一种电子枪束斑性能的测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN111308542A

    公开(公告)日:2020-06-19

    申请号:CN202010127806.2

    申请日:2020-02-28

    IPC分类号: G01T1/29

    摘要: 本发明公开了一种电子枪束斑性能的测量装置及测量方法,测量装置包括荷电控制电子枪、精密位移台、法拉第杯、皮安表、计算机。基于法拉第杯小孔扫描进行测量,获得束斑直径大小、束斑分布特性图、电子束发散角等电子束束斑性能的重要参数,以实现对电子束束斑全面、准确、深入地分析,进而能够准确判断电子枪产生的电子束是否满足使用要求,并对电子枪的结构设计优化和安装调试起到指导作用。

    一种基于电声效应的电子束增材制造原位检测方法和装置

    公开(公告)号:CN109001239A

    公开(公告)日:2018-12-14

    申请号:CN201810993529.6

    申请日:2018-08-29

    摘要: 本发明公开了一种基于电声效应的电子束增材制造原位检测方法和装置,属于增材制造技术领域。利用脉冲电子束与工件表面相互作用后获得工件表面形貌特征,同时脉冲电子束与工件表面相互作用后产生的热波沿工件表面向工件内部传导形成声波,通过在工件下方增加换能器接收声波实现电声信号探测,获得工件内部分层结构特征;所述检测装置包括二次电子或背散射电子检测系统、电声信号检测系统、电声信号检测系统、信号发生器和数字扫描发生器。利用本发明提供的方法和装置用于检测增材制造过程中工件的表面形貌特征和内部分层结构特征,监控制造品质;所述检测装置尺寸小,结构简单,耦合性好,不会额外增加成本和复杂性。

    大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN105140088B

    公开(公告)日:2017-10-17

    申请号:CN201510440961.9

    申请日:2015-07-24

    IPC分类号: H01J35/14

    摘要: 本发明公开了大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置及其使用方法,包括聚光镜模块、过渡段模块、可动光阑模块、物镜模块和电子束通道;电子枪发射出的电子束经过聚光镜模块,在由聚光镜模块形成的磁场作用下,形成平行束;经过过渡段模块后,通过移动可动光阑,选择可动光阑上合适的通光孔调节靶面电子束的入射角,改变靶平面处的束流大小和束斑尺寸。该聚焦装置的使用方法,包括步骤一、设置初始条件和性能指标;步骤二、设置物镜模块参数;步骤三、设置聚光镜模块的参数,实现平行工作模式;步骤四、实现电子束束流间的快速切换,在靶面处形成大束流微束斑;优点在于:采用平行模式,无电子束交叉点,降低了电子间库仑力效应。

    一种计量型扫描电子显微镜成像控制系统及扫描成像方法

    公开(公告)号:CN102680741A

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201210158927.9

    申请日:2012-05-21

    IPC分类号: G01Q30/02 G01B11/03

    摘要: 一种计量型扫描电子显微镜成像控制系统及扫描成像方法,其控制器(1)产生控制二维柔性铰链扫描台(2)的X方向和Y方向的移动信号,经X向和Y向高压驱动器(7、8)的放大后,控制二维柔性铰链扫描台实现X方向的扫描运动和Y方向的步进移动。X方向激光传感器(3)和Y方向激光传感器(4)采集二维柔性铰链扫描台(2)的位置信号。在二维柔性铰链扫描台(2)逐点移动过程中,信号检测模块(6)完成来自二次电子探测器(5)的二次信号的模数转换,以及来自X方向及Y方向激光传感器(3、4)位置信息的锁存处理功能。通过上述基于扫描台移动方式的逐点扫描成像方法获得的扫描图像中的每个像素点都具有位置坐标信息,最终实现可溯源的,具有纳米级计量精度的扫描电子显微镜成像方法。

    电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统

    公开(公告)号:CN1888979A

    公开(公告)日:2007-01-03

    申请号:CN200510012023.5

    申请日:2005-06-28

    IPC分类号: G03F7/20 G03F9/00 H01L21/027

    摘要: 电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统,包括CPLD逻辑电路模块(1)、X方向高速光电隔离模块(2)、Y方向高速光电隔离模块(3)、X方向16位高速高精度数模转换模块(4)、Y方向16位高速高精度数模转换模块(5)、X方向输出极性控制模块(6)、Y方向输出极性控制模块(7)、X方向衰减匹配器(8)、Y方向衰减匹配器(9)。电子束曝光过程中样片X方向位置误差信号和Y方向位置误差信号分别通过独立的16位数据线与CPLD逻辑电路模块(1)连接,经过运算和转化,最终在输出端口上得到X方向和Y方向的偏转电压信号。此信号导入到电子束曝光机的偏转线圈控制电路,控制电子束曝光机的聚焦电子束的扫描位置实现对样片步进误差的动态补偿。

    一种具有静电消除功能的电子束加工装置

    公开(公告)号:CN113163564B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202110482771.9

    申请日:2021-04-30

    IPC分类号: H05F3/04 B08B7/00

    摘要: 一种具有静电消除功能的电子束加工装置,属于电子束加工设备技术领域。包括壳体,内部形成加工待加工品的加工空间;加工用电子枪,与加工空间相连通,加工用电子枪用于向待加工品发射第一电子束;静电消除装置,与加工空间相连通,静电消除装置用于向待加工品发射第二电子束;第二电子束使待加工品产生的电荷与第一电子束使待加工品产生的电荷相抵消。本发明当加工用电子枪发射第一电子束对待加工品进行加工后,第一电子束会导致待加工品表面出现静电积累,使用静电消除装置向待加工品发射第二电子束,第二电子束使待加工品产生的电荷能够与第一电子束使待加工品产生的电荷相抵消,从而消除待加工品的静电,进而保证加工的良品率。

    一种小型荷电控制电子枪
    28.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111489947B

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202010320989.X

    申请日:2020-04-22

    IPC分类号: H01J37/073 H01J1/304

    摘要: 本发明涉及一种小型荷电控制电子枪。该电子枪包括:阴极、栅极、阳极、阴极输出电极和栅极输出电极;所述阴极固定在所述栅极上方,所述阴极与所述栅极之间相互绝缘;所述栅极固定在所述阳极上方,所述栅极与所述阳极之间相互绝缘;所述阴极上连接所述阴极输出电极,所述栅极上连接所述栅极输出电极,所述阴极输出电极和所述栅极输出电极均与外接电源装置连接,所述阳极接地;通过调节所述外接电源装置的电压对所述电子枪产生的电子束的质量进行调节;所述电子枪的直径不大于20mm,所述电子枪的高度不大于21mm。本发明可以实现电子束的控制调节,且体积小,不占用空间。

    一种多束电子束束斑的测量装置及方法

    公开(公告)号:CN115206756A

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202210842745.7

    申请日:2022-07-18

    IPC分类号: H01J37/244

    摘要: 本发明涉及多束电子束束斑测量技术领域,提供了一种多束电子束束斑的测量装置及方法,该装置包括真空腔室以及形成于真空腔室内的多束电子束,至少包括:刀口件,可移动的设置在真空腔室内,且位于多束电子束的照射路径上,刀口件上具有适于电子束通过的刀口,刀口件能够在移动过程中对多束电子束中的至少部分电子束进行遮挡;电子束收集结构,位于真空腔室内,且位于刀口件的下游,适于收集从刀口射出的电子束,并将其转化为电信号;数据处理模块,与电子束收集结构信号连接,适于接收电信号,并根据电信号获取各个电子束的束斑分布与束斑大小。该测量装置,可以获取各个电子束的束斑分布与束斑大小,满足观察和测量的需求。

    一种电子束参数测量装置及电子束参数测量方法

    公开(公告)号:CN115166810A

    公开(公告)日:2022-10-11

    申请号:CN202210786535.0

    申请日:2022-07-04

    IPC分类号: G01T1/29

    摘要: 本发明涉及电子束测量技术领域,具体涉及一种电子束参数测量装置及电子束参数测量方法。一种电子束参数测量装置,包括:微器件阵列结构多层板,所述多层板上设有多个阵列分布的法拉第杯组件,每个所述法拉第杯组件包括同轴设置的至少两个法拉第杯,至少两个所述法拉第杯贯通设置,电子束经上层所述法拉第杯射入下层所述法拉第杯中,获取每层所述法拉第杯的电子束束流大小,以得到所述电子束的相应参数。本发明提供了一种可快速测量的电子束参数测量装置及电子束参数测量方法。