静电吸盘
    11.
    发明公开
    静电吸盘 审中-实审

    公开(公告)号:CN113994462A

    公开(公告)日:2022-01-28

    申请号:CN202080036383.1

    申请日:2020-08-24

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,具备:导电性的基座板,具有第1部分和设置在所述第1部分的外周的第2部分,设置有导入冷却气体的气体导入路;第1静电吸盘部,设置在所述第1部分上,构成为可吸附晶片,具备具有连通于所述气体导入路的至少一个穿通孔的陶瓷电介体基板和内置于所述陶瓷电介体基板的第1吸附电极;及第2静电吸盘部,设置在所述第2部分上,构成为可吸附聚焦环,具备具有可导入冷却气体的至少一个穿通孔的陶瓷层,所述陶瓷层至少具有当所述聚焦环吸附于所述第2静电吸盘部时接触所述聚焦环的第1层,所述第1层的致密度构成为小于所述陶瓷电介体基板的致密度。由此,提供一种可提高设备的成品率的静电吸盘。

    静电吸盘
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110277342A

    公开(公告)日:2019-09-24

    申请号:CN201910149338.6

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量,同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘,其特征为,第1多孔质部具有:疏松部分,具有多个孔;及紧密部分,具有比疏松部分的密度更高的密度,多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸,紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间,疏松部分具有设置在孔与孔之间的壁部,在与第1方向大致正交的第2方向上,壁部的尺寸的最小值比紧密部分的尺寸的最小值更小。

    静电吸盘
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101180721A

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200680017894.9

    申请日:2006-05-23

    CPC classification number: H01L21/6831

    Abstract: 本发明提供耐等离子体性和被吸附物的冷却性能优异的静电吸盘。静电吸盘的基本的构成是,在金属板(21)表面上藉由喷镀形成有绝缘体膜(22),在该绝缘体膜(22)上经由绝缘性粘接剂层(23)接合有电介体基板(24),该电介体基板(24)的表面作为半导体晶片等的被吸附物的盛放面,而在下表面形成有电极(25,25)。

    静电吸盘及其制造方法
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118538650A

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202410172193.2

    申请日:2024-02-07

    Abstract: 静电吸盘具备:电介体基板,形成有多个第1气孔;底盘,形成有第2气孔;及接合层,设置在电介体基板和底盘之间,由绝缘性的材料形成。在电介体基板中的接合层侧的面上,形成有多个第1气孔的端部即第1开口。在底盘中的接合层侧的面上,形成有第2气孔的端部即第2开口。第2开口通过形成在底盘中的接合层侧的面上的连通槽而与多个第1开口连通。

    静电吸盘
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110277342B

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN201910149338.6

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量,同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘,其特征为,第1多孔质部具有:疏松部分,具有多个孔;及紧密部分,具有比疏松部分的密度更高的密度,多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸,紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间,疏松部分具有设置在孔与孔之间的壁部,在与第1方向大致正交的第2方向上,壁部的尺寸的最小值比紧密部分的尺寸的最小值更小。

    静电吸盘
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110277343A

    公开(公告)日:2019-09-24

    申请号:CN201910149763.5

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够提高强度。提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路;及第1多孔质部,设置于所述穿通孔,其特征为,所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域,所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域,所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触,所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。

    静电吸盘
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102782831A

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN201180012562.2

    申请日:2011-03-23

    CPC classification number: H01L21/6833 H01L21/6831 Y10T279/23

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,具备:陶瓷基板;陶瓷电介体,设置在所述陶瓷基板的上侧且具有放置被处理基板的第1主面;及电极,设置在所述陶瓷基板与所述陶瓷电介体之间,其特征为,所述陶瓷电介体的材质为陶瓷烧结体,在所述陶瓷电介体的所述第1主面上设有多个突起部与供气的槽,在所述槽的底面设有贯穿到所述第1主面相反侧的所述陶瓷基板的第2主面的通孔,所述电极和所述槽之间的距离或者与所述电极和所述第1主面之间的距离相同或者更大。

    静电吸盘
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100562983C

    公开(公告)日:2009-11-25

    申请号:CN200680017894.9

    申请日:2006-05-23

    CPC classification number: H01L21/6831

    Abstract: 本发明提供耐等离子体性和被吸附物的冷却性能优异的静电吸盘。静电吸盘的基本的构成是,在表面上藉由喷镀形成有由无机材料构成的绝缘体膜(22)、在内部形成有制冷通道的金属板(21)和在该绝缘体膜(22)上经由绝缘性粘接剂层(23)接合有电介体基板(24),所述电介体基板的所述表面中没有形成所述电极的部分与所述绝缘体膜之间也夹有所述绝缘性粘接剂,所述绝缘性粘接剂是作为填充剂含有氧化铝或氮化铝的硅酮树脂,该电介体基板(24)的表面作为半导体晶片等的被吸附物的盛放面,而在下表面形成有电极(25,25)。

Patent Agency Ranking