- 专利标题: 大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置及其使用方法
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申请号: CN201510440961.9申请日: 2015-07-24
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公开(公告)号: CN105140088B公开(公告)日: 2017-10-17
- 发明人: 李文萍 , 刘俊标 , 韩立 , 霍荣岭 , 初明璋 , 殷伯华 , 薛虹 , 陈志琪
- 申请人: 北京航空航天大学 , 中国科学院电工研究所
- 申请人地址: 北京市海淀区学院路37号;
- 专利权人: 北京航空航天大学,中国科学院电工研究所
- 当前专利权人: 北京航空航天大学,中国科学院电工研究所
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区学院路37号;
- 代理机构: 北京永创新实专利事务所
- 代理商 赵文利
- 主分类号: H01J35/14
- IPC分类号: H01J35/14
摘要:
本发明公开了大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置及其使用方法,包括聚光镜模块、过渡段模块、可动光阑模块、物镜模块和电子束通道;电子枪发射出的电子束经过聚光镜模块,在由聚光镜模块形成的磁场作用下,形成平行束;经过过渡段模块后,通过移动可动光阑,选择可动光阑上合适的通光孔调节靶面电子束的入射角,改变靶平面处的束流大小和束斑尺寸。该聚焦装置的使用方法,包括步骤一、设置初始条件和性能指标;步骤二、设置物镜模块参数;步骤三、设置聚光镜模块的参数,实现平行工作模式;步骤四、实现电子束束流间的快速切换,在靶面处形成大束流微束斑;优点在于:采用平行模式,无电子束交叉点,降低了电子间库仑力效应。
公开/授权文献
- CN105140088A 大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置及其使用方法 公开/授权日:2015-12-09