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公开(公告)号：CN108140572B
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN201680058403.9
申请日：2016-09-30
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/306
Abstract: 一种处理至少形成有氮化膜和氧化膜的基板的基板处理装置，所述基板处理装置具有：磷酸水溶液贮留部，其将磷酸水溶液贮留；磷酸水溶液供给部，其通过磷酸水溶液供给配管将磷酸水溶液供给至所述磷酸水溶液贮留部；二氧化硅添加剂供给部，其通过二氧化硅添加剂供给配管将二氧化硅添加剂供给至所述磷酸水溶液贮留部；水供给部，其通过水供给配管将水供给至所述磷酸水溶液贮留部；和处理部，其通过贮留在所述磷酸水溶液贮留部中的所述磷酸水溶液来处理所述基板；所述二氧化硅添加剂供给配管连接在所述水供给配管的中途，即使是使用了二氧化硅添加剂的处理，也可以用适当的二氧化硅浓度来实行基板处理。
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公开(公告)号：CN109585348A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811145205.3
申请日：2018-09-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 提供能够使生产性提高的基板处理装置以及基板处理方法。实施方式的基板处理装置具备：作为交接台发挥功能的缓冲单元(14)，具有分开地支承基板(W)的第1载置台(14a1)以及第2载置台(14a2)；以及作为输送部发挥功能的第2输送机器人(15)，具有保持基板(W)的手部(31)，从缓冲单元(14)输送基板(W)。缓冲单元(14)形成为能够实现：手部(31)从第1载置台(14a1)的上位置朝向下位置向下方向移动，将第1载置台(14a1)置于基板(W)，移动到第1载置台(14a1)的下位置的手部(31)从第1载置台(14a1)的下位置向第2载置台(14a2)的下位置横向移动，移动到第2载置台(14a2)的下位置的手部(31)从第2载置台(14a2)的下位置朝向上位置向上方向移动，从第2载置台(14a2)抬起基板(W)。
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公开(公告)号：CN109585339A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811145723.5
申请日：2018-09-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够提高生产性的基板处理装置及基板处理方法。实施方式的基板处理装置(10)具有：开闭单元(11)，作为收纳基板(W)的收纳容器发挥作用；多个处理室(17a)，用于对基板(W)进行处理；缓冲单元(14)，位于开闭单元(11)和处理室(17a)之间，作为用于放置在处理室(17a)进行了处理的基板(W)或者未处理的基板(W)的交接台发挥作用；第2输送机器人(15)，作为从缓冲单元(14)输送基板(W)的输送部发挥作用；以及移动机构(16)，根据与基板(W)的处理相关的基板处理信息，使缓冲单元(14)及第2输送机器人(15)沿多个处理室(17a)排列的列方向单独移动。
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公开(公告)号：CN104465359B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201410497873.8
申请日：2014-09-25
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 古矢正明
IPC: H01L21/304 , B05C13/00
CPC classification number: G03F7/162 , G03F7/3021 , G03F7/42 , H01L21/68728
Abstract: 一种自旋处理装置，能够抑制灰尘的发生及夹持时的基板位置的偏移。实施方式的自旋处理装置使基板旋转来进行处理，具备：至少三个夹持销，分别与基板的外周面抵接来把持基板；能够旋转的多个销旋转体，对各夹持销分别设置该销旋转体，该销旋转体将夹持销从与基板的旋转轴平行的该销旋转体本身的旋转轴偏心地进行保持；多个磁齿轮，该磁齿轮按各销旋转体分别设置在该销旋转体的外周面上，磁极沿着销旋转体的旋转轴的轴方向形成为螺旋状；多个旋转用磁铁，对各磁齿轮分别设置该旋转用磁铁，该旋转用磁铁被定位成与磁齿轮的磁极相互吸引；以及移动机构，使多个旋转用磁铁沿着销旋转体的旋转轴的轴方向移动。
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公开(公告)号：CN106024692A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610192768.2
申请日：2016-03-30
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/687
CPC classification number: H01L21/68714 , H01L2221/683
Abstract: 本发明提供能抑制产生粉尘和旋转过程中的基板位置偏移的自旋处理装置。自旋处理装置(1)具备：多个夹销(21)，利用作用力分别抵接于基板的外周面并把持基板；旋转机构即电动机(4)等，使各夹销绕着基板的外周旋转；升降机构(3h)，使固定环形磁铁沿着基板的旋转轴方向上下：变换机构(3g)，将与固定环形磁铁相斥的旋转环形磁铁的上下方向的运动变化为横向运动；同步移动机构即多个副齿轮(3e)、主齿轮(3f)等，对应于横向运动中的某一方向的运动，使各夹销同步地抵抗上述作用力而向远离基板外周面的方向移动相同的量，对应于横向运动中的另一方向的运动，使各夹销在上述作用力下同步地向靠近基板的外周面的方向移动相同的量。
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公开(公告)号：CN104425235A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410431485.X
申请日：2014-08-28
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 古矢正明
IPC: H01L21/304 , B05C13/00
CPC classification number: H01L21/67028 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/68785
Abstract: 本发明提供自旋处理装置，能够抑制朝基板侧的液体反弹并且实现装置的小型化以及轻量化。实施方式所涉及的自旋处理装置(1)具备：液体承接部(6)，以从旋转的基板(W)的外周离开并包围该旋转的基板的方式形成为环状，承接并收纳从该旋转的基板(W)飞散的液体；杯体(3)，以从该液体承接部(6)的外周离开并包围该液体承接部的方式形成为环状，且形成用于从液体承接部(6)的上表面沿着外周面产生气流的环状的外侧排气流路(A2)；以及分隔部件(7)，设置于液体承接部(6)的环内且形成为环状，形成用于从液体承接部(6)的内周面沿着下表面产生气流的环状的内侧排气流路(A1)。
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公开(公告)号：CN102956531A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210286785.4
申请日：2012-08-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种处理系统及处理方法，该处理系统具备：收纳部，收纳被处理物；处理部，对所述被处理物实施处理；承载部，在层叠方向上隔着第1间隔具有多个承载所述被处理物的保持部；第1搬送部，在所述收纳部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的第1位置进入所述承载部；及第2搬送部，在所述处理部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的与所述第1位置不同的第2位置进入所述承载部。而且，所述第1位置夹着所述第2位置在所述层叠方向上设置有2处，所述第1搬送部与所述第2搬送部可以同一时侯进入所述承载部。
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公开(公告)号：CN102310410A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110184412.1
申请日：2011-06-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 古矢正明
IPC: B25J15/00 , B25J9/00 , H01L21/687 , H01L21/677
CPC classification number: B25J15/00 , B25J11/0095 , H01L21/67766 , H01L21/67778 , H01L21/67781 , H01L21/68707 , Y10S414/141 , Y10S901/32 , Y10S901/36 , Y10S901/38 , Y10S901/39
Abstract: 本发明提供夹持装置、输送装置、处理装置和电子设备的制造方法。夹持装置具有夹持部，所述夹持部包括：第一夹持板，具有与被处理物的周向边缘抵接的第一夹持件；以及第二夹持板，具有与所述周向边缘抵接的第二夹持件，并且所述夹持部使所述第一夹持板和所述第二夹持板中的至少一个移动，以使所述第一夹持件和所述第二夹持件彼此接近或离开。夹持装置还包括：升降部，使所述夹持部升降；以及动作控制部，控制由所述夹持部进行的开闭动作和由所述升降部进行的升降动作。而且，所述动作控制部以机械方式依次控制第一升降动作、所述开闭动作和第二升降动作，所述第二升降动作与所述第一升降动作的升降方向相同。
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公开(公告)号：CN119698685A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202380059418.7
申请日：2023-09-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种多个夹紧销可同步地将基板稳定地定位于旋转中心的基板处理装置。实施方式的基板处理装置1具有：夹紧杆12，随着绕水平方向的轴的转动，使至少三个夹紧销11在远离基板W的外周端We的打开位置和与外周端We相接并对基板W进行保持的关闭位置之间移动；升降环15，随着升降使夹紧杆12转动；旋转体30，使由夹紧销11保持的基板W旋转；旋转机构40，使旋转体30绕轴Ax旋转；升降机构50，使升降环15升降；施力构件56，对夹紧杆12向处于关闭位置的方向施力；同步环61，设置成能够绕轴Ax转动且无法升降；转换机构62，将升降环15的升降转换为同步环61的转动，并且将升降环15的姿势维持为水平状态；以及供给部70，向基板W供给处理液。
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公开(公告)号：CN109585348B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN201811145205.3
申请日：2018-09-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 提供能够使生产性提高的基板处理装置以及基板处理方法。实施方式的基板处理装置具备：作为交接台发挥功能的缓冲单元(14)，具有分开地支承基板(W)的第1载置台(14a1)以及第2载置台(14a2)；以及作为输送部发挥功能的第2输送机器人(15)，具有保持基板(W)的手部(31)，从缓冲单元(14)输送基板(W)。缓冲单元(14)形成为能够实现：手部(31)从第1载置台(14a1)的上位置朝向下位置向下方向移动，将第1载置台(14a1)置于基板(W)，移动到第1载置台(14a1)的下位置的手部(31)从第1载置台(14a1)的下位置向第2载置台(14a2)的下位置横向移动，移动到第2载置台(14a2)的下位置的手部(31)从第2载置台(14a2)的下位置朝向上位置向上方向移动，从第2载置台(14a2)抬起基板(W)。
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