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公开(公告)号：CN107922737A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680049027.7
申请日：2016-08-25
CPC classification number: C09D183/06 , C08J5/18 , C08K5/00 , C08K5/15 , C08L83/04 , C08L83/06 , C08L2203/206 , C08L2312/00 , C09D183/04 , H01L27/32 , H01L27/323 , H01L51/00 , H01L51/0097 , H01L51/52 , H01L51/5281 , H01L2251/5338
Abstract: 本发明提供：一种用于窗膜的组合物、由所述组合物形成的窗膜以及包括所述窗膜的可挠性显示器，用于窗膜的组合物含有包含以下化学式1的硅树脂、交联剂及引发剂。＜化学式1＞(R1SiO3/2)x(SiO3/2-Q-SiO3/2)y(R2SiO3/2)z(在化学式1中，R1及R2分别独立地为环脂肪族环氧基、含环脂肪族环氧基的官能基、缩水甘油基或含缩水甘油基的官能基；Q为R3或-A1-T-A2-；R3为经取代或未经取代的C1到C10亚烷基或者经取代或未经取代的C6到C30亚芳基；A1及A2分别独立地为单键或者经取代或未经取代C1到C5亚烷基；T为单环氧烷基或聚环氧烷基、或含酰亚胺基的官能基；且0＜x＜1，0＜y＜1，0≤z＜1，x+y+z＝1)。
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公开(公告)号：CN107849298A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680043766.5
申请日：2016-07-22
Abstract: 本发明提供一种窗膜组合物、由窗膜组合物形成的可挠性窗膜以及一种包含可挠性窗膜的可挠性显示装置，所述组合物包含：交联剂，由RX-X-Z-Y-RY表示(RX及RY分别独立地表示缩水甘油基、含缩水甘油基的官能基、脂环族环氧基或含脂环族环氧基的官能基)；含环氧基的硅氧烷树脂；以及引发剂。
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公开(公告)号：CN105646880A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201510846724.2
申请日：2015-11-27
CPC classification number: G06F3/0412 , B32B27/283 , B32B2307/40 , B32B2307/536 , B32B2307/71 , C08G77/14 , C08L2312/06 , C09D183/06 , G02B1/04 , G02B1/14 , G02B5/3033 , G06F1/1652 , G06F3/044 , G06F2203/04102 , C08L83/04
Abstract: 本发明提供一种窗膜用组成物、使用其制成的柔性窗膜以及包含其的柔性显示器，窗膜用组成物包含由式1、式4或式7表示的硅氧烷树脂或其混合物和起始剂。因此，本发明提供的窗膜用组成物可以获得具有优良硬度、柔性以及光学可靠性(如耐光性等)的柔性窗膜。式1(R1SiO3/2)x(R2R3SiO2/2)y式4(R1SiO3/2)x(R9SiO3/2)z式7(R1SiO3/2)x(R2R3SiO2/2)y(R9SiO3/2)z其中，式1、式4及式7与说明书中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN115572540B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202210699991.1
申请日：2022-06-20
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09D183/16 , C08G77/62 , C04B41/65
Abstract: 本发明提供一种用于形成二氧化硅层的组合物，组合物包含含硅聚合物和溶剂，其中由关系式1计算的折射率(RI)减少率小于或等于3％；由组合物制造的二氧化硅层；以及包含二氧化硅层的电子装置。在关系式1中，RI100：通过将用于形成二氧化硅层的组合物涂布在8英寸裸晶片上至7200埃厚度，且在100℃温度下烘烤3分钟，在633纳米波长处测量的折射率，且RI250：通过将用于形成二氧化硅层的组合物涂布在8英寸裸晶片上至7200埃厚度，且在250℃温度下烘烤3分钟，在633纳米波长处测量的折射率。折射率(RI)减少率(％)＝{(RI100‑RI250)/RI100}*100。
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公开(公告)号：CN115572540A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202210699991.1
申请日：2022-06-20
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09D183/16 , C08G77/62 , C04B41/65
Abstract: 本发明提供一种用于形成二氧化硅层的组合物，组合物包含含硅聚合物和溶剂，其中由关系式1计算的折射率(RI)减少率小于或等于3％；由组合物制造的二氧化硅层；以及包含二氧化硅层的电子装置。在关系式1中，RI100：通过将用于形成二氧化硅层的组合物涂布在8英寸裸晶片上至7200埃厚度，且在100℃温度下烘烤3分钟，在633纳米波长处测量的折射率，且RI250：通过将用于形成二氧化硅层的组合物涂布在8英寸裸晶片上至7200埃厚度，且在250℃温度下烘烤3分钟，在633纳米波长处测量的折射率。折射率(RI)减少率(％)＝{(RI100‑RI250)/RI100}*100。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111944320B
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202010411761.1
申请日：2020-05-15
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 公开了一种用于形成二氧化硅层的组成物、二氧化硅层及电子装置，用于形成二氧化硅层的组成物包含全氢聚硅氮烷和溶剂，其中在CDCl3中的全氢聚硅氮烷的1H‑NMR光谱中，当从N3SiH1和N2SiH2导出的波峰称为波峰1且从NSiH3导出的波峰称为波峰2时，比率(P1/(P1+P2))大于或等于0.77，且比率(PA/PB)大于或等于约1.5。P1、P2、PA及PB的定义与说明书中的定义相同。本公开可提供具有极佳层厚度均一性的二氧化硅层。
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公开(公告)号：CN112409824A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202010771243.0
申请日：2020-08-04
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09D1/00 , H01L21/316
Abstract: 提供一种用于形成二氧化硅层的组成物、由其制造的二氧化硅层以及包含二氧化硅层的电子器件，组成物包含含硅聚合物和溶剂，其中当将70克的用于形成二氧化硅层的组成物添加到100毫升容器，在40℃下使其静置28天，且获得由组成物产生的1毫升的气体时，1毫升的气体包含氢气、硅烷气体SiH4以及氨气，且氢气、硅烷气体SiH4以及氨气满足等式1：[等式1](氢气量(ppm))/(硅烷气体SiH4的量(ppm)+氨气量(ppm))≥1.5本申请能使二氧化硅层内部的空隙的数目最小。
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公开(公告)号：CN107849298B
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201680043766.5
申请日：2016-07-22
Abstract: 本发明提供一种用于窗膜的组合物、一种可挠性窗膜以及一种可挠性显示装置，所述组合物包含：交联剂，由Rx‑X‑Z‑Y‑RY表示，Rx及RY分别独立地表示缩水甘油基、含缩水甘油基的官能基、脂环族环氧基或含脂环族环氧基的官能基；含环氧基的硅氧烷树脂；以及引发剂。本发明的用于窗膜的组合物可实现具有高硬度及良好可挠性的可挠性窗膜。
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公开(公告)号：CN105646880B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201510846724.2
申请日：2015-11-27
Abstract: 本发明提供一种窗膜用组成物、使用其制成的柔性窗膜以及包含其的柔性显示器，窗膜用组成物包含由式1、式4或式7表示的硅氧烷树脂或其混合物和起始剂。因此，本发明提供的窗膜用组成物可以获得具有优良硬度、柔性以及光学可靠性(如耐光性等)的柔性窗膜。式1：(R1SiO3/2)x(R2R3SiO2/2)y、式4：(R1SiO3/2)x(R9SiO3/2)z、式7：(R1SiO3/2)x(R2R3SiO2/2)y(R9SiO3/2)z；其中，式1、式4及式7与与说明书中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN107567482A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201680024012.5
申请日：2016-04-22
IPC: C08L83/06
Abstract: 提供一种用于窗膜的组合物、一种由其形成的可挠性窗膜以及一种包括其的可挠性显示装置，所述用于窗膜的组合物包含：第一硅酮树脂，包含化学式1；第二硅酮树脂，含有可交联官能基、以及Q单元及桥接单元中的一个或多个；交联剂；以及引发剂。 (R1SiO3/2)x(R2R3SiO2/2)y(R4R5R6SiO1/2)z(其中R1为环氧基或含环氧基的官能基，R2与R3分别独立地为氢、可交联官能基、未经取代或经取代的C1-C20烷基、或者未经取代或经取代的C5-C20环烷基；R4、R5及R6分别独立地为氢、可交联官能基、未经取代或经取代的C1-C20烷基、未经取代或经取代的C5-C20环烷基、或者未经取代或经取代的C6-C30芳基；R4、R5及R6中的一个或多个为可交联官能基；0＜x≤1；0≤y＜1；0≤z＜1；且x+y+z＝1)。
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