公开(公告)号：CN115398609A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202180024782.0

申请日：2021-03-15

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 阵田敏行

IPC: H01L21/60

Abstract: 本发明提供转印装置和转印装置的位置校正方法，能够在不累计测定误差的情况下，对以激光的照射位置为基准的转印基板保持部的位置、被转印基板保持部的位置以及元件测定摄像头的位置进行测定。具体而言，转印装置(1)具备激光照射部(2)、转印基板保持部(6)、被转印基板保持部(10)、元件测定摄像头(14)、保持部测定摄像头(16)以及控制部(18)，将保持于转印基板(C1)的元件转印到被转印基板(C2)。转印基板保持部(6)具有转印基板用基准标记(9b)，被转印基板保持部(10)具有标注在荧光玻璃上的被转印基板用基准标记(13b)。元件测定摄像头(14)构成为能够拍摄转印基板用基准标记(9b)和被转印基板用基准标记(13b)，保持部测定摄像头(16)构成为能够同时拍摄向荧光玻璃照射了激光(L)时的荧光发光点(F)和被转印基板用基准标记(13b)。

公开(公告)号：CN115121401A

公开(公告)日：2022-09-30

申请号：CN202210293176.5

申请日：2022-03-24

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 盐田智广 ,  浅井一夫

IPC: B05B12/16 ,  B05B13/04

Abstract: 本发明提供喷墨涂布装置，抑制涂布条纹的产生。喷墨涂布装置具备：载置基材(7)的载物台(15)；具有多个对基材(7)喷出液滴的喷嘴(23)的头单元(20)；以及使载物台(15)和头单元(20)沿主扫描方向相对移动的移动机构(13)。头单元20具有沿着副扫描方向设置的头模块(21)，头模块(21)具有在主扫描方向上排列的多个头。头分别具有在副扫描方向上排列设置有多个的喷嘴(23)。头模块(21)所具有的多个头包括：第一头(22A‑1)，其在副扫描方向的一侧的端部具有不从喷嘴(23)喷出液滴的不喷出区域；以及第二头(22A‑2)，其在副扫描方向的另一侧的端部具有不从喷嘴(23)喷出液滴的不喷出区域。

公开(公告)号：CN115003421A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202080093813.3

申请日：2020-09-30

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 元井昌司 ,  野村和夫 ,  内田新也

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  H01M4/04

Abstract: 本发明提供一种能够形成涂布开始部和涂布结束部的膜厚的偏差少的涂布膜的涂布装置和涂布方法。具体而言，涂布装置具有：供给阀(41)，从供给机构(20)向该供给阀(41)的入口侧供给涂布液(3)，该供给阀(41)的出口侧与模头(10)连接，内部的阀芯(42)的位置根据轴的动作而变化，能够对该供给阀(41)的形成涂布液(3)的流路的打开状态和切断涂布液(3)的流路的关闭状态这2个状态进行切换控制；以及回流阀(51)，从供给机构(20)向该回流阀(51)的入口侧供给涂布液(3)，该回流阀(51)的出口侧与使涂布液(3)向罐(22)返回的配管即回流配管(24)连接，内部的阀芯(52)的位置根据轴的动作而变化，能够对该回流阀(51)的形成涂布液(3)的流路的打开状态和切断涂布液(3)的流路的关闭状态这2个状态进行切换控制，使供给阀(41)的阀芯(42)移动的驱动源为马达方式，使回流阀(51)的阀芯(52)移动的驱动源为气动方式，供给阀(41)的阀芯(42)的移动速度比回流阀(51)的阀芯(52)的移动速度快。

公开(公告)号：CN114901588A

公开(公告)日：2022-08-12

申请号：CN202080092107.7

申请日：2020-12-14

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 池田宗和 ,  平田肇

IPC: B82B1/00 ,  B32B3/30 ,  B32B5/02 ,  B32B9/00 ,  B32B27/12 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01G9/02 ,  D01F9/08

Abstract: 本发明提供在基材上直接生长有纳米线的带纳米线的膜、以及使纳米线在基材上直接生长的纳米线的制造方法。具体而言，带纳米线的膜具备由结晶性树脂构成的基材和在基材上直接生长的由金属氧化物构成的纳米线，在基材的表面形成微细的凹凸结构，使纳米线从该凹凸结构直接生长。另外，具备由非晶态的树脂构成的基材、和在基材上直接生长的由金属氧化物构成的纳米线，在基材的表面形成间距为2～100nm、深度为5～30nm的微细的凹凸结构，使纳米线从该凹凸结构直接生长。

公开(公告)号：CN110997159B

公开(公告)日：2022-05-03

申请号：CN201880051608.3

申请日：2018-07-31

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 北岛贤司 ,  元井昌司 ,  野村和夫 ,  藤田和彦

IPC: B05C5/02 ,  B05D1/26 ,  H01M4/04

Abstract: 本发明的课题在于，涂敷不产生涂敷条纹的涂敷膜。具体而言，提供一种涂敷装置(1)，其特征在于，具备：模具(10)，其形成有第1歧管(11)、喷出口(18)以及排出口(31、32、33、34)，所述第1歧管由在宽度方向(TD)上较长的积存涂敷液的空间构成，所述喷出口经由在该宽度方向上较广的缝隙(12)而与该第1歧管(11)相连，并对基材(2)喷出涂敷液(3)，在所述缝隙(12)的、所述第1歧管(11)与所述喷出口(18)之间的所述宽度方向上设置有多个所述排出口，所述排出口使涂敷液流出；以及供给单元(20)，其从与所述第1歧管(11)连通的流入部(16)向所述第1歧管(11)供给涂敷液，所述排出口(31、32、33、34)在所述缝隙(12)侧的开口部截面为所述宽度方向(TD)上的尺寸比与所述宽度方向(TD)垂直的方向上的尺寸长的宽幅形状。

公开(公告)号：CN114222909A

公开(公告)日：2022-03-22

申请号：CN202080057347.3

申请日：2020-06-09

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 仲田朋宏

IPC: G01N21/01 ,  G01N21/88 ,  G01N21/95

Abstract: 提供检查装置和方法，能够基于为了微观检查而取得的小区划的放大图像，来自动检查作为宏观检查的范畴的比较大的尺寸的损伤或污垢、异物的附着等。具体而言，在拍摄形成有重复图案的晶片的外观图像并将该拍摄到的图像与预先登记的基准图像进行比较而进行检查的晶片外观检查装置和方法中，逐次变更拍摄场所并对形成于检查对象晶片的重复图案进行分割拍摄，将分割拍摄到的图像结合而生成大尺寸的宏观检查用检查图像，然后，对该大尺寸的宏观检查用检查图像进行压缩而生成小尺寸的宏观检查用检查图像，将该小尺寸的宏观检查用检查图像与预先生成/登记的小尺寸的宏观检查用基准图像进行比较，对检查对象晶片进行宏观检查。

公开(公告)号：CN114054290A

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202110862389.0

申请日：2021-07-29

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 福岛雄悟 ,  釜谷学

IPC: B05C5/02 ,  B05C13/02

Abstract: [课题]提供一种涂布装置，其能够通过1次扫描形成涂布膜，能够抑制在涂布膜形成接缝不均。[解决手段]一种涂布装置，其使由载台单元保持的基板与涂布单元相对移动，同时从涂布单元排出涂布液，由此在基板上形成涂布膜，其中，载台单元具有使基板浮起到规定高度位置的浮起载台部、和吸附保持基板的吸附保持部，其形成为在利用吸附保持部保持浮起在浮起载台部上的基板的状态下，移动到搬入搬出基板的基板更换位置和在基板上涂布涂布液的涂布位置，吸附保持部为下述构成，其具备在与浮起载台部的移动方向正交的方向位置处吸附保持基板的第1吸附保持部、和在浮起载台部的移动方向位置处吸附保持基板的第2吸附保持部。

公开(公告)号：CN108700531B

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201780014814.2

申请日：2017-01-04

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 山本比佐史

IPC: G01N21/956 ,  H01L21/66

Abstract: 提供一种能够抑制缺陷的漏检或缺陷的误检的缺陷检查装置。具体地说，所述缺陷检查装置(100)具有控制部(50)，所述控制部(50)根据由摄像部(40)拍摄的元件芯片(70)的图像来检测元件芯片(70)的周缘区域(72)的外侧的边缘(74)和有效区域(71)，并根据所检测出的周缘区域(72)的外侧的边缘(74)和有效区域(71)来决定用于检查元件芯片(70)的缺陷的检查区域(75)，通过比较与元件芯片(70)的检查区域(75)相对应的图像和预先存储的合格的元件芯片(70)的图像来检测元件芯片(70)的缺陷。

公开(公告)号：CN111868901A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201980019450.6

申请日：2019-03-18

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 松本武士 ,  寺田胜美

IPC: H01L21/60 ,  H01L21/52

Abstract: 本发明提供工具高度调整装置，在使用了与接触芯片保持部相伴的压力变化较小的柔软部件的拾取工具中，能够准确地进行芯片保持部的高度位置调整。具体而言，提供工具高度调整装置，其具有：透明板；拍摄单元，其从所述透明板的下侧使焦点对准所述透明板上表面而取得图像；以及控制单元，其具有对所述拾取工具的上下驱动进行控制的功能、对所述拍摄单元的动作进行控制的功能以及对所述拍摄单元所取得的图像进行解析的功能，所述控制单元一边使所述芯片保持部向所述透明板方向接近，一边对所述拍摄单元所取得的图像进行解析，从而检测所述芯片保持部有效地保持所述透明板上表面的高度位置。

公开(公告)号：CN108025392B

公开(公告)日：2020-03-03

申请号：CN201680052982.6

申请日：2016-09-07

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 森英治 ,  佐桥敬一 ,  北村慎章 ,  梅田英知

IPC: B23K26/00 ,  B23K26/064

Abstract: 提供标印装置，其能够以简单结构实现高速且微细地描绘。具体而言，标印装置(1)具有：激光加工部(3)，其按照第1点径(303)和点径比第1点径(303)小的第2点径(304)对膜(100)进行标印；致动器(71)，其对激光加工部(3)的点径进行变更；以及作为部分描绘图案登记部的装置PC(7)，其对第1描绘图案(115)和第2描绘图案(117)进行登记，所述第1描绘图案(115)按照第1点径(303)描绘，是构成整体描绘图案(113)的一部分的图案，所述第2描绘图案(117)按照第2点径(304)描绘，是构成整体描绘图案(113)的一部分的图案。