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公开(公告)号：CN101566798A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200910135320.7
申请日：2009-04-20
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供了一种化学放大型抗蚀剂组合物，所述组合物包含树脂(A)、树脂(B)和产酸剂，所述树脂(A)不含氟原子而含侧链中有酸不稳定性基团的结构单元(a1)，所述树脂(B)含侧链中有含氟基团的结构单元(b2)和至少一种选自有酸不稳定性基团的结构单元(b1)、有羟基的结构单元(b3)和侧链中有内酯结构的结构单元(b4)的结构单元，其中所述树脂(B)的量为2重量份或更少每100重量份树脂(A)。
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公开(公告)号：CN101514173A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910007686.6
申请日：2009-02-20
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C309/17 , C07C303/32 , C07C321/28 , C07C319/20 , C07D333/46 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供了式(I)所代表的多羟基化合物：其中，R51到R67各自独立地代表氢原子等，选自R1到R5的至少一个为式(II)所代表的基团，其余的为氢原子或式(III)所代表的基团，其中Q1和Q2各自独立地代表氟原子等，U代表C1－C20二价烃基等，A+代表有机反离子，其中X1到X4各自独立地代表氢原子等，n代表0－3的整数，W代表如下基团中的任何一个：(见图)Z1代表C1－C6烷基等，环Y代表C3－C20脂环烃基。本发明还提供含有该多羟基化合物的化学放大型抗蚀剂组合物。
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公开(公告)号：CN1690851A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200510066667.2
申请日：2005-04-21
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C08F220/18 , C07C69/73 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/33 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/115 , Y10S430/122
Abstract: 本发明提供一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含(A)树脂和(B)酸生成剂，所述的树脂包含(i)一种式(I)的结构单元和(ii)选自式(II)、(III)、(IV)和(V)的结构单元中的至少一种结构单元。本发明还提供一种用于光刻胶组合物的新单体，以及制备这些单体和组合物的方法。
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公开(公告)号：CN1645254A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN200510004738.6
申请日：2005-01-18
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , Y10S430/115 , Y10S430/122
Abstract: 本发明提供了一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含：(A)一种树脂和(B)一种酸生成剂，所述的树脂包含(i)5至50摩尔％的式(I)的结构单元、(ii)5至50摩尔％的式(II)的结构单元，和(iii)5至50摩尔％的至少一种选自由式(III)和(IV)组成的组的结构单元。本发明组合物适用于使用ArF、KrF等的受激准分子激光平版印刷，并显示了各种显著的光刻胶性能，特别地，赋予因此得到的光刻胶图案更好的有效敏感度和清晰度，且尤其是，赋予优异的图案形状和优异的线边缘粗糙度。
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公开(公告)号：CN101003591B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200610168220.0
申请日：2006-12-26
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C08F220/38 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08J3/075
Abstract: 本发明提供一种树脂，该树脂通过照射产生酸并且是有机阳离子和阴离子聚合物的盐，其中阴离子聚合物没有碳-碳不饱和键。本发明还提供包含该树脂的化学放大光刻胶组合物。
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公开(公告)号：CN101747310A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910211961.6
申请日：2009-12-08
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07D311/96 , C07D311/64 , C07D311/60 , G03F7/039
CPC classification number: C07D311/02 , C07D311/96 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供了由式(I)表示的化合物以及含有该化合物的化学增幅光刻胶组合物：其中P1、P2、P3、P4和P5各自独立地表示氢原子等，而选自由R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9组成的组中的至少一个是由式(II)表示的基团：其中X1和X2各自独立地表示氢原子等，n表示1～4的整数，Z1表示C1-C6烷基等，并且环Y表示脂环烃基，而其余的各自独立地表示氢原子、C1-C6烷基或羟基。
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公开(公告)号：CN1645254B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200510004738.6
申请日：2005-01-18
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , Y10S430/115 , Y10S430/122
Abstract: 本发明提供了一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含：(A)一种树脂和(B)一种酸生成剂，所述的树脂包含(i)5至50摩尔％的式(I)的结构单元、(ii)5至50摩尔％的式(II)的结构单元，和(iii)5至50摩尔％的至少一种选自由式(III)和(IV)组成的组的结构单元。本发明组合物适用于使用ArF、KrF等的受激准分子激光平版印刷，并显示了各种显著的光刻胶性能，特别地，赋予因此得到的光刻胶图案更好的有效敏感度和清晰度，且尤其是，赋予优异的图案形状和优异的线边缘粗糙度。
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公开(公告)号：CN101638374A
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200910165057.6
申请日：2009-07-24
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C309/70 , C07D309/12 , C07C303/28 , C08F222/24 , C08F220/18 , C08F122/24 , G03F7/004
Abstract: 一种由结构式(I)表示的肟类化合物，其中，Y代表未被取代的或被取代的n价C6-C14芳烃基，n代表1至6的整数，R1代表C1-C30脂肪烃基等，R2代表直链或支链C1-C20脂肪烃基等，W代表-CO-O-等，Q1和Q2各自独立地代表氟原子等，Z代表C1-C20卤代脂肪烃基等。本文还公开了包含该化合物的抗蚀剂组合物。
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公开(公告)号：CN101353319A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810134030.6
申请日：2008-07-22
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 武元一树
IPC: C07C381/12 , C07C22/00 , C07C309/12 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C07C381/12 , C07C309/10 , C07C309/12 , C07C2603/74 , C07D317/72 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
Abstract: 本发明公开适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物。本发明提供一种由式(I)表示的盐，其中，Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1－C6全氟烷基，T表示亚甲基或羰基，R表示被选自C1－C4烷基、C1－C4烷氧基、羟基、羟甲基、氰基和桥氧基中的至少一个取代的金刚烷基，而A+表示有机抗衡离子。本发明还提供含有由上述式(I)表示的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
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公开(公告)号：CN101021683B
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN200710079265.5
申请日：2007-02-13
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供了化学放大光刻胶组合物，其包含：树脂(A)，其不含有氟原子，而含有具有酸不稳定基团的结构单元(a1)；树脂(B)，其含有具有含氟基团的结构单元(b2)和选自具有酸不稳定基团的结构单元(b1)、具有羟基的结构单元(b3)和具有内酯结构的结构单元(b4)的至少一种结构单元；和产酸剂。
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