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公开(公告)号：CN105463394B
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201510922598.4
申请日：2012-01-06
申请人： 零件喷涂公司
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/354 , H01J37/3405 , H01J37/342 , H01J37/345 , H01J37/3452 , H01J37/347 , H01J37/3482
摘要： 本发明涉及溅射装置。在一个实施方案中，磁控组件包括多个磁体和被配置来将所述多个磁体固定在至少四个独立的线性阵列中的磁轭。将所述多个磁体布置在所述磁轭中，以便形成包括外部和内部的模式。所述外部基本上包围所述内部的周界。用于形成所述外部的所述磁体具有第一极性，且用于形成所述内部的所述磁体具有第二极性。所述模式的所述外部包括基本上彼此平行的一对细长断面。所述模式的所述外部包括一对回车道断面，其中每个回车道断面基本上跨越所述一对细长断面的相应端，且其中每个回车道断面包括具有所述第一极性的多个磁体。在另一个实施方案中，磁控组件包括磁轭和多个磁体，所述多个磁体可配置地放置在所述磁轭上，以便形成具有至少一个梯级回车道断面的跑道模式。
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公开(公告)号：CN102953038B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201210293401.1
申请日：2012-08-16
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： C23C14/35
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/3407 , H01J37/3405 , H01J37/3423 , H01J37/3482
摘要： 本发明公开了一种溅射靶，该溅射靶包括平坦垫板和形成在该平坦垫板上方的靶材料，并且包括具有较厚部分和较薄部分的不平坦溅射表面，并且与诸如具有固定磁体装置的磁控溅射工具的溅射装置结合在一起进行配置。将不平坦表面为与由磁体装置生成的磁场结合在一起进行设计，以将较厚溅射靶部分设置在溅射靶侵蚀发生速度高的位置。还提供了一种磁控溅射系统，以及一种方法，该方法用于应用具有不平坦溅射表面的溅射靶的方法，使得使用靶的过程中将溅射靶上的厚度变得更加均匀。本发明还提供了一种具有逆向侵蚀轮廓表面的溅射靶、溅射系统、及其使用方法。
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公开(公告)号：CN101268332B
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN200680034761.2
申请日：2006-07-19
申请人： 普莱克斯技术有限公司
CPC分类号： C23C14/34 , G01B17/025 , H01J37/3408 , H01J37/3482
摘要： 在物理气相沉积过程中实时监控溅射靶(24)表面区域的腐蚀的方法和设备，包括：包含支撑板(34)和溅射靶(24)的溅射靶组件(30)，溅射靶有一个被溅射而沉积薄膜到一个基底上的表面区域；设置在支撑板背部的至少一个换能器(32)，用来发射、传播和接收所述溅射靶的整个表面的多模超声波；脉冲发生器/接收器(40)，用来提供和接收来自该至少一个换能器的电压；示波器(42)，用来记录超声波信号；以及程序逻辑装置(44)，用来确定靶上不同位置处的腐蚀的深度，并且当达到预定的腐蚀量时替换溅射靶。
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公开(公告)号：CN101268332A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200680034761.2
申请日：2006-07-19
申请人： 普莱克斯技术有限公司
CPC分类号： C23C14/34 , G01B17/025 , H01J37/3408 , H01J37/3482
摘要： 在物理气相沉积过程中实时监控溅射靶(24)表面区域的腐蚀的方法和设备，包括：包含支撑板(34)和溅射靶(24)的溅射靶组件(30)，溅射靶有一个被溅射而沉积薄膜到一个基底上的表面区域；设置在支撑板背部的至少一个换能器(32)，用来发射、传播和接收所述溅射靶的整个表面的多模超声波；脉冲发生器/接收器(40)，用来提供和接收来自该至少一个换能器的电压；示波器(42)，用来记录超声波信号；以及程序逻辑装置(44)，用来确定靶上不同位置处的腐蚀的深度，并且当达到预定的腐蚀量时替换溅射靶。
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