公开(公告)号：CN101846885B

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：CN200910168480.1

申请日：2009-08-26

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈政宏 ,  林世杰 ,  林本坚

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70275 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/31762

Abstract: 本发明提供一种无掩膜光刻设备及图案化多个基材的方法。此设备包括多个写入腔室，每一写入腔室包括：一晶圆座，用以固持一待写入晶圆；以及一多波束模块，用以提供多道辐射束以对该晶圆进行写入；一接口，可在每一该些写入腔室与一阻剂涂布显影机之间传输该晶圆，以处理该晶圆的一影像层；以及一数据路径，可提供一组电路图案数据给每一该些写入腔室中该多道辐射束中的每一道辐射束。

公开(公告)号：CN101846885A

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200910168480.1

申请日：2009-08-26

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈政宏 ,  林世杰 ,  林本坚

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70275 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/31762

Abstract: 本发明提供一种无掩膜光刻设备及图案化多个基材的方法。此设备包括多个写入腔室，每一写入腔室包括：一晶圆座，用以固持一待写入晶圆；以及一多波束模块，用以提供多道辐射束以对该晶圆进行写入；一接口，可在每一该些写入腔室与一阻剂涂布显影机之间传输该晶圆，以处理该晶圆的一影像层；以及一数据路径，可提供一组电路图案数据给每一该些写入腔室中该多道辐射束中的每一道辐射束。

公开(公告)号：CN100364049C

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：CN200510063188.5

申请日：2005-04-05

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 中杉哲郎

IPC: H01L21/027 ,  G03B7/20 ,  H01J37/00

CPC classification number: H01J37/3175 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31762

Abstract: 本发明提供一种电子束描绘系统，它具备：根据决定的处理顺序使用多个孔径掩模对多个批次按顺序描绘的描绘工具；管理所述多个孔径掩模的孔径管理工具；取得所述多个批次的处理请求的请求取得模块；存储分别与所述多个批次有关的处理步骤的处理步骤存储部；处理时间计算模块，其分别计算出根据所述处理步骤、使用分别与所述批次对应的所述孔径掩模来分别处理所述多个批次的处理时间；和根据所述处理时间决定所述多个批次的处理顺序的处理顺序决定模块。

公开(公告)号：CN1251119C

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：CN01815170.1

申请日：2001-06-29

Applicant: 凸版光掩膜公司

Inventor： T·T·科格德尔 ,  J·S·彻普 ,  J·E·根特里

IPC: G06F17/30

CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F1/68 ,  G06Q30/02 ,  G06Q30/04 ,  G06Q30/0603 ,  G06Q50/04 ,  H01J2237/31762 ,  Y02P90/30

Abstract: 一种用于根据顾客输入的光掩模规格数据而生成用在光掩模制造设备的指令的计算机网络。通常通过互联网连接将一系列订单输入屏下载到远程顾客的计算机上。该顾客被提示要输入光掩模规格数据，该光掩模规格数据被交付到制造商的本地网络的计算机设备中。该制造商的计算设备验证光掩模规格数据，并使用该数据来生成断裂指令和设备控制指令。该断裂指令与来自顾客的图形设计数据一起被发送到断裂机，它用于提供断裂图形数据。然后，可以把该控制指令和断裂图形数据电子交付到该制造设备。

公开(公告)号：CN1160762C

公开(公告)日：2004-08-04

申请号：CN00123809.4

申请日：2000-08-18

Applicant: 恩益禧电子股份有限公司

Inventor： 宫坂满美

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F1/20 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/50 ,  G03F1/84 ,  G03F1/86 ,  H01J37/3175 ,  H01J2237/31761 ,  H01J2237/31762 ,  H01J2237/31794

Abstract: 一种电子束曝光掩模包括主掩模和一个或多个补偿掩模。所述主掩模包括多个第一限定掩模。补偿掩模包括一个或多个无缺陷第二限定掩模，每个第二限定掩模具有按所述第一限定掩模中有缺陷的掩模形成的图形构形。在利用该电子束曝光掩模进行曝光时，只要第一限定掩模没有缺陷，则使用第一限定掩模，在第一限定掩模有缺陷时，使用对应于第一限定掩模的第二限定掩模。

公开(公告)号：CN1452749A

公开(公告)日：2003-10-29

申请号：CN01815170.1

申请日：2001-06-29

Applicant: 杜邦光掩公司

Inventor： T·T·科格德尔 ,  J·S·彻普 ,  J·E·根特里

IPC: G06F17/30

CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F1/68 ,  G06Q30/02 ,  G06Q30/04 ,  G06Q30/0603 ,  G06Q50/04 ,  H01J2237/31762 ,  Y02P90/30

Abstract: 一种用于根据顾客输入的光掩模规格数据而生成用在光掩模制造设备的指令的计算机网络。通常通过互联网连接将一系列订单输入屏下载到远程顾客的计算机上。该顾客被提示要输入光掩模规格数据，该光掩模规格数据被交付到制造商的本地网络的计算机设备中。该制造商的计算设备验证光掩模规格数据，并使用该数据来生成蚀刻指令和设备控制指令。该蚀刻指令与来自顾客的图形设计数据一起被发送到蚀刻机，它用于提供蚀刻图形数据。然后，可以把该控制指令和蚀刻图形数据电子交付到该制造设备。