一种无接触式MicroLED芯片巨量转移方法及系统

    公开(公告)号:CN119342962A

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202411368434.7

    申请日:2024-09-29

    Abstract: 本发明涉及一种无接触式MicroLED芯片巨量转移方法及系统,包括以下步骤:在石英玻璃表面旋涂一层光解粘弹性材料,固化后再于光解粘弹性材料表面旋涂一层具有粘性的柔性形变材料,再次进行固化后完成第一临时衬底的制备;通过激光转移设备扫描带有MicroLED芯片的蓝宝石衬底,使氮化镓分解产生气体,推动MicroLED芯片转移至第一临时衬底上;再次通过激光转移设备扫描第一临时衬底,激光使光解粘弹性材料光解气化推动具有粘性的柔性形变材料发生形变使MicroLED芯片转移至第二临时衬底;通过转移键合设备将第二临时衬底上的MicroLED芯片热压键合至带有金属凸点的薄膜晶体管基板上。

    一种Micro-LED键合、全彩化方法及系统

    公开(公告)号:CN118867086B

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202411333248.X

    申请日:2024-09-24

    Abstract: 本发明涉及一种Micro‑LED键合、全彩化方法及系统,其中键合方法包括以下步骤:对Micro‑LED芯片的电极交替沉积顺磁性金属薄膜和铁磁性金属薄膜;对TFT基板的电极沉积单层铁磁性金属薄膜;并在TFT基板的表面对应像素点设置金属凸点阵列;对沉积好金属薄膜的Micro‑LED芯片和TFT基板进行磁化处理;将磁化处理后的Micro‑LED芯片和TFT基板放入去离子水中,进行流体磁性动态自组装;将完成流体磁性动态自组装的Micro‑LED芯片和TFT基板放入化学镀液中,使Micro‑LED芯片和TFT基板上的金属凸点自生长及互联,直至实现欧姆接触。避免Micro‑LED芯片在流体磁性动态自组装的过程中互相吸附,并通过图案化光刻胶和金属凸点实现芯片的有选择性自键合。

    新型多功能发光三极管器件的制备方法

    公开(公告)号:CN114203864A

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN202111216718.0

    申请日:2021-10-19

    Abstract: 本发明提出一种新型多功能发光三极管器件的制备方法,其在发光三极管器件的外延层生长过程中,采用多次外延生长,每次外延时通过制备介质层和湿法腐蚀的方式控制器件结构;其中,制备介质层用于控制下一次外延生长的有效区域;湿法腐蚀则用于去除介质层。工艺包括了半导体光刻、半导体外延、湿法腐蚀,通过光刻制备掩膜层、在掩膜层外区域制备介质层、去除掩膜层等制备半导体层的步骤。与现有技术相比,本发明方案解决了光刻工艺中难以保证的精度问题,减小了器件制备的难度,节约了制作成本,对于提高器件制备效率具有重要意义。

    一种μLED显示器件检测及修复方法

    公开(公告)号:CN111834389B

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202010535556.6

    申请日:2020-06-12

    Abstract: 本发明涉及一种μLED显示器件检测及修复方法,μLED显示器件阵列设置k个μLED像素,每个像素包含ni个芯片,以形成至少mi个发光体;μLED显示器件检测及修复包括以下步骤:S1)采用直接电学接触电流注入的逐点扫描或无直接电学接触的电场驱动方式对芯片进行驱动发光;S2)通过逐点扫描或拍摄处理发光图片获得不良像素的行列地址;S3)根据不良像素的行列地址进行寻址,采用非Au‑In互连方法在相应位置的芯片电极的备用区域与驱动背板对应电极的备用区域进行原位修复;S4)重复S1‑S3,直至良品率达到预期良率。该方法降低了μLED显示器件的制作难度、制作周期和制作成本,提高了μLED显示器件的良品率。

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