CN1696828A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200510070438.8
申请日：2005-05-09
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，它包括(A)树脂和(B)酸生成剂，而所述(A)树脂包括如下结构单元：(i)选自由式(IV)和(V)结构单元组成的组中的至少一种结构单元，(ii)式(I)的结构单元，(iii)式(II)的结构单元。本发明也提供一种式(XXI)的卤代酯衍生物以及生产该衍生物的方法。
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