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公开(公告)号：CN1673861B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200510056001.9
申请日：2005-03-21
申请人： 住友化学株式会社
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： 本发明提供一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含：树脂，所述的树脂含有具有酸不稳定基团的结构单元且其本身不溶于或难溶于碱性水溶液且通过酸的作用而变成在碱性水溶液中可溶的；酸生成剂；和式(C-1)的化合物：其中R1和R2各自独立地表示氢或含有1至4个碳原子的烷基，R3、R4和R5各自独立地表示氢或羟基。
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公开(公告)号：CN102096321A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010568163.1
申请日：2010-11-29
申请人： 信越化学工业株式会社
CPC分类号： G03F7/038 , G03F1/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/20 , Y10S430/111
摘要： 本发明是一种负型光阻组合物，其至少含有：(A)为碱可溶性且可由于酸的作用而变为碱不溶性的基础聚合物；(B)产酸剂；及(C)碱性成分；其特征在于：所述基础聚合物至少含有一高分子化合物，该高分子化合物含有由下述通式(1)及下述通式(2)所表示的重复单元，且重量平均分子量为1,000～10,000。根据本发明，可提供一种在形成微细图案时不易产生桥接，且能够赋予高解像性的负型光阻组合物及使用此负型光阻组合物的图案形成方法，
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公开(公告)号：CN101432139B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200780014819.1
申请日：2007-04-12
申请人： 伊斯曼柯达公司
IPC分类号： B41C1/10 , B41M5/36 , G03F7/038 , G03F7/039 , C08F220/52 , C08F220/36
CPC分类号： B41M5/368 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , C08F220/06 , C08F220/36 , C08F220/54 , C08F220/58 , C08F222/40 , G03F7/0212 , G03F7/0233 , G03F7/033 , G03F7/0382 , Y10S430/111 , Y10T428/24802
摘要： 单或多层平版印刷板前体包括在基材上的辐射敏感性涂层，该辐射敏感性涂层包含可溶或可分散在碱性水溶液中的并且包含衍生自相应烯属不饱和可聚合单体的(甲基)丙烯基重复单元、酰亚胺重复单元和酰胺重复单元的共聚物；该共聚物为该平版印刷板前体提供提高的耐化学品性，该平版印刷板前体可以是负性工作或正性工作的。
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公开(公告)号：CN101116036B
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN200580047853.X
申请日：2005-12-21
申请人： 三养EMS株式会社
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0751 , G03F7/40 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/115
摘要： 公开了一种用于液晶显示器的正性光致抗蚀剂组合物。本发明的正性光致抗蚀剂组合物含有3-50重量％的具有特定结构的粘结剂树脂，2-40重量％的光敏化合物和10-95重量％的有机溶剂。由于该组合物具有优良的基本物理性能如UV透射率、膜保持性、图形稳定性和耐化学药品性等以及优良的耐热性能，本发明的正性光致抗蚀剂组合物能够用于形成液晶显示器的有机绝缘体、金属图形、隆起处、钻孔和UV保护层的图形。
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公开(公告)号：CN101370660B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200780002943.6
申请日：2007-01-09
申请人： 伊斯曼柯达公司
CPC分类号： B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
摘要： 阳图制版可成像元件包含辐射吸收化合物和在具有亲水性表面的底材上的内层和外层。内层包含可使用碱性显影剂移除且包含主链和由以下结构(Q)表示的附接基团的聚合物材料，其中L1、L2和L3独立地表示连接基团，T1、T2和T3独立地表示端基，且a、b和c独立地为0或1。所述可成像元件具有改善的耐显影和印刷化学品和溶剂性。
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公开(公告)号：CN101296798B
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200680039959.X
申请日：2006-10-16
申请人： 伊斯曼柯达公司
CPC分类号： B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
摘要： 正片型可成像元件包含内层和外层及辐射吸收化合物，例如IR吸收染料。内层包括可使用碱性显影剂去除的聚合材料。油墨接受性外层在暴露在成像辐射之前不能使用碱性显影剂去除。该外层包括具有在曝光过程中基本不反应的环氧侧基的聚合物基料。
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公开(公告)号：CN1976913B
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200580021369.X
申请日：2005-08-24
申请人： 中央硝子株式会社
IPC分类号： C07D311/94 , C08F20/28 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C07D311/00 , G03F7/0046 , Y10S430/111
摘要： 本发明涉及新的第1-第4内酯化合物。第1内酯化合物用式(1)表示，[化18]式中，X表示CH2、CH2CH2、O、S或NR1，R1表示氢原子，碳数1-10的直链状，分枝状或环状烷基，该烷基的氢的一部分或全部可以用氟原子取代，此外，烷基的一部分也可以含有具有氧原子、硫原子、氮原子、碳-碳双键、羰基、羟基或羧基的原子团。
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公开(公告)号：CN1696828B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200510070438.8
申请日：2005-05-09
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： 本发明提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，它包括(A)树脂和(B)酸生成剂，而所述(A)树脂包括如下结构单元：(i)选自由式(IV)和(V)结构单元组成的组中的至少一种结构单元，(ii)式(I)的结构单元，(iii)式(II)的结构单元。本发明也提供一种式(XXI)的卤代酯衍生物以及生产该衍生物的方法。
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公开(公告)号：CN100578358C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200410098151.1
申请日：2004-08-06
申请人： 信越化学工业株式会社
CPC分类号： C08F220/18 , C08F220/26 , G03F7/0397 , Y10S430/111
摘要： 一种包含式(1)、(2)、(3)和(4)的重复单元的聚合物，其在碱性显影剂中，在酸的作用提高了溶解速率，(见右式)R1、R2、R3和R6是H或CH3，R4和R5是H或OH，X是具有双环[2.2.1]庚烷框架的叔外-烷基基团，由式(X-1)-(X-4)的任一个表示：(见右式)其中R7是C1-C10烷基，Y是具有金刚烷结构的叔烷基。一种包括该创造性聚合物的抗蚀剂组合物具有对高能辐射的灵敏度，提高的分辨率和最小化的近似偏差并且采用电子束或深UV向其本身提供微图案而用于VLSI制造。
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公开(公告)号：CN100576076C
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200380107529.3
申请日：2003-12-18
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： 正性抗蚀剂组合物，它包括树脂组分(A)和酸生成剂组分(B)，所述组分(A)包括在酸作用下其碱溶性增加的可酸解溶解抑制基团，而所述组分(B)在曝光时产生酸，其中树脂组分(A)为包括衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元(a1)和衍生自含醇式羟基的(甲基)丙烯酸酯的第二结构单元(a2)的共聚物，其中在结构单元(a1)内的羟基和结构单元(a2)内的醇式羟基的总量的10摩尔%或更多以及25摩尔%或更少用可酸解溶解抑制基团保护，而共聚物用可酸解溶解抑制基团保护之前的重均分子量为2,000-8,500。
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